第 5 章 設計プロセスにおけるイタレーションと リスク・アセスメント
5.6 本章のまとめ
昨今のシステムは大規模で複雑化しており、製品設計開発においては、設計工程の効率 性、生産性、予見性の向上への取り組みと同時に、活動時間と活動コストのリスクを先読 み、その見積りと評価を行うリスク・アセスメントがますます重要となってきている。リ スク・アセスメントの研究は現在まで数多く重ねられてきた。それらの多くはクリティカ ル・パス解析によって活動時間や活動コストのリスク評価を行ったり、リスクの生起確率 を算出したりするものであった。しかし、リスク・アセスメントにはリスクの生起確率だ けでは不十分であり、リスクが招く経済的損失量の評価が有用である。また、リスク・ア セスメント研究は自動車産業や宇宙航空産業については進んでいるが、半導体設計開発の プロジェクトに対しての報告はそれと比較して少ない。半導体設計開発工程には、タスク 間に知識と技術情報のフィードバックと反復プロセスといったイタレーションが複雑に存 在しており、そのモデル化が従来の手法では困難であることが理由としてあげられる。
そこで本章では、DSM (Design Structure Matrix:設計構造マトリックス)によって設計工程 をモデル化し、そのモデルから活動時間と活動コストそれぞれのリスクを経済的損失量と
して算出する、定量的リスク評価のフレームワークを提案した。DSM はイタレーションを 含む設計工程をモデル化できるとして近年注目されている手法である。経済的損失値はリ スク・モデルに基づき得られる値であり、その確率分布関数の算出にはモンテカルロ・シ ミュレーションが用いられる。
また、本章では提案したフレームワークを半導体設計工程の実プロジェクトに適用して リスク評価のシミュレーションを行い、本フレームワークの有用性を検証した。適用にあ たっては、設計工程のタスクに対して 3 つの代替案を用意し、それらの組み合わせによっ て8つの設計工程モデルを策定した。そしてリスク評価では、8つのモデルにおいてそれぞ れの、活動時間のリスク値と活動コストのリスク値をトレードオフ検討することが有用で あることを示した。またある 1 つのモデルにおいて、目標値の変化に対するリスク値とそ の生起確率の増減を観測することが、目標値の設定に利用できることを示した。これらの 結果から、本フレームワークは開発時間、活動コスト、不確実性の一要因であるイタレー ション、そしてリスクに対して実践的な洞察を提供してくれるものであり、またプロジェ クトの策定と変更・修正といった意思決定を側面から支援してくれるものであることが検 証された。イタレーションを定式化できる設計プロジェクトという条件下、本方式は確率 論的な意思決定が行えるという点で従来の決定論的な方式より優れていると言える。
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