第 6 章 CdTe ピクセル検出器改良に向けての詳細 測定測定
6.1 実験装置、方法
81
第 6 章 CdTe ピクセル検出器改良に向けての詳細
6.1.2 CdTe素子のみでのリーク電流測定
CdTe素子自体のリーク電流測定の装置の模式図が図 6.2(a)でピクセル電極をプローブで触 り、それぞれのピクセルからの引き出すための装置の写真が図 6.2(b)である。電流の測定には、
Keithley6517Aを用い、バイアス電圧の供給もKeithley6517Aで行っている。
A
Bias
20M
Keithley 6517A CdTe
Probe
Pixel
(a)
(b)
図 6.2: CdTe素子自体のリーク電流測定装置。(a)は測定装置全体の模式図。Keithley 6517A中 の20MΩの抵抗は、保護抵抗。(b)はピクセル電極一つ一つをそれぞれ触るためのプローブ装置。
プローブから配線され、上部の端子とピクセル電極が1対1で対応している。
測定をおこなったのは、設定温度20◦Cの恒温槽中である。バイアス電圧をかけると時間経過と ともにリーク電流が減る方向に変化していった。これはPt-CdTe-Pt型の特性であると思われる。
この影響を少なくするため、バイアス電圧をかけてから15分後待ち、変化が少し収まったところ で、リーク電流を読みとった。
測定したのは、図6.3に表したピクセルであり、全部で計18ピクセルである。CdTe全体に渡っ て、まんべんなく選んでいる。測定の際は、ガードリングと測定ピクセルの周り5×5ピクセルの 領域を、グランドに落とし、測定ピクセルから来るリーク電流のみを測定した。
6.1. 実験装置、方法 83
図6.3: CdTe素子自体のリーク電流測定の測定ピクセル。グレーのピクセルが測定したピクセル
で、全部で18ピクセルのリーク電流を測定した。
6.1.3 バンプ接合後のCdTe素子のリーク電流測定
バンプ接合した後のCdTe素子のリーク電流を測定するための装置の模式図が図6.4(a)である。
セラミック基板の4辺にある電極のうち3辺は導電性ゴムを接触させ、グランドに落として、残 りの1辺には、電極間隔に合わせたプローブで1電極ずつ接触させ、一つ一つのピクセルからの リーク電流が読み出せるようになっている。バイアス電圧は共通電極に接触させたプローブによっ て供給される。図6.4(b)は、装置の写真である。リーク電流の測定には、Keithley6517Aで行い、
バイアス電圧の供給も同時に行う。
測定は、設定温度20◦Cの恒温槽中でおこなわれ、バイアス電圧をかけてから1分後のリーク電 流を読みとった。測定を行ったのは、図 6.5 に表した108ピクセルで、測定の際、ガードリング と他のピクセルはグランドに落としている。
Probe Bias Probe
Ceramic Board CdTe
A
Keithley 6517A Bias
20M
(a) (b)
図6.4: バンプ接合後のCdTe素子、リーク電流測定の装置。(a)は装置全体の模式図。(b)は、プ ローブ装置の写真。セラミック基板の4辺にあるピクセル電極から引き出された端子を4辺のう ち3辺は導電性ゴムでグランドに、残りの1辺は各電極プローブで触る。バイアス電圧は、共通 電極に接触するプローブで与える。
Y
X
図 6.5: バンプ接合後のCdTe素子のリーク電流測定の測定ピクセル