半導体製造工程におけるCMP
食品・医薬品製造における洗浄工程の工程能力指数を用いた統計的評価
... The capabilities of cleaning processes have been statistically evaluated using data from both food and pharmaceutical manufacturing facilities, using the Process Capability Index (Cpu), [r] ...
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Kokusai Semiconductor Equipment Corp. 同社は 半導体製造装置の販売 サービス事業を行っています 1992 年に当地に法人を設立してから 20 年以 上の実績を有しています 同社は 高品質な半導体製造装置の販売及びサービスにより 高い評価を得ています 実際 複数の
... リコーは、1962年に米国でのカメラ販売事業を開始して以来、複合機、プロダクションプリンター、感熱紙などの製 造、販売、ITインフラサービス、ビジネスプロセスサービスなどの事業を展開しています。販売会社であるRicoh Americas Corporationが販売網を全米に網羅しているほか、カリフォルニアに研究開発拠点（Ricoh Innovation ...
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希薄磁性半導体(Zn,Cr)Teにおける窒素ドーピングによる強磁性抑制の研究
... 第 3 章は本研究の実験における試料作製および各種の評価法の紹介に充てられている。MBE による 結晶成長、X 線回折(XRD), XAFS などの結晶構造・組成の評価法、および超伝導量子干渉計(SQUID) による磁化測定およびその解析法などが簡単に紹介されている。 第 4 章から第 6 章までは本研究における実験結果の紹介に充てられており、第 4 章では MBE による ...
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菅集成材に関する研究 ( 第 7 報 アカマツ集成材の製造条件と接着性能西原実 (1) 野蓑作 (2) I 緒百 集成材を製造するにあたり, その材料条件および工程条件を明確にしておくことは, 集成材の製造基準 を明らかにし, 工場作業の傑準工程を決めるために必要である このような必要性から, さき
... 。なお，前記の時間は最初の挽板に接着剤を塗付してから，所定の庄締力をかけ終わるまでの時間であ る針。結果を Fig.3 に示した。この結果より，室温 25 0 C においてカゼイン J妾着剤では 5 '"'-'90 分， シノール樹脂接着剤では 5 '"'-'60 分の堆積時間は安全許容限界内にあるが， カゼイン接着剤では 120 分， レゾルシノ、ール[r] ...
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特許侵害訴訟における無効の主張を認めた判決─半導体装置事件−
... である仮想的クレイムの法理との関係について付言しておこう。 抽象論として均等論を認めることを明言した最判平成 10.2.24 民集 52 巻 1 号 113 頁［ボールスプライン 軸受］は，均等論が適用されるための要件の一つとして，均等論の適用が問題となっている「対象製品等 が，特許発明の特許出願時における公知技術と同一又は当業者がこれから右出願時に容易に推考でき ...
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Al基近似結晶における半導体形成の可能性に関する研究
... 以上、本論文は Al 基正 20 面体準結晶の近似結晶のモデル物質において、半金属的バ ンドと半導体バンドを見出し、その実現可能性と期待できる熱電特性を実験と計算によ り明らかにし、バンドギャップ形成機構を明らかにするためのクラスターに基づいた描 像を構築した。これは固体物理学の基本的な問題になっており、熱電性能の向上も見込 まれる半導体準結晶の創製に繋がる成果であり、物質科学の発展に寄与するところが大 ...
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希薄磁性半導体(Zn,Cr)Teにおける窒素ドーピングによる強磁性抑制の研究
... であるため、図4.15には試料#20のみCr濃度の深さ方向のプロファイルを黒線で示し、他の試料は窒 素濃度のプロファイルのみ示す。図4.15に示すように、山と谷が交替する形状のスペクトルが観測 され、深さ方向の厚さの増加に従って、拡散効果及びミキシング効果が大きくなる傾向が見られる。 超格子試料のSIMS測定においては、ミキシング効果の影響により、ZnTe:N層と(Zn,Cr)Te層の厚 ...
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博士論文 パワー半導体製造工程における高温熱処理と シリコン結晶欠陥の研究 A study on high-temperature annealing and silicon crystal defects for power semiconductor manufacturing process
... 影響” ，パワーデバイス用および関連半導体材料に関する研究会（第３回）， 日本学術振興会結晶加工と評価技術第１４５委員会，p. 129-131，(2013). （８）H. Nakazawa, M. Ogino, H. Teranishi, Y. Takahashi, and H. Habuka, “ Crystalline Defects in Silicon Wafer Caused by Nitrogen ...
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一貫して製造することにこだわった このこだわりこそが EIJI 誕生のきっかけとなった そして同社では このブランド創出を通じて 各工程の企業における情報 技術の共有 製造工程の効率化 品質管理の徹底を実現 繊維の街大阪 の職人が織り成す優れた技術 品質へのこだわりを前面に打ち出し 製作された T
... 「自立した質の高い企業づくり」をモットーとする同社の経営理念は、 「技術と信用を守り、すべ てのお取引先と共存共栄をめざす」 。製造から販売までの一貫したメイドインジャパン、とりわけ繊 維集積地大阪での最高の技術を結集した商品にこだわる同社が、業績向上はもとより、地域のもの づくりネットワークの維持と発展に寄与していくことを期待している。 ...
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内容 はじめに 1 1. 清涼飲料水の衛生性の確保 2 2. 清涼飲料水の製造における危害要因 2 3. 清涼飲料水の製造工程と加熱殺菌 4 4. 清涼飲料水の製造基準 ( 法令 ) で必要とされる加熱殺菌条件 二酸化炭素圧力 7 5. HACCPの考え方を取り入れた衛生管理 に基づく衛生管理計画に
... （2）各工程の特徴 充填工程では、清涼飲料水の中味成分のpH域や成分組成に応じた適切な充填方法を選択します。 熱間充填（ホットパック）法には、充分に加熱された内容液そのものの温度で容器内面をも殺菌す るという目的があります。この殺菌を確実にするために、搬送ライン上には転倒や反転設備あるいは 揺動設備が設置され、蓋部分などの非接触部分を内容液に一定温度・一定時間接触させることが可能 ...
