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第 5 章 p - ドリフト層を有する SiCGT のオン電圧劣化特性

5.4 SiCGT の最小点弧電流劣化

5.4.1 最小点弧電流劣化とオン電圧劣化との関係

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現象は最小点弧電流劣化呼ばれ、最小点弧電流の通電ストレス試験前後の増加量をIGTmin とする。最小点弧電流劣化が発生し、IGTminが大きくなると、駆動回路から供給される点 弧電流が不足し、SiCGT のターンオンができなくなる可能性がある。実際に、最小点弧電 流劣化したSiCGTを含む三相インバータを動作させると、SiCGTは破壊しないが、欠相し た三相波形が得られ、インバータとして正常に動作しなくなった。そのため、最小点弧電 流劣化の原因を調べ、対策を検討する必要がある。

図5. 11 RTにおけるSiCGTの最小点弧電流の通電ストレス時間依存性の推移

そこで、最小点弧電流劣化の原因について調べるために、SiCGTのアノード(A)-ゲート(G) 特性(ゲート特性)を測定した。測定した特性は、SiCGT のアノードとゲート間に存在する pn ダイオードの順方向の電流-電圧特性を示している。測定に用いた SiCGT のIGTminは、

0.15Aであった。測定には、テクトロニクス社製370カーブトレーサのAC半波モードを用

いた。図5. 12に通電ストレス試験前後のSiCGTのアノード(A)-ゲート(G)特性を示す。通電

ストレス試験後のアノード-ゲート間の電流は、通電ストレス試験前と比べて、0.1A~0.2A 程度増加している。ショックレー型積層欠陥が拡大した場合、順方向電圧は、増大(劣化) するが、図5. 12では順方向電圧が減少(電流が増加)している。

まず、順方向電圧が増大(劣化)しなかった原因について述べる。第 2.4.2 節で述べた順方 向電圧劣化は、電流の流れる方向とショックレー型積層欠陥が垂直に位置している場合に 発生する。SiCGTのアノード-ゲート間の電流は、nゲート層中を図5. 13のように[1100]方 向、もしくは、[1100]方向に流れる。ショックレー型積層欠陥は(0001)基底面上に存在し、

電流方向([1100]、もしくは、[1

100]方向)と平行であるため、順方向電圧が増加しなかった。

0 2 4 6 8 10

101 102 103

Current Stress Time [hour]

Minimum Gate Trigger Current ( IGTmin) [mA]

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図5. 12 通電ストレス試験前後のSiCGTのゲート特性(アノード(A)-ゲート(G)間の電流-電圧 特性、通電ストレス試験条件:通電電流50A、温度70℃、10時間)

図5. 13 SiCGTのアノード-ゲート間に流れる電流の{1120}面から見た模式図: アノード-ゲ

ート間の順方向に電流が流れる時、ベース領域では、図の矢印のように電流は{0001}面と平 行な方向に流れる。ショックレー型積層欠陥は{0001}面と平行に存在するため、電流は、シ ョックレー型積層欠陥によってさえぎられない。また、通電時、アノード側から正孔が、

ゲート側から電子が流れる。電流は最短距離を流れるため、図の矢印の箇所を流れる。そ のため電子と正孔の再結合は、アノードフィンガー周辺部で発生しやすくなる。

2.5 2.6 2.7 2.8 2.9 3

0 0.5 1 1.5 2

A-G Forward Voltage [V]

A-G Forward Current [A]

before Stress after Stress

anode (A)

gate (G) gate (G)

[0001]

[1100]

[1120]

_

_

+ +

+

+ + + +

+ +

+ + +

+

+ +

+

--

--

--

-- -

-base

anode finger

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次に、順方向電流が増加(順方向電圧が減少)した原因について述べる。前述のとおり、シ ョックレー型積層欠陥と電流の流れる方向が平行なため、ショックレー型積層欠陥を介し た再結合電流が発生したためと考えられる。アノード-ゲート間でショックレー型積層欠陥 を介したキャリアの再結合が発生すると、ゲート層への注入率が低下し、電流増幅率が低 下する。その結果、最小点弧電流劣化が発生していることが考えられる。順方向電流の増 加量が、最小点弧電流劣化量(IGTmin)とほぼ同じ値を示していることからも、アノード-ゲー ト間に、ターンオンに寄与しない電流が発生し、それが、最小点弧電流劣化を起こしてい ることが示唆される。

次に、最小点弧電流劣化とオン電圧劣化の関係について述べる。図5. 14に、図5. 10お よび図5. 11で示したSiCGTのVFとIGTminの関係を示す。VTが増加すると、IGTminも増

加する。VFとIGTminの相関係数は、0.95で、正の相関がある。オン電圧劣化は、ショック

レー型積層欠陥が原因であるため、最小点弧電流劣化もショックレー型積層欠陥に起因す ることが示唆される。

図5. 14 異なる12個のSiCGTより得られたVFとIGTminの相関(通電ストレス試験条件:通電

電流50A、温度70℃、10時間): 相関係数は0.95となった。