平成１６年度
特許出願技術動向調査報告書
半導体製造装置プロセス管理技術
（要約版）
＜目次＞
第１章 技術俯瞰 . . . . 1
第２章 詳細分析結果 . . . . 9
第３章 半導体製造装置プロセス管理技術のリーダ 16
第４章 研究論文の動向と注目出願人の動向 . . . . . 24
第５章 注目される市場の動向 . . . . 27
第６章 分析結果と提言 . . . . 28
平成１７年３月
特 許 庁
問い合わせ先
特許庁総務部技術調査課 技術動向班
第 1 章 技 術 俯 瞰
第 1 節 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 と は
図 1 は 最 先 端 の DRAM（ 各 世 代 ）の 開 発 か ら 量 産 に い た る 歩 留 り の 推 移 を 示 し て い る 。現 在 の 256M DRAMで は 、 半 導 体 メ ー カ が 投 資 を 決 め 、 R&D と 試 作 期 間 を 経 て 量 産 に 入 る ま で が 概 ね ２ 年 間 と な っ て い る が 、 こ れ は 過 去 と 比 較 す る と 非 常 に 早 く 、 テ ク ノ ロ ジ ー は ま す ま す 高 度 化 、複 雑 化 し て い る に も 関 わ ら ず は じ め か ら 高 い 歩 留 り を 実 現 し て い る 点 は 驚 異 的 で あ る 。 こ う し た 急 激 な 製 造 プ ロ セ ス 技 術 の 革 新 と と も に 、 多 品 種 少 量 生 産 と 短 納 期 化 へ の 要 求 も 高 ま っ て き て お り 、 日 進 月 歩 す る 半 導 体 製 造 プ ロ セ ス を 管 理 す る 技 術 の 重 要 性 は 一 層 高 ま り つ つ あ る 。
本 報 告 書 で は 、 90nmの 最 先 端 プ ロ セ ス で の 量 産 が 相 次 い で 始 ま る 2004 年 以 降 、 ま す ま す 重 要 性 を 増 す さ ま ざ ま な 「 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 」 に つ い て 、 そ の 特 許 出 願 の 実 態 と 技 術 の 特 徴 を 明 ら か に し 、 ま た 、 こ れ ま で 日 本 で は 一 般 的 レ ベ ル で あ ま り 認 識 の 重 要 度 の 高 く な い イ ー ル ド マ ネ ジ メ ン ト 技 術 や 装 置 メ ー カ で の 盛 ん な レ シ ピ 特 許 に つ い て 、 そ の 用 い ら れ 方 の 実 情 や 特 許 出 願 の 実 態 を 検 証 し 、 日 本 の 半 導 体 産 業 の 競 争 力 向 上 の た め の 方 策 を 模 索 す る 。
表 1 に 本 調 査 に お け る 対 象 技 術 を 示 す 。 こ の 区 分 に よ り 特 許 を は じ め と す る 各 種 分 析 を お こ な っ た 。
図 1 DRAMの 開 発 か ら 量 産 に 至 る 歩 留 り の 推 移
0 1 2 3 4 5 6 7
-1
Year
256M 64M 16M
4M 1M
256K 64K メ
モ リー デ バ イ ス の 歩 留 ま り︵
%︶ 立ち上げ期間の短縮
世代が進むにしたがい、
開発期間が減少
100
80
60
40
20
0
R&D
量産
-2
-3
-4
初期歩留りアップ
半導体メーカの分担 装置メーカの分担
⇒ イールドマネジメント会社の 影響力が増大! !
装置＋レシピで納入
試作
表 1 技 術 区 分 一 覧 表
技 術 区 分 要 素 技 術 技 術 区 分 要 素 技 術
Ａ 工 場 生 産 A- 01 生 産 計 画 Ｆ 搬 送 管 理 技 術 F - 01 工 程 内 搬 送
管 理 技 術 A- 02 工 程 管 理 F - 02 工 程 間 搬 送
A- 03 設 備 稼 働 管 理 F - 03 WI P追 跡
A- 04 材 料 管 理 F - 99 そ の 他
A- 05 労 務 管 理
A- 06 レ シ ピ 統 合 管 理 Ｇ ク リ ー ン G- 01 温 湿 度 A- 99 そ の 他 ル ー ム G- 02 パ ー テ ィ ク ル
管 理 技 術 G- 03 そ の 他 不 純 物 Ｂ 品 質 管 理 技 術 B- 01 デ ー タ 収 集 ( 検 査 ・ 測 定 ) G- 99 そ の 他
B- 02 合 否 判 定
B- 03 記 録 管 理 Ｈ 単 体 製 造 装 置 H- 01 エ ピ タ キ シ ャ ル 成 長 B- 04 不 良 解 析 プ ロ セ ス 管 理 H- 02 CVD
B- 99 そ の 他 技 術 ／ 装 置 H- 03 蒸 着 レ シ ピ H- 04 ス パ ッ タ
Ｃ 短 納 期 化 技 術 C- 01 進 捗 管 理 H- 05 塗 布 ・ コ ー テ ィ ン グ
C- 02 生 産 効 率 化 H- 06 め っ き
C- 03 多 品 種 小 量 生 産 H- 07 フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ
C- 04 工 程 削 減 H- 08 熱 拡 散
C- 99 そ の 他 H- 09 ド ー ピ ン グ
H- 10 酸 化 ／ ゲ ー ト 絶 縁 膜 Ｄ イ ー ル ド D- 01 イ ー ル ド 解 析 H- 11 エ ッ チ ン グ
向 上 技 術 D- 99 そ の 他 H- 12 層 間 構 造
H- 13 CMP／ 研 磨 Ｅ 複 数 製 造 装 置 E- 01 マ ル チ チ ャ ン バ H- 14 レ ジ ス ト 除 去
プ ロ セ ス E- 02 装 置 結 合 H- 15 洗 浄
管 理 技 術 E- 03 ネ ッ ト ワ ー ク H- 16 検 査 測 定
E- 99 そ の 他 H- 17 後 工 程
H- 99 そ の 他
第 2 節 特 許 文 献 収 集 の 方 針 と 手 順
半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 は 製 造 工 程 に お い て 間 接 的 に 用 い ら れ る 技 術 で あ り 、 半 導 体 製 造 メ ー カ 自 身 が 公 表 し な い 限 り 、 外 部 か ら そ の 内 容 を 知 る こ と は で き な い 。 製 造 物 そ の も の を 見 て も 、ど の よ う な 管 理 技 術 が 使 わ れ て い る か を 判 定 す る の は 難 し い 。そ の 点 で は 、 学 会 で 技 術 を 発 表 し た り 、 特 許 と し て 権 利 化 す る こ と に よ る 利 益 は 乏 し い と 思 わ れ て い た 。 し か し 、 近 年 は 、 保 有 す る 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 を 用 い て コ ン サ ル テ ィ ン グ 、 技 術 移 転 を 行 う こ と が 、 次 第 に ビ ジ ネ ス と し て 成 り 立 つ よ う に な っ て き た と 言 わ れ る 。 そ の 例 と し て 、 イ ー ル ド マ ネ ジ メ ン ト や 、 装 置 レ シ ピ が あ る 。
本 調 査 で は 、 半 導 体 製 造 装 置 管 理 プ ロ セ ス 技 術 の 中 で も 、 特 に ソ フ ト ウ ェ ア 関 連 特 許 に 注 目 し た 調 査 ・ 分 析 を 行 う 。 そ の た め 、 特 許 文 献 収 集 に お い て も 、 請 求 項 の 中 で ソ フ ト ウ ェ ア
