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実用デバイス材料としての

軽量なパワーデバイス 或いは Si 半導体デバイスでは実現できない過酷な環境で動作する耐熱 耐放射線性デバイスの作製材料として期待されている さらに SiC は Si 同様熱酸化により絶縁膜を作製できるため 次世代の MOS(Metal Oxide Semiconductor) 型パワーデバイスの作

軽量なパワーデバイス 或いは Si 半導体デバイスでは実現できない過酷な環境で動作する耐熱 耐放射線性デバイスの作製材料として期待されている さらに SiC は Si 同様熱酸化により絶縁膜を作製できるため 次世代の MOS(Metal Oxide Semiconductor) 型パワーデバイスの作

... (Metal.Oxide.Semiconductor) として有望である。し かしこれまで試作された SiC.MOS 型パワーデバイスは、界面トラップ存在等によりチャネル移動 度が理論的な予想値よりはるかに小さく、その優れた特性を発揮できていないが現状である。これ ...

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目次 製品登録 Android 系デバイスの管理 デバイスの接続アプリ管理連絡先管理 SMS 管理音楽管理写真 ビデオ管理データ管理ツールキットダウンロードセッティング ios 系デバイスの管理 デバイスの接続 ios デバイス最適化メディア管理写真 ビデオ管理連絡先管理 SMS 管理ツールキット

目次 製品登録 Android 系デバイスの管理 デバイスの接続アプリ管理連絡先管理 SMS 管理音楽管理写真 ビデオ管理データ管理ツールキットダウンロードセッティング ios 系デバイスの管理 デバイスの接続 ios デバイス最適化メディア管理写真 ビデオ管理連絡先管理 SMS 管理ツールキット

... ●デバイス接続 MobilieGo を使って、デバイスを USB でパソコンと接続できます。Android 系デバイス場合、Wi-fi で接続 することも可能です。USB 接続場合、デバイスを自動的に認識され、ソフトで表示されますが、Wi-fi でデバ イスを接続する場合、「すぐ接続」をクリックしてください。 ...

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はじめに Setup Tool は MFP の操作パネルからではなく PC で デバイスアドレス帳 部門リスト デバイスの部門管理設定 デバイスユーザーリスト デバイス認証設定 および デバイスネットワークグループ を登録できます ファイルは USB フラッシュドライブ ( メモリースティック )

はじめに Setup Tool は MFP の操作パネルからではなく PC で デバイスアドレス帳 部門リスト デバイスの部門管理設定 デバイスユーザーリスト デバイス認証設定 および デバイスネットワークグループ を登録できます ファイルは USB フラッシュドライブ ( メモリースティック )

... コピーカウンター設定をあらかじめ合計に設定する。また、個別使用制限を編集したい場合は、 デバイス部門管理設定コピーカウンター設定をあらかじめ個別に設定する。 部門リスト使用制限設定と、デバイス部門管理機能別カウンター制限枚数表示は、デバ イス部門管理コピーカウンター設定 ( 合計 / 個別 ) ...

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無線デバイスの監視

無線デバイスの監視

... Clients 順に選択します。 ステップ 2 クライアントをトラブルシューティングするには、クライアント MAC アドレスを Client フィー ルドに入力して Troubleshoot をクリックします。クライアントトラブルシューティングオプ ションが表示されます( 図 6-3 参照)。MAC ...

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Ⅰ 実用新案を出願する前に 1. 事前調査 実用新案を出願しようとする方は 事前に実用新案公報 特許公報 公開特許公報などを調査して下さい それは次の理由からです (1) 公知の有無の調査資料として上記の公報等に掲載されている発明 考案はすべて公知 ( 公然と知られていること ) の技術となります

Ⅰ 実用新案を出願する前に 1. 事前調査 実用新案を出願しようとする方は 事前に実用新案公報 特許公報 公開特許公報などを調査して下さい それは次の理由からです (1) 公知の有無の調査資料として上記の公報等に掲載されている発明 考案はすべて公知 ( 公然と知られていること ) の技術となります

... (2)明細書と図面作成手引きとして 実用新案を出願するには、所定様式に従って、願書、実用新案登録請求範囲、 明細書、図面、要約書を作成して特許庁に提出(出願)しなければなりません。 この場合キーポイントになる実用新案登録請求範囲、明細書と図面書き ...

