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（３）装置技術の実用化
１）実用化の見通しに関する評価
装置技術として取り上げている加工並びに計測、コンタミ制御技術は、ＥＵＶ露 光技術を実用化する上で露光装置メーカのコアとなる技術である。個別の要素技術 は大きく進展していると思われる。SFET などの露光装置の開発をマイルストーン として当面の開発を進め、SFET 実現後は実際の運用の中で検討と改良・開発を進 めることによりさらに多くの成果が達成されるものと期待できる。
ただし、レジスト存在下での光学系の汚染という重大な問題の解決が急務であ る。コンタミ問題の解決は極めて難しいと考えられる。根本的な問題解決の必要性 と使用状況によりどこまでなら許容できるのか、といった基本的な事柄をもう一度 検討することが必須である。
今後この汚染の問題を解決しつつ、さらに研究を進めて、１１５ｗ出力に対応で きる装置技術となることを期待したい。
＜肯定的意見＞
○ 光学設計、ミラーの加工技術に関しては、ニコン・キヤノン連合軍の粋を集め た技術に期待。是非、競合との競争に勝っていただきたい。
○ EUV リソの中で最も信頼性が高く、実用化に近い技術が確立されつつある。
○ 実用化のためのシナリオが描かれており、その可能性は高いと判断する。
○ 個別の要素技術は大きく進展していると思われる。SFET などの露光装置の開発 をマイルストーンとして当面の開発を進め、SFET 実現後は実際の運用の中で検 討と改良・開発を進めることによりさらに多くの成果が達成されるものと期待 できる。
○ 装置技術として取り上げている加工並びに計測、コンタミ制御技術は、ＥＵＶ 露光技術を実用化する上で露光装置メーカのコアとなる技術である。現在のと ころ、計画通り進捗しており、実用化の見込みが極めて高い。
○ 中間目標の達成状況から、実用化の可能性は高いと評価できる。
○ 実用化に必要な課題の把握は基本的に網羅されており、評価できる。
○ 着実な研究開発が進んでいるので、今後さらに研究を進めて、１１５ｗ出力に 対応できることを期待。
＜問題点・改善すべき点＞
● 非常に高価な、光学系の汚染が心配である。＜露光装置コンタミネーション制 御＞の項でも述べたが、レジスト存在下での実用的な技術開発が急務と思われ る。ミラー劣化が、露光装置としての実用化のボトルネックとなる可能性があ る。半導体製造装置の、チャンバ内壁のパッシベーション技術開発には、非常 に多くの努力が払われた。高価な反射ミラーの表面を、強烈な EUV 光と残留水 分による酸化から守り、かつ堆積カーボン膜のエッチング除去に対して耐性の
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あるパッシベーション膜の探索研究を、さまざまな材料、その堆積方法（スパ ッタ、バイアススパッタ）、堆積条件等を含め、もっと多くの研究リソースを 投入すべきと考える。
● コンタミ問題の解決は極めて難しいと考えられる。根本的な問題解決の必要 性と使用状況によりどこまでなら許容できるのか、といった基本的な事柄を もう一度再検討することも、時機をさぐりながら、必要ではないだろうか。
● 何回も繰り返している様に、露光装置としてのシステムとして、個々の実用 化の可能性を判断すべきで、SFET の早期稼働を行って、実用化の可能性と問 題点を明解にする必要があり、またそれによって総合的に各技術の可能性を 判断すべきである。
● 加工技術では単に精度の良い面が加工できるだけでなく、産業化を踏まえて、
加工スループットなどの要件も十分に考慮して開発をすすめて行くべきであ る。そのために更なる投資あるいは資源が必要であれば、それも算出して要 求するべきである。
＜その他の意見＞