具 体 的 に は 、 日 本 特 許 で は 「 プ ロ グ ラ ム 」「 記 録 媒 体 」「 記 憶 媒 体 」 の い ず れ か が 請 求 項 に 含 ま れ て い る 特 許 、 米 国 特 許 で は 「 pr ogr am」「 s t or age medi um」「 r eadabl e medi um」 の い ず れ か が 請 求 項 に 含 ま れ て い る 特 許 で あ っ て 、 か つ 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス に 関 連 す る 特 許 を 分 析 対 象 と し て 抽 出 し な け れ ば な ら な い 。 そ の た め に 、 特 許 デ ー タ ベ ー ス と し て 、 主 と し て 請 求 項 の 範 囲 を 全 文 検 索 で き る ATMS、 CL AI MS な ど を 使 用 し た 。
図 2 特 許 文 献 収 集 と 分 析 の 手 順 の 概 要
使用ﾃﾞｰﾀﾍﾞｰｽ 日本特許データベース 米国特許データベース 世界特許データベース( *1)
At ms Cl ai ms WPI
ﾃﾞｰﾀﾍﾞｰｽ検索 テーマI PC（H01L21/ 00）
右項目を組合せ 関連I PC（G03F7/ 20など37個）
て検索式を構成 関連FI （日本のみ)
請求項キーワード 請求項キーワード
名称/ 要約キーワード 名称/ 要約キーワード
WPI 抄録キーワード 出願年範囲（1994年∼2003年） 抽出日：2004/ 11/ 27 抽出日：2004/ 11/ 22 抽出日：2004/ 11/ 22
分析対象抽出 6214件 1007件 340件
ノイズ除去
日本ﾌﾟﾛｾｽ管理特許( *2) 米国ﾌﾟﾛｾｽ管理特許 欧州ｱｼﾞｱ他ﾌﾟﾛｾｽ管理特許( *2, 3)
4663件 794件 315件
分析実行 全体分析( 参考)
詳細分析A
926件 207件
日本レシピ特許( *2) 米国レシピ特許
155件 46件
詳細分析B
214件 65件
日本イールド特許( *2) 米国イールド特許
214件 65件
詳細分析C 被引用上位特許( *6)
185件 請求内容精査
全体分析、詳細分析A∼C プログラムに関する特許( *4)
請求内容精査
イールド関連特許( *5) テーマI PC（H01L21/ 00） 関連I PC（G03F7/ 20など37個）
出願年範囲（1994年∼2003年）
ノイズ除去
注 ： 関 連 I PC は G03F 7/ 20 な ど 37 個 。 関 連 F I は H01L 21/ 02@Z の 1 個 の み 。
*1 本 調 査 で は 、 請 求 項 検 索 の で き な い WPI は 補 助 的 に 利 用 し た 。
*2 登 録 さ れ た 特 許 お よ び 公 開 さ れ た 特 許 出 願 。
*3 日 本 お よ び 米 国 に 出 願 さ れ て い な い も の の み 抽 出 。
*4 請 求 項 に 「 プ ロ グ ラ ム 」「 記 憶 媒 体 」「 記 録 媒 体 」 の い ず れ か を 含 む も の 。
*4 請 求 項 に 「 pr ogr am」「 s t or age medi um」「 r eadabl e medi um」 の い ず れ か を 含 む も の 。
*5 名 称 / 要 約 に 「 歩 留 ま り 」 を 含 む も の 。
*5 名 称 / 要 約 に 「 y i el d」 を 含 む も の 。
*6 抽 出 日 ま で の 被 引 用 回 数 を 文 献 発 行 日 か ら 抽 出 日 ま で の 日 数 で 割 り 、365 を 掛 け て 年 平 均 を 算 出 し た 。
*6 被 引 用 回 数 の 年 平 均 が 、 1 回 / 年 以 上 の も の を 分 析 対 象 と し た 。
第 3 節 世 界 の プ ロ セ ス 管 理 技 術 ・ 特 許 出 願 動 向
1994 年 か ら 2003 年 ま で の 10 年 間 に 出 願 さ れ た プ ロ セ ス 管 理 技 術 の 公 開 ／ 公 表 特 許 、登 録 特 許 は 、 全 体 で 5, 772 件 で あ っ た 。 技 術 区 分 別 の 分 布 を 表 2 に 示 す 。
表 2 調 査 の 結 果 得 ら れ た 特 許 の 技 術 区 分 別 件 数
（件数） 技術区分
日本公開／公 表 特許
米国登録特許
欧州アジア他 地域の公開／
公表特許
合計
A 工場生産管理技術 505 96 53 654
B 品質管理技術 352 118 75 545
C 短納期化技術 71 7 7
D イールド向上技術 55 43 3 101
E 複数製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 301 54 44 399
F 搬送管理技術 432 9 1 442
G クリーンルーム管理技術 35 1 5
H 単体製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 2, 912 466 127 3, 505
合 計 4, 663 794 315 5, 772
85
41
図 3 3 地 域 の 特 許 と 全 体 の 技 術 区 分 別 構 成 比
D 1. 2%
E 6. 5% C 1. 5%
G 0. 8%
B 7. 5% A
10. 8%
F 9. 3% H
62. 4%
日本公開／ 公表特許
4, 663件 H
58. 7%
F 1. 1% A 12. 1%
B 14. 9%
G 0. 1%
C 0. 9%
E 6. 8%
D 5. 4%
H 40. 3%
F 0. 3%
A 16. 8%
B 23. 8%
G 1. 6%
C 2. 2% E
14. 0% D 1. 0%
D 1. 7%
E 6. 9%
C 1. 5%
G 0. 7%
B 9. 4% A
11. 3%
F 7. 7% H
60. 7%
米国登録特許 794件
欧州アジア他 地域の公開／
公表特許 315件
全体 5, 722件
特 許 の 大 半 は 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 に 属 し て い る 。 こ の 区 分 は い わ ゆ る 装 置 レ シ
表 3、図 4 に 地 域 別 の 出 願 年 別 公 開 ／ 公 表・登 録 件 数 推 移 を 示 す 。件 数 全 体 で は 1996、1997 年 頃 か ら 急 速 に 増 加 し て お り 、 日 本 公 開 特 許 で 見 る と 10 年 前 と 現 在 で は 特 許 出 願 は 約 2. 5 倍 の ペ ー ス と な っ て い る も の と 推 定 さ れ る 。
表 4 に 出 願 人 国 籍 別 に 見 た 出 願 先 国 の 10 年 間 の 出 願 状 況 を 示 す 。出 願 先 国 と し て は 、日 本 、 米 国 が 圧 倒 的 に 多 く 、 韓 国 、 台 湾 な ど 半 導 体 製 造 及 び 半 導 体 製 造 装 置 産 業 の 盛 ん な 国 々 に 集 中 し て い る 。
一 方 、登 録 特 許 で 見 る と 日 本 は 米 国 の 半 分 以 下 に 留 ま っ て お り（ 図 6、図 7 参 照 ）、米 国 に 比 べ 、 特 許 取 得 に 消 極 的 で あ る 。
表 3 出 願 先 3 地 域 の 出 願 年 別 公 開 ／ 公 表 ・ 登 録 特 許 件 数 推 移