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平成 7 年度修士論文内容梗概 電気電子工学専攻 研究題目 /GaN MIS-HFET におけるヒステリシス特性の研究 氏名松田潤也 大野研究室 はじめに /GaN HFET は高電子移動度であるほか 絶縁破壊電界が大きいため高速 高出力デバイスとして 期待されている しかし実用化にはいくつか課題が

平成 7 年度修士論文内容梗概 電気電子工学専攻 研究題目 /GaN MIS-HFET におけるヒステリシス特性の研究 氏名松田潤也 大野研究室 はじめに /GaN HFET は高電子移動度であるほか 絶縁破壊電界が大きいため高速 高出力デバイスとして 期待されている しかし実用化にはいくつか課題が

... FET 開発で大きな問題として大きなゲートリークや電流コラプス、I-V 特性ヒステリシスなどがある。ゲートリークに関しては、ゲート金属と半導体間に絶縁膜 を挿入した MIS(Metal Insulator Semiconductor)構造を用いることで、低減できることが わかっている。しかし、ゲートに MIS 構造を用いた場合、大きなヒステリシス現象が現れる ...

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CPEデバイスのセキュリティ

CPEデバイスのセキュリティ

... – 利用者は一度設定した機器状態を確認するような「運用」を行っていない。 – PCなどと違い、自動アップデートなど仕組みが整備されておらず、対策が リリースされても気づきにくい。 – 利用者は新しいファームウェア存在を知ったとしても、通信を中断するリス ク、設定をし直すリスクから適用しにくい。 ...

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Q. Windows Server 2012 の NTFS 重複除去ボリュームや ReFS はバックアップ先に利用できますか? はい 利用できます ReFS に関しては ファイルシステムデバイス (FSD) のみサポートします Arcserve Backup の重複排除デバイス (DDD) としての

Q. Windows Server 2012 の NTFS 重複除去ボリュームや ReFS はバックアップ先に利用できますか? はい 利用できます ReFS に関しては ファイルシステムデバイス (FSD) のみサポートします Arcserve Backup の重複排除デバイス (DDD) としての

... 2012 NTFS 重複除去ボリュームや ReFS はバックアップ先に利用できますか? はい、利用できます。ReFS に関しては、ファイル システム デバイス (FSD) のみサポートします。 Arcserve Backup 重複排除デバイス(DDD)として利用はできません。 ...2012 NTFS ...

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本日のお話 つなぐことの意味 技術の効果 ( 第一期実用技術開発事業 ) 現地実証と産地への実用化 適用樹種拡大研究への発展 更なる共同研究 実用化に向けて

本日のお話 つなぐことの意味 技術の効果 ( 第一期実用技術開発事業 ) 現地実証と産地への実用化 適用樹種拡大研究への発展 更なる共同研究 実用化に向けて

... ナシ・ジョイント仕立て特許許諾 システム 農業政策独自性に配慮し、「公益性ある団 体等を通じ生産者に広く成果普及」することを目的 として、 2段階実施方法 を導入しています。メリット は、個別生産者による「契約手続負担や一時 金支払い」が軽減されることです。 ...

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高温ガス炉システムの実用化像

高温ガス炉システムの実用化像

... 参考資料:*1 三菱商事(株)、「水素サプライチェーン実現に向けて」、水素・燃料電池戦略協議会向けプレゼンテーション資料、2014年4月。 *2 原子力機構試算 *3 川崎重工(株)、「低炭素社会に向けた水素チェーン実現可能性検討」、Journal of Japan Society of Energy and Resources, Vol.35 No2, 2014 *4 ...

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量子触媒の特性とその実用化

量子触媒の特性とその実用化

... 1反応速度比と光触媒活性 定量評価に適合する計測手段として、アセトアノレデ、ヒド、分 解量を計測する光触媒活性が用いられる。ガスパック A 法に 準拠、すなわち、窒素キャリアガスの重量比 100ppm 程度の アセトアノレデヒドガス試験ガスと、対象物質をガスパックに封 入し、照射強度 1mW/cm 2 の紫外線を一定時間照射した後の アセトアノレデヒドの残留ガス濃度を計[r] ...

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デバイス プールの設定

デバイス プールの設定

... [着信発呼者国内番号プレフィック ス(Incoming Calling Party National Number Prefix) ] Cisco Unified Communications Manager は、このフィールドに入力されたプレ フィックスを、 [発呼側番号タイプ(Calling Party Number Type)]として ...

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実用経済モデルの系譜と本プロジェクトの位置づけ

実用経済モデルの系譜と本プロジェクトの位置づけ

... 4 このモデル最大特徴は、財・サービス及び生産要素(資本、労働)全て市 場において複数市場均衡が同時に成立すること(いわゆるワルラス法則)を前提と している点である。例えば2家計、2産業、2生産要素からなるモデルであれば、そ れぞれ市場を均衡させる6本方程式が基本となる。これを租税や国際貿易分析 ...

