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T 字型合流路内での固液二相流の解析

第 3 章 混相内部流への適用と検証

3.3 三次元解析(One-way 解析)

3.3.3 T 字型合流路内での固液二相流の解析

3.3.3 T字型合流路内での固液二相流の解析

粒子解析の時間刻み : tpV1/W1=0.01 一個の標本粒子が代表する実際の粒子数: Np=1

Two-way用の計算格子幅 : ltwo way /W1=0.125

(4) 解析結果と考察

① 液相流れ

液相流れに対して,瞬時の渦要素と速度の分布を図3.3.3-2~図3.3.3-5に示す.合流 によって支流からの噴流は大きく偏向し,合流部の上流および下流で非定常なはく離 渦が発生した.また,主流に対して支流断面積が小さいため,主流が噴流の脇を回り 込む流れとなり,円柱周りの流れと類似した流れが現れた.噴流後流にカルマン渦列 のような渦構造が形成され,この渦列の影響で噴流軸が左右に非定常に揺れる現象が 観察された.このように,T 字型合流路では非定常な渦の発生・発達および合体・分 離によって,様々な渦構造が相互作用を及ぼし合い,複雑で非定常性の強い流れとな る.以上のような現象は,単相流の既存研究[107], [108]でも同様に報告されている.

また,二相間相互作用の影響は,別途行ったOne-way解析と比較すると,二相間の 相対速度が大きい場所で若干ではあるが現れた.合流部では液相と固体粒子の軌跡の 違いで噴流の偏向度合いが弱まることや,粒子濃度の高い領域で液相流れが減速され ることがわかった.

図3.3.3-2. 瞬時の渦要素と液相速度分布(全景,tV1/W1=15)

(a) 渦要素分布 (b) 液相速度分布 z/W1=0

z/W1=2

z/W1=4

z/W1=6

α /( V1W12) vf / V1

α /( V1W12)

(a) 支流からの渦のみ表示

(b) 主流上下面の渦のみ表示

(c) 主流側面の渦のみ表示

図3.3.3-3. 瞬時の渦要素分布(全景:支流渦,主流の上下・側壁面の渦,tV1/W1=15)

図3.3.3-4. 瞬時の渦要素分布 (a) Side view

(主流側壁からの渦以外の渦を表示)

(b) Top view

(主流側壁からの渦のみ表示) tV1/W1=10

tV1/W1=9 tV1/W1=8

tV1/W1=7 α /( V1W12)

図3.3.3-5. 瞬時の液相の速度分布

(a) Vertical plane (x/W1=0) (b) Horizontal plane ( y/W1=0.5) tV1/W1=10

tV1/W1=9 tV1/W1=8

tV1/W1=7 vf / V1

② 固体粒子の挙動

瞬時の固体粒子分布および時間平均濃度分布を図3.3.3-6,図3.3.3-7に示す.噴流後 流に発生する非対称な渦列によって,合流直後から急激に固体粒子が水平方向に乱流 混合される様子が捉えられた.また,固液密度差によって鉛直方向に二相間での相対 速度が生じるため,本条件では固体粒子の一部が下壁面に沈降し,合流後2W1程度下 流でしゅう動する流れとなった.

さらに,流路の四隅では中心部に比べて液相速度が低下するため,主流流路の下面 側の両端部で固体粒子濃度が高くなることがわかった.粒子濃度が高い領域では,前 述したようにTwo-wayの効果で,より堆積し易い流れとなる.

図3.3.3-6. 瞬時の固体粒子の分布

tV1/W1=10 tV1/W1=4

tV1/W1=8 tV1/W1=2

tV1/W1=6 tV1/W1=1

vp / V1

③ 二次元場を模擬した実験との比較

固体粒子の三次元的な挙動を調べるため,奥行き方向に形状の変化が無い二次元場 を模擬した実験結果(3.2.4項)と比較した.比較結果を図3.3.3-7,図3.3.3-8に示す.

二次元場を模擬した実験(図3.3.3-8)では,主流が噴流を水平方向に回り込む流れ が無いため,合流部下流側の角部で大きな逆流域が発生する.そのため,この大きな 逆流領域に固体粒子がトラップされ,堆積する様子が捉えられている.

三次元解析と二次元場を模擬した実験を比べると,固体粒子の偏向度合い,しゅう 動流れの発生位置については良く類似している.ただし,対象とした三次元形状では,

液相流れ場で考察したように合流部下流側での逆流域が小さく,二次元実験とは異な る流れとなっている.そのため,合流部下流側での逆流域で固体粒子の堆積が発生す ることは無かった.

図3.3.3-8. 二次元場を模擬した実験結果

(a) 瞬時の固体粒子分布 (b) 固体粒子の時間平均濃度分布 Side view

Top view

図3.3.3-7. 固体粒子の瞬時分布および時間平均濃度分布

(a) 瞬時の固体粒子分布(tV1/W1=15)

Bottom of the main duct

Center plane of the main duct (b) 固体粒子の時間平均濃度分布

z/W1=0

z/W1=2

z/W1=4

z/W1=6

vp / V1 CV