（件数） 優先権主張年 1994年1995年 1996年1997年 1998年1999年 2000年2001年2002年 2003年 合計 日本 276 320 442 574 511 508 674 693 527 138 4, 663
米国 21 41 48 95 113 144 148 124 55 5 794
欧州アジア他 9 13 23 32 29 43 38 63 59 6 315
合 計 306 374 513 701 653 695 860 880 641 149 5, 772 注 ： 日 本 は ATMS、 米 国 は Cl ai ms 、 欧 州 ア ジ ア 他 は WPI の 検 索 結 果 を 元 に 対 象 外 の 技 術 に 関 す る 特 許 文 献 を
除 い た 数 値 で あ る 。
図 4 出 願 先 3 地 域 の 出 願 年 別 公 開 ／ 公 表 ・ 登 録 特 許 件 数 推 移
（優先権主張年） 276
320
442
574
511 508
674
693
527
138
21
41 48
95
113
144 148
124
63
55
5 59
6 43 38
32 29 23
13 9
0 100 200 300 400 500 600 700 800
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 日本
米国
欧州アジア他
（件数）
注 ： 米 国 は 登 録 特 許 件 数 、 そ れ 以 外 は 公 開 ／ 公 表 特 許 件 数
表 4 出 願 人 国 籍 別 出 願 先 国 別 出 願 件 数
（件数）
公開／公表特許件数 登録特許件数
日本 欧州アジア他 日本 米国
アイルランド 0 1 0 1
イギリス 8 4 0 1
イスラエル 2 0 0 0
イタリア 4 0 0 1
欧州特許 38 7 0 2
オーストリア 1 0 0 1
オランダ 2 0 0 0
カナダ 1 0 0 0
韓国 105 144 19 21
シンガポール 1 0 0 1
スイス 2 0 0 0
スウェーデン 4 0 0 1
台湾 5 69 0 13
中国 0 8 0 0
デンマーク 0 1 0 0
ドイツ 31 54 2 8
日本 3, 857 0 327 125
ノルウェー 1 0 1 0
フィンランド 0 1 0 0
フランス 14 14 2 4
米国 587 0 20 615
ロシア連邦 0 12 0 0
合計 4, 663 315 371 794
図 5 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 主 要 出 願 人 国 籍 別 年 推 移
（優先権主張年） 276
320
442
574
511 508
674
693
527
138 237
266
361
454
406
358
531
482
138
26 37
61
87
67
118 126
41
24
4 13 12
24 20 14
4 8 6
624
0 100 200 300 400 500 600 700 800
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 年間合計出願件数
出願人国籍 日本 出願人国籍 米国 出願人国籍 韓国
（件数）
図 6 米 国 を 出 願 先 国 と す る 登 録 特 許 の 主 要 出 願 人 国 籍 別 年 推 移
（優先権主張年） 21
41
48
95
113
144
148
124
55
5 30
77
89
118
101
47
8
15 17
38
16
2 2
5 5
1 2 3 3
31 15
5 102
16
8 5
0 20 40 60 80 100 120 140 160
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 年間合計出願件数
出願人国籍 米国 出願人国籍 日本 出願人国籍 韓国
（件数）
図 7 日 米 を 出 願 先 国 と す る 登 録 特 許 の 出 願 件 数 収 支 日本を出願先国とする
登録特許 371件
日本 88. 1% 米国
5. 4% その他
6. 5%
米国を出願先国とする 登録特許 794件
米国 77. 5% 日本
15. 7%
その他 6. 8%
125
20
米国から 日本へ出願 日本から 米国へ出願
第 4 節 技 術 区 分 別 動 向 分 析
日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る 特 許 出 願 3, 857 件 及 び 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る 登 録 特 許 635 件 に つ い て 技 術 区 分 別 動 向 を 示 す 。
表 5 日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 技 術 区 分 別 出 願 件 数 推 移
（件数） 優先権主張年1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計 A 工場生産管理技術 18 33 57 52 39 52 54 61 58 23 447
B 品質管理技術 29 28 27 40 32 44 33 32 47 8 320
C 短納期化技術 4 6 7 8 9 7 9 11 5 0
D イールド向上技術 1 6 4 2 3 6 11 9 3 1 46
E 複数製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 10 10 21 9 21 18 39 85 27 3 243
F 搬送管理技術 46 37 42 78 35 20 24 50 38 16 386
G クリーンルーム管理技術 1 3 2 6 3 3 4 3 3 1
H 単体製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 128 143 201 259 264 208 357 373 301 86 2, 320 合 計 237 266 361 454 406 358 531 624 482 138 3, 857 66
29
注 ： H 区 分 の 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 に は 装 置 レ シ ピ を 含 ん で い る 。 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 に 含 ま れ る 日 本 出 願 人 国 籍 の 件 数 。
表 6 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る 技 術 区 分 別 登 録 特 許 出 願 件 数 推 移
（件数） 優先権主張年1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計
A 工場生産管理技術 1 2 0 9 8 21 6 17 9 1 74
B 品質管理技術 2 2 1 9 6 16 26 13 9 1 85
C 短納期化技術 0 0 0 1 1 3 0 0 1 0 6
D イールド向上技術 0 1 1 1 6 12 8 5 5 0
E 複数製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 4 3 3 1 5 4 8 9 5 0
F 搬送管理技術 0 0 3 0 0 0 2 0 0 0 5
G クリーンルーム管理技術 0 0 1 0 0 0 0 0 0 0 1
