• 検索結果がありません。

実測結果と数値解析結果の比較

第 8 章 結論 74

C.3 実測結果と数値解析結果の比較

C章 放射型300GHzばく露装置の開発とばく露評価

して,ステップ幅 4 mmのときに5分,2 mmのときに20分である.

!"

#!

#"

$!

$"

%&'(%)*+,-$!

$"

'!

'"

(!

("

!

"

.)*//-)0.1023/045)467() )0.1023/045)467' )0.1023/045)467$

)8902:;0

(a)x軸方向

!"

#!

#"

$!

$"

%&'(%)*+,-$!

$"

'!

'"

(!

("

!

"

.)*//-)012034/056)578() )012034/056)578') )012034/056)578$

)9:03;<0

(b)y軸方向

図C.5. 電界分布 (|S21|) 測定時の再現性.

C.3.2 実験結果と数値解析結果に対する比較

図C.5には,簡易に結果の再現性を確認するため,ステップ幅 4 mmで3回測定した結果 を示す.放物面鏡の取り外しと光軸合わせを測定ごとに繰り返し行った.測定範囲の端部 では,測定回ごとの差異が大きくなった.測定範囲の中心 ±12.5 mmの領域の差異は,x軸 方向で最大2.3 dB,y軸方向で最大1.7 dBと小さくなった.

C.3実測結果と数値解析結果の比較

図C.9には,空間のステップ幅2 mmで1回測定した測定結果とMLFMMでの数値解析結 果を示す.図C.7には,これらの比較を示す.両者とも強度が高い領域が円状に近く,分布 形状は概ね一致した.両者に共通して特に,y軸方向の非対称な分布と,y軸方向のリップ ルが見られた.

数値解析上で,リップルの周期は1.0–1.2 mmである.周波数 300 GHzでの自由空間内で

の波長 (1 mm) とほぼ同じかやや長い程度であった.リップルの振幅は,y軸方向の分布

の非対称な分布の差異に比べて小さい.リップルによる一様性の低下は殆ど無視できると 考えた.

98

C章 放射型300GHzばく露装置の開発とばく露評価

!"

#"

"

#"

!"

$%&'()*+%,--.

!" #" " #" !"

/%&012)+%,--.

!"

#3 #"

3

"

45!#4%&6'*-7819)2%:'%-7/%(78;)+%,2<.

(a)

!"

#"

"

#"

!"

$%&'()*+%,--.

!" #" " #" !"

/%&012)+%,--.

!"

#3 #"

3

"

4'5)*%2)6017$%,28.

(b)

図 C.6. 培養容器の配置位置での電力密度分布と|S21|. (a) 平面走査での実測結果.空間ステップ 間隔 2 mm.(b) 解析結果.

C.3実測結果と数値解析結果の比較

!"

# $ % &

"

'()*+,-./01231+40156&!517089

&" !" " !" &"

:17**9 1;/+<=)/*/4>

1?+,@=,+>-(4

(a)x軸方向

!"

# $ % &

"

'()*+,-./01231+40156&!517089

&" !" " !" &"

:17**9 1;/+<=)/*/4>

1?+,@=,+>-(4

(b)y軸方向

図 C.7. 培養容器の配置位置での数値解析と実測の電界分布の比較.(a) x軸沿いの分布 (y = 0 mm),(b) y軸沿いの分布 (x= 0 mm).

100

C章 放射型300GHzばく露装置の開発とばく露評価

C.4 300GHz 放射型ばく露装置のばく露評価

ばく露装置のばく露評価を行った結果を示す.図C.8に,細胞が内在する培地内底面での 電界分布を示した.培地内底面全体でミリ波が吸収されていることが確認された.培地内 底面での電磁界強度,SAR,電力密度の空間分布から算出した基本統計量を表C.2に示した.

図 C.8. 培地内底面での電界分布.空間平均値での規格化.

表 C.2. アンテナ入力電力15 mW時の培地内底面における空間平均値.

電界強度 (V/m) 磁界強度 (A/m) SAR (W/kg) 電力密度(mW/cm2)

最小値 13.4 0.04 20.2 0.04

最大値 101 0.91 1134 2.14

空間平均値 46.9 0.36 257 0.57

標準偏差 9.81 0.08 98.8 0.22

C.4300GHz放射型ばく露装置のばく露評価

!"

#

"

#

!"

$%&'()*+,-./ /.0-12

!#

!"

#

"

.0''2

.032.!.4.".'' .012.!.4.5.''

(a)

!"

#

"

#

!"

$%&'()*+,-./ /.0-12

!"

"

!"

.0''2

.032.!.4.".'' .052.!.4.6.''

(b)

図 C.9. 地内底面での電界分布.空間平均値での規格化. (a) x 軸上 y = 0,9 mm.(b) y軸上の x= 0,9 mm.

102

C章 放射型300GHzばく露装置の開発とばく露評価

図C.10に電界分布のヒストグラムを示す.分布の均一度の指標には,Ave. ± 3 dB, Ave.

± 5 dB を用いた [20].Ave. ± 3 dB, Ave. ± 5 dB は,電界分布の空間平均値±3 dB, ±5 dB に曝される細胞数の割合とした.Ave. ± 3 dB, Ave. ± 5 dB はそれぞれ90%と97%であっ た.殆どの細胞はSARの空間平均値 ± 3 dBに照射された.

!

"

#

$

%&'()*+&,-./0&1,23,+24&'5,678 9" 9# $ #

:21/('*;&<,= =,6<>8

±,?,<>

±,@,<>

図C.10. 培地内底面での電界分布のヒストグラム.空間平均値での規格化.

培地内に吸収される電力は入力電力の56% となった.反射される電力は,入力電力の 14%であった.殆どの電力は培地内に吸収されることを示した.

表C.3は,最近の細胞用ミリ波ばく露装置 [53] との比較を示す.アンテナへの入力電力 は,いずれも15 mWに規格化した.開発したばく露装置の電力密度は,空間平均値±5 dB とした.比較対象の電力密度は,空間平均値±相対標準偏差の2倍を示す.比較対象では,

空間電力を実測した結果から照射面積を除算して求めている.開発したばく露装置では,広 い照射面積に対して,高いばく露量の効率が得られた.

表 C.3. 最近の細胞用ミリ波ばく露装置との比較.培養容器への照射面積(底面積),電力密度の空 間平均値と 底面の95%を占める強度の幅.

照射面積(mm2) 空間平均値(mW/cm2) 95%の幅(mW/cm2)

開発した装置 962 0.57 0.27–1.1

Ostmann, et al. [53] (周波数380 GHz) 113 0.35 0.25–0.45