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研究の背景有機薄膜太陽電池は フレキシブル 低コストで環境に優しいことから 次世代太陽電池として着目されています 最近では エネルギー変換効率が % を超える報告もあり 実用化が期待されています 有機薄膜太陽電池デバイスの内部では 図 に示すように (I) 励起子の生成 (II) 分子界面での電荷生

研究の背景有機薄膜太陽電池は フレキシブル 低コストで環境に優しいことから 次世代太陽電池として着目されています 最近では エネルギー変換効率が % を超える報告もあり 実用化が期待されています 有機薄膜太陽電池デバイスの内部では 図 に示すように (I) 励起子の生成 (II) 分子界面での電荷生

... 分光を行いました。この混合分子膜で太陽電池デバイスを作成すると、エネルギー変換効率は 6.24%になります。 図 3 で、赤線が光励起により生成した電荷による吸収変化です。吸収された光子は、0.28 個/nm 2 です。 4.電気化学的に導入した電荷による吸収変化:PTB7 PTB7 単層膜を作成し、電気化学的に正孔を導入しました。図 3 で、丸が電気化学的に導入した電荷(正孔)に ...

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Cyclone V デバイスの概要

Cyclone V デバイスの概要

... レーティング・システムサポートは、SoC FPGA に使用可能です。オペレーティン グ・システム・サポート可用性について詳しくは、 Altera sales team にお問い合わせ ください。 ユーザーは、アルテラ SoC FPGA Virtual Target 上でデバイス固有ファームウェアお よびソフトウェア開発を開始することができます。Virtual Target ...

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Cyclone Vデバイス・ハンドブック、 Vol 1、第6章:Cyclone Vデバイスの外部メモリ・インタフェース

Cyclone Vデバイス・ハンドブック、 Vol 1、第6章:Cyclone Vデバイスの外部メモリ・インタフェース

... V デバイスは、データをフル・レート(I/O 周波数)からハーフ・レート(コ ントローラ周波数)、およびその逆に変換するように、IOE でビルトイン・レジスタ を備えています。 UniPHY IP およびアルテラメモリ・コントローラ MegaCore ファン クションを使用したメモリ・コントローラは、メモリ・デバイス I/O インタフェー ...

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2. 環動高分子材料の調製と応用環動高分子材料の原料としては 軸分子に PEG 環状分子にa-CD キャッピング分子としてアダマンタンを用いたポリロタキサンが 現在のところ収率などの点で最も優れており 量産化が進んでいる 環動高分子材料の特性を発揮させるためには CD 環が長い距離を動ける方がよいの

2. 環動高分子材料の調製と応用環動高分子材料の原料としては 軸分子に PEG 環状分子にa-CD キャッピング分子としてアダマンタンを用いたポリロタキサンが 現在のところ収率などの点で最も優れており 量産化が進んでいる 環動高分子材料の特性を発揮させるためには CD 環が長い距離を動ける方がよいの

... PEG/CD ポリロタキサンは CD 間強い分子内・分子間水素 結合ため、水や大半有機溶媒には溶解しない。ポリロタキサン良溶媒としてはこれ までに、 DMSO、NaOH 水溶液、Li 塩を含む DMAc や DMF、環状アミンオキシド、Ca(SCN)2 水溶液、イオン液体など特殊な溶媒が報告されている 5) ...

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Arria® 10 デバイスの概要    

Arria® 10 デバイスの概要    

... 1588 タイムスタンプ情報を取り扱うため 2 つ EMAC コアといった、2 つ冗長イーサネット接 続をアプリケーションがサポートすることができ、同時に 3 番目 EMAC コアでデバックやコンフィグレーシ ョンをすることが可能。3 つ EMAC はすべて同じタイムスタンプを共有することができ、1588 タイムスタン ...

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1 研究実施の概要 本プロジェクトでは高分子ブロック共重合体が形成する デカナノスケールの周期を有するナノ 相分離構造をテンプレートとして用い 実用リソグラフィ技術及びビーム加工技術の加工下限界を 超える微細構造デバイスの創製を目的とした まず第一に ランダムに配向したグレイン構造をも つ従来のナノ

1 研究実施の概要 本プロジェクトでは高分子ブロック共重合体が形成する デカナノスケールの周期を有するナノ 相分離構造をテンプレートとして用い 実用リソグラフィ技術及びビーム加工技術の加工下限界を 超える微細構造デバイスの創製を目的とした まず第一に ランダムに配向したグレイン構造をも つ従来のナノ

... 37 ナノ構造テンプレートとして工学的応用をめざすには,金ナノ粒子を全て PEO ドメイン上に選 択的に組織化する必要がある。金ナノ粒子が吸脱着を繰り返しながらテンプレート表面に結合する 超分子化学モデルに基づき粒子径,粒子濃度,浸漬時間など,占有率やドメイン選択率向上に つながるコントロール因子について詳細に検討した。占有率を向上させるためだけであれば,高濃 ...

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                                             半導体デバイスの信頼性

                                             半導体デバイスの信頼性

... 光学損傷発生原因は、活性層反尃面近傍領域がレーザ光に対する吸収領域になっていること にある。GaAs や InP など結晶表面には表面準位が多く、これを介した非発光再結合が多い。 反尃面近傍活性層キャリヤーはこの非発光再結合によって失われるから、反尃面近傍活性層 ...

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