H 単体製造装置ﾌﾟﾛｾｽ管理技術 14 24 21 60 66 64 55 58 18 3 383
合 計 21 32 30 81 92 120 105 102 47 5 635
39 42
注：H 区 分 の 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 に は 装 置 レ シ ピ を 含 ん で い る 。日 本 と 米 国 の 登 録 特 許 に お け る 米 国 出 願 人 国 籍 の 件 数
図 8 日 本 と 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る 集 団 の 技 術 区 分 別 構 成 比 比 較 日本を出願人国籍とする公開／公表特許
H 60. 2% A
11. 6% F 10. 0%
B 8. 3%
D 1. 2% G
0. 8% C
1. 7% E 6. 3%
米国を出願人国籍とする日米登録特許
H 60. 3% B
13. 4% A 11. 7%
E 6. 6%
D 6. 1%
C 0. 9%
G 0. 2% F
0. 8%
日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の う ち 最 も 多 い の は 技 術 区 分 H（ 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 ／ 装 置 レ シ ピ ） で あ る 。 こ の 部 分 は 半 導 体 製 造 プ ロ セ ス 全 体 を 広 く カ バ ー す る 個 別 の 要 素 技 術 を す べ て 含 む た め 、 日 本 に 限 ら ず 多 く な っ て い る 。
ま た 、技 術 区 分 A（ 工 場 生 産 技 術 ）、技 術 区 分 B（ 品 質 管 理 技 術 ）、技 術 区 分 E（ 複 数 装 置 管 理 技 術 ） の 3 つ は 日 米 を 問 わ ず 共 通 し て 多 い と 言 え る 。 A と B は 従 来 か ら あ る 総 合 的 な 管 理 技 術 で あ り 、 一 方 E は ネ ッ ト ワ ー ク を 中 心 と し た 新 し い 管 理 技 術 と も 言 え よ う 。
日 本 の 特 徴 は 技 術 区 分 F （ 搬 送 管 理 技 術 ） が 多 い こ と で 、 反 面 、 米 国 に 比 べ て 技 術 区 分 B
（ 品 質 管 理 技 術 ）が 比 較 的 少 な い こ と が 挙 げ ら れ る 。技 術 区 分 F（ 搬 送 管 理 技 術 ）は 1997 年 に ピ ー ク を 迎 え た あ と 、 2000 年 以 降 再 び 急 増 す る 傾 向 を 示 し て い る 。
第 2 章 詳 細 分 析 結 果
第 1 節 プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許
本 調 査 で は 、 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 の な か で も 、 特 に ソ フ ト ウ ェ ア 関 連 特 許 に 注 目 し て い る 。
半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 は 、 最 終 的 に は ソ フ ト ウ ェ ア に よ っ て 実 現 さ れ る 技 術 で あ り 、 特 に 個 々 の 製 造 工 程 を 具 体 的 に 記 述 し た 制 御 プ ロ グ ラ ム で あ る 装 置 レ シ ピ や 、 多 数 の 装 置 レ シ ピ を 使 い 分 け る プ ロ グ ラ ム 管 理 の 技 術 が 重 要 で あ る 。
今 回 、日 本 を 出 願 先 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 4663 件 の う ち 、プ ロ グ ラ ム に 関 す る も の は 926 件 、 同 じ く 登 録 特 許 で は 日 本 は 371 件 中 75 件 、 米 国 を 出 願 先 と す る 登 録 特 許 で は 794 件 中 207 件 で あ っ た 。 表 7、 図 9∼ 11 に 出 願 年 別 推 移 を 示 す 。
表 7 出 願 先 国 別 出 願 件 数 お よ び 登 録 件 数 に 占 め る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 件 数
（件数） 優先権主張年 1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計 日本を出願先とする出願件数 276 320 442 574 511 508 674 693 527 138 4, 663
プログラムに関する特許 36 33 61 97 117 109 119 166 151 37 926
出願人国籍が日本 29 24 53 73 98 82 77 148 137 37 758
出願人国籍が米国 5 6 7 19 12 23 41 7 3 0 123
日本を出願先とする登録件数 46 54 63 76 68 36 19 5 4 0 371
プログラムに関する特許 6 9 7 14 22 12 3 2 0 0 75
出願人国籍が日本 4 7 6 11 21 11 1 2 0 0 63
出願人国籍が米国 1 0 0 2 1 1 2 0 0 0 7
米国を出願先とする登録件数 21 41 48 95 113 144 148 124 55 5 794
プログラムに関する特許 5 11 19 21 28 37 44 29 12 1 207
出願人国籍が日本 1 2 3 2 2 3 6 2 0 0 21
出願人国籍が米国 4 9 16 18 25 33 35 27 11 1 179
注 ： 日 本 は ATMS、 米 国 は Cl ai ms の 検 索 結 果 を 元 に 対 象 外 の 技 術 に 関 す る 特 許 文 献 を 除 い た 数 値 で あ る
（ 詳 細 は 本 編 第 1 章 第 2 節 1． を 参 照 ）。 な お 、 日 本 を 出 願 先 と す る 登 録 特 許 は 出 願 件 数 の 内 数 で あ る 。
図 9 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 に 占 め る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 割 合 と 出 願 人 国 籍 分 布
13.0%
10.3%
13.8%
16.9%
22.9%
21.5%
28.7%
26.8%
17.7%
24.0%
0 20 40 60 80 100 120 140 160 180 200
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 0% 5% 10% 15% 20% 25% 30% 35% 出願人国籍がその他
出願人国籍が米国 出願人国籍が日本
日本公開/ 公表特許に占める割合
（優先権主張年）
（件数）
図 10 日 本 登 録 特 許 に 占 め る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 割 合 と 出 願 人 国 籍 分 布
13.0%
16.7%
33.3%
0.0% 0.0% 32.4%
18.4%
11.1%
40.0%
15.8%
0 5 10 15 20 25