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9 174 製造工程の開発作業により どのような物質特質 ( 例えば 原料 出発物質 試薬 溶媒 プロセス助剤 中間体等 ) 及び工程パラメータを管理すべきかを特定しなければならない The manufacturing process development program should ident
... the CQA and the ability of individual controls to detect a 編集（和訳） 「管理戦略を開発するとき、CQA及 び潜在的な問題点を検出する個々 の管理の能力と関連したリスクに従 い、製造業者はあるCQAについての 管理を１つのポイント又は複数のポ イントで実行することを考慮すること ができる。」という表現の方がよい ...
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OMP60: 革新的なプロセスコントロール 工程のバラツキを根源から絶って その経済効果を掌中に 製造工程への人の介入が多ければ多いほど ミス発生のリスクが大きくなります レニショープローブを使用した工程内計測の自動化は このリスクの排除に貢献します レニショーオプチカルプローブ OMP60 は 次
... 世界で初めて登場した タッチトリガー プローブでは、キネマティ ック（三点支持方式）検出機構の原理が基になっていました。こ の実績ある設計の基本原理は今日も引きつがれ、パーツの芯だ しや寸法計測そしてプロセスコントロールにおいて、重要な役割 を担っています。寸法測定装置の設計、製造およびサポートにお いてレニショーは、グローバルリーダーとして確固たる地位を確 立しました。 ...
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設計段階における製造コスト低減策について
... いうまでもなく，経営の合理化，生産工程，生産手段 を近代化することによって，品質の向上とコスト低減策 を同時に果すことにある. きて， 乙のコスト低減策については，従来，主とし て，使用する材料，部品やその製造の段階における対策 には，相当の関心が向けられてきたのであるが，設計の 段階に対しては，余り考慮されていなかった感がある. 本研究は，筆者が，乙のコスト低減策の重[r] ...
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EOQ型リバースロジステックスシステムにおける製造リサイクル方策
... リバースロジスティクスに対する問題に関して多くの関心が寄せられている。この分野に おける確定的な経済的発注量（EOQ: economic order quantity）型のリバースロジスティク スモデルは，Schrady（1967）によって古典的な EOQ モデルから導かれ始めて分析された。 彼は一定の需要率と回収率と外部発注と再製造に対する固定リードタイムを仮定して，1 つ 以上のリサイクリング/リペアサイクルと 1 ...
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製造業におけるデジタルトランスフォーメーションの盲点
... スフォーメーションの実態 1. IoTによる工場の稼働率や生産性が向上 インダストリアルインターネットやインダストリー4.0に代表 される欧米のデジタルトランスフォーメーションの波に押され、 日本においてもIoT導入の波が押し寄せています。特に、製造 業においてはマスカスタマイゼーションやデジタル・ファクト リーを実現するため、IoTへの取組みの事例が増加しています。 ...
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3. ビジネス活用が進む AR (1) 製造 図表 1 組立ラインにおける作業指示製造業では 製品の組立手順や機器の操作などに関する指示をディスプレイに表示する AR 機器が 多くの会社で試験導入されている ( 図表 1) 製造プロセスは往々にして込み入っており 数百 数千の工程を必要とするうえ ミ
... 巨大 IT 企業が AR に注力するのは「スマートフォンの次」を見据えているからだと言われている。AR 市 場にはスタートアップ企業も参戦しており、スマートグラスを巡る覇権争いは激しさを増している。 ５．市場予測 AR 市場は VR 市場とともに今後数年の間に急速に成長すると見込まれている。IDC Japan の発表によれ ば、世界の AR/VR のハードウェア、ソフトウェアおよび関連サービス市場における 2016 ...
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電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発
... 研究成果の概要 半導体デバイスは、スマートフォンやテレビなどの情報通信機器、エアコン、冷蔵庫などの家電製品、自動車など 暮らしを支える多くの製品に必要不可欠な電子部品である。この半導体デバイスの製造工程において、シリコンウェ ハ基材上のナノメートルオーダの異物除去の必要性から、製造工程の 1/3 ...
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電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発
... ルを配置する方法が広く用いられている。しかしこの洗浄 方法は純水をスプレーする際に半導体デバイスに静電気 障害 (Electro Static Discharge: ESD)を生じる問題があり、静 電気障害を防止するために純水に炭酸ガスを混入させ純 水の伝導率を下げる方法で対策しているが、純度の高い純 水に不純物を入れてしまうという問題やコスト高の問題 がある。これらの静電気障害の解明や対策は、生産現場で ...
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電子デバイスの純水スプレー洗浄工程における静電気発生防止技術の開発
... 4．研究成果 本研究では、フラットパネルディスプレーの製造工程中 のスプレー洗浄時に生じる静電気障害問題について取り 上げ、試作したファラデーケージを用いて発生電荷量を測 定した。また本論では詳細を述べることができなかったが、 その対策方法についても考案し、実験によって確かめるこ とができている。 ...
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半導体製造装置プロセス管理技術
... 1） レシピ特許を含むプログラム特許では、日米での出願人分布は大きな違いがある。米国登録特許では、アプライドマ テリアルズ社（AM AT）、アドバンストマイクロデバイセズ社（AM D ）の上位2社でプログラム特許全体の55. 2％を占め ており、この2社は明らかに戦略的に特許を取得していると見られるのに対して、日本は大手半導体メーカや製造装 ...
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