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 0% 5% 10% 15% 20% 25% 30% 35% 40% 45% 出願人国籍がその他
出願人国籍が米国 出願人国籍が日本 日本登録特許に占める割合
（優先権主張年）
（件数）
図 11 米 国 登 録 特 許 に 占 め る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 割 合 と 出 願 人 国 籍 分 布
23.8%
26.8%
25.7%
21.8%
20.0% 29.7%
23.4% 39.6%
22.1%
24.8%
0 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 0% 5% 10% 15% 20% 25% 30% 35% 40% 45% 出願人国籍がその他
出願人国籍が米国 出願人国籍が日本 米国登録特許に占める割合
（優先権主張年）
（件数）
米 国 の 登 録 特 許 に お い て は 、プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 登 録 特 許 に し め る 割 合 は 1996 年 に 一 端 ピ ー ク を 迎 え た も の の 、 98 年 以 降 じ り じ り と 増 加 傾 向 に あ る 。 直 近 の 2002 年 、 2003 年 の 出 願 分 も す で に か な り の 件 数 が 現 れ て お り 、 今 後 さ ら に 増 加 す る と 予 想 さ れ る 。
さ ら に 日 本 は 、 公 開 ／ 公 表 特 許 、 登 録 特 許 の い ず れ を 見 て も 増 加 を 続 け て い る こ と が わ か る 。
日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 技 術 区 分 別 分 布 及 び 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る 登 録 特 許 の 技 術 区 分 別 分 布 を 図 12 に 示 す 。そ れ ぞ れ の 母 集 団 と 比 較 す る と 日 米 と も に 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 が 大 幅 に 増 加 し 、品 質 管 理 技 術 も 増 加 し た 。一 方 、 日 本 の 特 徴 で あ っ た 搬 送 技 術 は プ ロ グ ラ ム 特 許 と し て は 比 率 は 低 下 し て い る 。
図 12 プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 出 願 人 国 籍 で 見 た 技 術 区 分 分 布 日本を出願人国籍とする公開／公表特許
H 71. 5% A
9. 9% F 4. 0%
B 9. 2%
D 1. 1% G
0. 3% C
1. 2% E 2. 9%
米国を出願人国籍とする日米登録特許
H 78. 3% B
8. 9% E 6. 4%
D 4. 9%
F 1. 0% A
0. 5%
プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 に 含 ま れ る 主 な 要 素 技 術 を 図 13、 図 14 に 示 す 。 特 許 を 出 願 し て い る 日 米 の 半 導 体 製 造 装 置 メ ー カ の 得 意 と す る 分 野 の 違 い が 表 れ て い る と 見 ら れ る 。
図 13 日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 主 な 要 素 技 術 の 比 較
21 21 25
165 178 0 20 40 60 80 100 120 140 160 180 200
H- 13CMP／研磨 B- 04不良解析 A- 02工程管理 H- 07フォトリソグラフィ H- 16検査測定
（件数）
注 ： 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 か ら 抽 出 。
図 14 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る プ ロ グ ラ ム に 関 す る 登 録 特 許 の 主 な 要 素 技 術 の 比 較
11 13
14
24
51
0 10 20 30 40 50 6
H- 07フォトリソグラフィ H- 13CMP／研磨 H- 16検査測定 H- 11エッチング H- 02CVD
（件数） 0
注 ： 日 米 の 登 録 特 許 か ら 抽 出 。
第 2 節 レ シ ピ に 関 す る 特 許
プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の う ち 、 注 目 す べ き 特 許 と し て 、 レ シ ピ に 関 す る も の を 抽 出 し て い る 。
レ シ ピ に 関 す る 特 許 は 、日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 で は プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 926 件 の う ち 155 件 、 米 国 登 録 特 許 で は プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 207 件 の う ち 46 件 と な っ て い る 。 図 15、 図 16 に 示 し た よ う に 、日 米 と も に プ ロ グ ラ ム 特 許 の 増 加 傾 向 に 符 合 し て レ シ ピ 特 許 も 増 加 傾 向 に あ る 。
表 8 レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 出 願 年 別 推 移
（件数） 1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計
日本公開／公表特許 3 2 10 15 20 24 34 26 17 4 15
出願人国籍 日本 2 2 8 11 17 16 12 25 15 4 112
出願人国籍 米国 1 0 2 4 2 8 22 0 2 0
出願人国籍 英国 0 0 0 0 1 0 0 0 0 0 1
出願人国籍 韓国 0 0 0 0 0 0 0 1 0 0 1
米国登録特許 0 1 2 3 8 9 8 11 3 1 46
出願人国籍 米国 0 1 2 3 8 7 8 10 3 1
出願人国籍 日本 0 0 0 0 0 1 0 1 0 0 2
出願人国籍 フランス 0 0 0 0 0 1 0 0 0 0 1
優先権主張年
5 41
43
図 15 日 本 公 開 特 許 に お け る レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 出 願 年 別 推 移
0 5 10 15 20 25 30 35 40
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 出願人国籍 その他
出願人国籍 米国 出願人国籍 日本
（件数）
（優先権主張年）
図 16 米 国 登 録 特 許 に お け る レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 出 願 年 別 推 移
0 2 4 6 8 10 12
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 出願人国籍 その他
出願人国籍 米国 出願人国籍 日本
（件数）
（優先権主張年）
レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 技 術 区 分 別 分 布 は 以 下 の と お り で あ る 。 ほ と ん ど が 単 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 ／ 装 置 レ シ ピ の 技 術 区 分 と な っ て い る 。
図 17 レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 出 願 先 国 別 技 術 区 分 と 日 米 の 出 願 人 国 籍 で 見 た 技 術 区 分 分 布
日本を出願先国とするレシピに 関する公開／公表特許
H 85. 2% A
5. 8% B
5. 8% F 1. 3% E 1. 9%
米国を出願先国とするレシピに 関する登録特許 B
10. 9% E 4. 3%
H 84. 8%
日本を出願人国籍とするレシピに 関する公開／公表特許
H 82. 1% E
1. 8% F 1. 8% B
8. 0% A
6. 3%
米国を出願人国籍とするレシピに 関する登録特許 B
8. 9%
H 86. 7% E
4. 4%
第 3 節 イ ー ル ド に 関 す る 特 許
今 回 の 調 査 で は 、 注 目 し た キ ー ワ ー ド と し て イ ー ル ド が あ り 、 こ れ に つ い て も 特 許 を 抽 出 し て 動 向 を 調 査 し た 。
日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 4663 件 の う ち イ ー ル ド あ る い は 歩 留 と い う キ ー ワ ー ド が 含 ま れ る 特 許 件 数 は 214 件 。 米 国 登 録 特 許 で は Yi el d を 含 む 特 許 は 794 件 中 65 件 で あ っ た 。
表 9 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 推 移
（件数） 優先権主張年 1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計
欧州特許 0 0 0 0 0 0 1 2 0 0 3
韓国 0 1 0 0 0 0 0 0 0 0 1
台湾 0 0 0 0 0 0 1 0 1 0 2
日本 12 22 17 20 26 17 32 33 15 7 201
米国 1 0 0 0 1 5 0 0 0 0 7
合 計 13 23 17 20 27 22 34 35 16 7 214
注 ： 便 宜 上 、 優 先 出 願 国 を 出 願 人 国 籍 と し て い る た め 、 欧 州 特 許 庁 Eur opean Pat ent Of f i c e( EPO) へ の 出 願 を 優 先 出 願 と し て い る 特 許 に つ い て は 、 出 願 人 国 籍 を 欧 州 特 許 と 表 記 し て い る 。
表 10 米 国 を 出 願 先 国 と す る 登 録 特 許 の 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 推 移
（件数） 優先権主張年 1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年 合計
韓国 0 0 0 0 1 0 0 0 0 0 1
台湾 0 0 0 1 0 1 0 0 0 0 2
日本 1 2 2 0 2 0 2 3 0 0
米国 1 4 2 5 7 12 6 9 4 0
合 計 2 6 4 6 10 13 8 12 4 0
12 50 65
図 18 イ ー ル ド に 関 す る 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 の 出 願 年 別 推 移
0 5 10 15 20 25 30 35 40
1994年1995年1996年 1997年1998年1999年 2000年2001年 2002年2003年
韓国 台湾 欧州特許 米国 日本
（件数）
（優先権主張年） 注 ： 便 宜 上 、 優 先 出 願 国 を 出 願 人 国 籍 と し て い る た め 、 欧 州 特 許 庁 Eur opean Pat ent Of f i c e( EPO) へ の 出 願
を 優 先 出 願 と し て い る 特 許 に つ い て は 、 出 願 人 国 籍 を 欧 州 特 許 と 表 記 し て い る 。
図 19 イ ー ル ド に 関 す る 米 国 登 録 特 許 の 出 願 年 別 推 移
0 2 4 6 8 10 12 14
1994年 1995年 1996年 1997年 1998年 1999年 2000年 2001年 2002年 2003年
韓国 台湾 日本 米国
（件数）
（優先権主張年）
図 20 イ ー ル ド に 関 す る 特 許 の 出 願 先 国 別 技 術 区 分 と 日 米 の 出 願 人 国 籍 で 見 た 技 術 区 分 分 布
日本を出願先国とするイールドに 関する公開／公表特許
H 47. 2% A
10. 3% F 6. 1%
E 2. 3%
G 0. 5%
B 14. 5%
D 19. 2%
米国を出願先国とするイールドに 関する登録特許
B 24. 6%
D 40. 0% H
21. 5% A 10. 8%
E 1. 5% C 1. 5%
日本を出願人国籍とするイールドに 関する公開／公表特許
D 17. 9% B
13. 9%
G 0. 5% E 2. 5% F
6. 5% A
10. 0% H
48. 8%
米国を出願人国籍とするイールドに 関する登録特許
H 22. 0%
E 2. 0%
C 2. 0% A
8. 0% B 18. 0%
D 48. 0%
イ ー ル ド に 関 す る 特 許 に 含 ま れ る 主 な 要 素 技 術 を 図 22、 図 23 に 示 す 。 日 本 の 特 許 出 願 人 は 半 導 体 メ ー カ が 大 半 で （ 図 21 参 照 ）、 比 較 的 幅 広 い 要 素 技 術 に つ い て 出 願 が 見 ら れ る 。
図 21 イ ー ル ド に 関 す る 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 の 上 位 出 願 人 日立製作所
29. 0%
松下電器産業 10. 8% 東芝
8. 2% ソニー
4. 3% 富士通
4. 3% その他
39. 0%
三菱電機 4. 3%
図 22 日 本 を 出 願 人 国 籍 と す る イ ー ル ド に 関 す る 公 開 ／ 公 表 特 許 特 許 の 主 な 要 素 技 術 の 比 較
10 11
21 26
39
0 5 10 15 20 25 30 35 40 45
A- 02工程管理 H- 07フォトリソグラフィ B- 04不良解析 D- 01イールド解析 H- 16検査測定
（件数）
図 23 米 国 を 出 願 人 国 籍 と す る イ ー ル ド に 関 す る 登 録 特 許 特 許 の 主 な 要 素 技 術 の 比 較
21 6
0 5 10 15 20 25
D- 01イールド解析 B- 04不良解析
（件数）
第 3 章 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 の リ ー ダ 第 1 節 特 許 の 上 位 出 願 人
本 テ ー マ の 調 査 期 間 の 特 許 出 願 人 を 調 べ た 結 果 を 示 す 。
図 24 は 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 4663 件 の 出 願 人 （ 機 関 ）、 図 25 は 米 国 を 出 願 先 国 と す る 登 録 特 許 794 件 の 出 願 人 （ 機 関 ） で あ る 。 日 米 と も 有 力 な 半 導 体 メ ー カ や 製 造 装 置 メ ー カ が 上 位 を 占 め て い る が 、特 に AMAT や キ ヤ ノ ン は 日 米 と も に 上 位 に ラ ン ク さ れ 、本 テ ー マ に お け る 特 許 出 願 に 積 極 性 が う か が え る 。
図 24 日 本 を 出 願 先 国 と す る 出 願 件 数 に 占 め る 上 位 機 関 の 構 成 比
日立製作所
8. 6% キヤノン 8. 5%
東芝 6. 1%
AMAT 5. 7%
大日本スクリーン製造 4. 9% その他
42. 6%
三菱電機 3. 3%
日立国際電気 4. 0% 松下電器産業
3. 5% 東京エレクトロン
4. 0% ソニー
4. 2% ＮＥＣ 4. 6%
図 25 米 国 を 出 願 先 国 と す る 出 願 件 数 に 占 め る 上 位 機 関 の 構 成 比
AMD 16. 3%
AMAT 13. 2%
I BM 4. 7%
TSMC 8. 2%
Mi c r on 3. 4% その他
43. 2%
ＮＥＣ 1. 9% Sams ung
1. 7%
LAM Res ear c h 1. 9%
TI 2. 5%
キヤノン 3. 1%
第 2 節 大 学 ／ 研 究 機 関 ／ ベ ン チ ャ ー の 出 願 人 動 向 1． 大 学 の 出 願 人 動 向
本 テ ー マ で あ る 「 半 導 体 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 」 に つ い て は 、 生 産 現 場 と 密 接 に 関 わ る 技 術 で も あ り 、 半 導 体 製 造 メ ー カ お よ び 半 導 体 製 造 装 置 メ ー カ が 中 心 で 、 大 学 に よ る 出 願 は ほ と ん ど な い 。
日 本 の 公 開 ／ 公 表 特 許 に お い て は 、大 学 か ら の 出 願 は 20 件 と 極 め て 少 な く 、同 一 機 関 あ る い は 個 人 で 2 件 以 上 の も の は 以 下 の 2 つ し か な い 。 ま た 、 個 人 出 願 は す べ て 企 業 等 と の 共 同 出 願 と な っ て い る 。 企 業 と の 共 同 研 究 は 20 件 中 8 件 あ る 。
米 国 の 登 録 特 許 に お い て は 、 大 学 か ら の 出 願 は 794 件 中 わ ず か 2 件 と 皆 無 に 等 し い 。
表 11 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 大 学 に よ る 出 願 （ 2 件 以 上 の も の ）
出願人（敬称略） 件数
コロンビア大学 3
大見忠弘( 東北大学) *1、*2 2
注 ： *1 日 本 酸 素 と 共 同 出 願 *2 ウ ル ト ラ ク リ ー ン テ ク ノ ロ ジ ー 開 発 研 究 所 と 共 同 出 願
2． 研 究 機 関 の 出 願 人 動 向
研 究 機 関 も 極 め て 少 な い 。 な お 、 日 本 の 公 開 ／ 公 表 特 許 で は 、 民 間 の 研 究 を 目 的 と す る 企 業 で あ る 株 式 会 社 半 導 体 先 端 テ ク ノ ロ ジ ー ズ（ Sel et e）が 20 件 、株 式 会 社 半 導 体 エ ネ ル ギ ー 研 究 所 が 15 件 あ る （ 両 社 と も 共 同 出 願 を 含 む ）。 一 方 、 米 国 の 登 録 特 許 は 一 層 少 な く 、 シ ン ガ ポ ー ル の 研 究 機 関 で あ る I ns t i t ut e of Mi c r oel ec t r oni c s （ I ME） が 2 件 と ト ッ プ と な っ て い る 。
表 12 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の 研 究 機 関 に よ る 出 願 件 数
出願人 件数 出願人 件数
科学技術振興機構 9 北九州産業学術推進機構 1
工業技術研究院（台湾） 3 熊本テクノポリス財団 1
産業技術総合研究所（AI ST） 3 理化学研究所 1
科学技術庁 1 合計 19
3． ベ ン チ ャ ー の 出 願 人 動 向
こ の 分 野 で は ベ ン チ ャ ー 企 業 の 出 願 も 少 な い 。 な お 、 ベ ン チ ャ ー の 定 義 は 必 ず し も 明 確 で な い が 、 こ こ で は 大 学 発 ベ ン チ ャ ー （ 大 学 の 特 許 や 研 究 成 果 を 事 業 化 す る 起 業 、 大 学 教 員 や 学 生 に よ る 起 業 、大 学 や TL O が 出 資 し た 起 業 ）、ス ピ ン オ フ ベ ン チ ャ ー（ 企 業 に 眠 る 有 望 な 資 源 を 既 存 組 織 か ら 切 り 離 す 起 業 ）、お よ び 経 済 産 業 省・地 方 自 治 体 な ど の ベ ン チ ャ ー 振 興 施 策 の 対 象 企 業 を ベ ン チ ャ ー と し て 取 り 上 げ た 。
日 本 に 4 件 、 米 国 に 1 件 出 願 し て い る フ ァ ブ ソ リ ュ ー シ ョ ン は 、 NEC か ら の ス ピ ン オ フ ベ ン チ ャ ー と し て 知 ら れ る 。 日 本 に 4 件 、 米 国 に 2 件 出 願 し て い る PDF Sol ut i ons は 、 米 国 カ ー ネ ギ ー メ ロ ン 大 学 か ら の 大 学 発 ベ ン チ ャ ー と し て 知 ら れ る 。
表 13 日 本 を 出 願 先 国 と す る 公 開 ／ 公 表 特 許 の ベ ン チ ャ ー に よ る 出 願 件 数
出願人 件数 備考
ファブソリューション 4 ＮＥＣからのスピンオフベンチャー
PDF Sol ut i ons 4 大学発ベンチャー( Car negi e Mel on Uni v. ) ウルトラクリーンテクノロジー開発研究所 1 大学発の技術の事業化
つくばセミテクノロジー 1 いばらきベンチャー企業育成ファンド
ナノジオメトリ研究所 1 神奈川県創造的中小企業振興事業
表 14 米 国 を 出 願 先 国 と す る 登 録 特 許 の ベ ン チ ャ ー に よ る 登 録 件 数
出願人 件数 備考
PDF Sol ut i ons 2 大学発ベンチャー( Car negi e Mel on Uni v. )
ファブソリューション 1 ＮＥＣからのスピンオフベンチャー
第 3 節 詳 細 分 析 に お け る 特 許 出 願 人 別 分 析
本 テ ー マ で は 詳 細 分 析 と し て 、 プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 、 レ シ ピ に 関 す る 特 許 、 イ ー ル ド に 関 す る 特 許 な ど を 抽 出 し て 、 動 向 分 析 を 行 な っ て い る が 、 そ れ ぞ れ の 分 析 で 判 明 し た 特 許 出 願 人 に つ い て 日 米 で 大 き な 特 徴 が 見 ら れ た 。
1． プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 出 願 人 別 上 位 ラ ン キ ン グ
日 本 の 公 開 ／ 公 表 特 許 に お い て は 、 プ ロ セ ス 管 理 技 術 全 体 で は 最 上 位 に い た 日 立 、 キ ヤ ノ ン に 代 わ っ て 東 芝 、 大 日 本 ス ク リ ー ン 製 造 が 上 位 に 上 が っ て き て い る 。 ま た 、 米 国 登 録 特 許 で 圧 倒 的 に 多 数 の 出 願 件 数 を 有 す る ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ（ AMAT）社 も 6 位 に な っ て い る 。
米 国 の 登 録 特 許 に お い て は 、 ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ 社 （ AMAT） と ア ド バ ン ス ド ・ マ イ ク ロ ・ デ バ イ セ ズ 社 （ AMD） が 突 出 し て お り 、 こ の 2 社 で 50％ を 超 え る 。 プ ロ セ ス 管 理 技 術 全 体 で は 上 位 に い た TSMC は 、 プ ロ グ ラ ム 特 許 は ほ と ん ど な い 。
図 26 プ ロ グ ラ ム に 関 す る 特 許 の 日 米 に お け る 上 位 人 出 願 人 の 比 較
プログラムに関する特許 プログラムに関する特許
日本公開／公表特許における 米国登録特許における
東芝 10. 5%
NEC 5. 8%
日立製作所 5. 6% その他
60. 4%
AMAT 4. 8%
ソニー 5. 5% 大日本ｽｸﾘｰﾝ製造
7. 3%
AMAT 40. 6%
I BM 3. 8% その他
41. 0%
AMD 14. 6%
2． レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 出 願 人
レ シ ピ に 関 す る 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 で は 、ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ 社（ AMAT）が 27 件 で ト ッ プ と な っ て い る 。2 位 の ニ コ ン 、大 日 本 ス ク リ ー ン 製 造 は 12 件 づ つ で ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ の 半 分 の 件 数 に も 及 ん で い な い 。
米 国 登 録 特 許 で は 、機 関 数 は わ ず か 10 機 関 で あ り 、個 人 出 願 の 3 件 も ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ 社 （ AMAT） に 所 属 し て い る と 見 ら れ る こ と か ら 、 同 社 が 実 質 7 割 を 占 め て い る 。
こ の よ う に 、 レ シ ピ に 関 す る 特 許 で は 、 ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ 社 （ AMAT） の 出 願 が 圧 倒 的 に 多 い こ と が わ か る 。
図 27 レ シ ピ に 関 す る 特 許 の 日 米 に お け る 上 位 人 出 願 人 の 比 較
日本公開／公表特許における 米国登録特許における
レシピに関する特許 レシピに関する特許
AMAT 17. 2%
ニコン 7. 6%
大日本ｽｸﾘｰﾝ製造 7. 6% ソニー
6. 4% 東芝 6. 4% NEC 5. 7% その他
36. 3%
安藤電気 3. 8%
日立製作所 4. 5%
キヤノン 4. 5%
AMAT 62. 8% AMAT( 個人)
7. 0% その他
30. 2%
3． イ ー ル ド に 関 す る 特 許 の 出 願 人
日 本 の 出 願 人 は 半 導 体 メ ー カ に 集 中 し て い る の に 対 し て 、 米 国 で は 新 興 の イ ー ル ド マ ネ ジ メ ン ト 企 業 を 含 む さ ま ざ ま な 種 類 の 出 願 人 が 登 場 し て い る 。
図 28 イ ー ル ド に 関 す る 特 許 の 日 米 に お け る 上 位 人 出 願 人 の 比 較
日本公開／公表特許における 米国登録特許における
イールドに関する特許 イールドに関する特許
日立製作所 29. 0%
松下電器産業 10. 8% 東芝
8. 2% ソニー
4. 3% その他
39. 0%
富士通
4. 3% 三菱電機 4. 3%
AMD 13. 6%
TI 7. 6% AMAT
6. 1% その他
50. 0%
TSMC 7. 6% Yi el d Dynami c s
6. 1%
I BM 9. 1%
4． 複 数 製 造 装 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 に 関 す る 特 許 の 出 願 人
こ の 節 の 最 後 に 、 イ ー ル ド を 除 く 他 の 詳 細 分 析 項 目 （ プ ロ グ ラ ム 、 レ シ ピ ） に 横 断 す る 形 で 含 ま れ る 重 要 な 要 素 技 術 で あ る 複 数 製 造 措 置 プ ロ セ ス 管 理 技 術 に つ い て 、 主 要 な 出 願 人 を 掲 げ る 。 他 の 分 析 と 同 様 に ア プ ラ イ ド マ テ リ ア ル ズ （ AMAT） 社 の 突 出 が 見 て 取 れ る 。
図 29 日 本 公 開 ／ 公 表 特 許 に お け る 上 位 出 願 人 の 技 術 区 分 別 出 願 件 数 分 布
2 2
11
1 1
1 4
6
1
0 2 4 6 8 10
東芝 東京エレクトロン キヤノン 大日本スクリーン AMAT
E- 01マルチチャンバ E- 02装置結合 E- 03ネットワーク E- 99その他 4
4
（件数） 12
第 4 節 特 許 出 願 か ら 登 録 ま で の 期 間 に 関 す る 考 察
特 許 に よ る 保 護 を 得 る た め に 、 特 許 出 願 か ら 特 許 取 得 ま で の 所 要 期 間 を 短 く す る こ と が 、 原 則 的 に は 望 ま し い 。 し か し な が ら 、 日 本 に お け る 特 許 取 得 に 要 す る 期 間 は 半 導 体 分 野 の 一 般 的 な 技 術 の サ イ ク ル と 比 較 し て も 長 い 。
企 業 に よ っ て は 、 意 図 的 に 特 許 取 得 の タ イ ミ ン グ を 制 御 す る こ と も あ り 得 る が 、 平 均 的 に 特 許 化 が 遅 い の は 、半 導 体 技 術 の 技 術 進 展 の ス ピ ー ド を 考 慮 す る と 、望 ま し い 傾 向 で は な い 。
で き る だ け 早 期 に 特 許 化 し て 、特 許 化 し た 技 術 を 積 極 的 に 活 用 す る こ と が 企 業 に と っ て も 、 ま た 、 技 術 普 及 と い う 特 許 制 度 の 趣 旨 か ら も 望 ま し い こ と で あ り 、 今 後 の 日 本 出 願 人 の 特 許 取 得 の ス ピ ー ド に 対 す る 戦 略 性 が 求 め ら れ る 。
