現在でも概ね EUV リソグラフィで必要なミラー性能を実現できるレベルに達し ていると思われるので、開 発装置で加工、評価したミラーを露光装置に搭載し、実 機による露光結果を通して総合的な評価を行い、結果をフィードバックすることが 重要である。そのために、SFET の計画を加速し、総合評価と問題点の明確化を早 期に行いながら進めてほしい。
ただし、鏡面計測技術の評価では、より実用に添った評価方法を用いるべきであ る。また、必要面精度は、当面は現在の目標で良いが、次々世代である hp 22nm を念頭に置いた開発をするべきである。
全体としては、現在の計画で問題はなく、着実に推進して是非光学設計技術およ び加工技術の日本の実力を、SFET、α機の開発で示していただきたい。
＜今後に対する提言＞
•
是非光学設計技術および加工技術の日本の実力を、SFET、α機の開発で示して いただきたい。ニコン・キヤノンの実力に期待。•
現在でも概ね EUV リソで必要なミラー性能を実現できるレベルに達している と思われるので、今後は細かい数値目標の達成に拘泥せず、いち早くミラー量産 加工機の試作と実用化に取り組み、当該装置の市場を獲得する方向へと指向する ことが、マクロに見て本プロジェクトのインパクトを高めることになるのではな いか。•
開発装置で加工、評価したミラーを露光装置に搭載し、実機による露光結果を 通して総合的な評価、フィードバックすることも必要であると思います。•
現在の計画で問題はなく、着実に推進してもらいたい。•
絶対評価が難しい以上、早期に SFET の実用化を加速し、総合評価と問題点の明 確化を早期に行いながら進めることが必要。•
鏡面計測技術の評価では、より実用に添った評価方法を用いるべきである。例 えば再現性などの評価は、試料の置き換えによる誤差も大きな要因となると予想 される。必要面精度は、当面は本目標で良いと考えられるが、次々世代である hp 22nm を念頭に置いた開発をするべきである。•
最終製品には、量産用としての性能を持つ装置技術の開発を期待する。
＜その他の意見＞
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（２）EUV 露光装置コンタミネーション制御技術の研究開発 １）成果に関する評価
反射光学系は大変に高価なものであり、汚染による性能劣化は非常に深刻な問題 である。この問題に対し、個別要素的な成果を多く創出していることは高く評価で きる。しかし、本質的な解決策を呈示しているかどうかは、不明である。
残留ガスを少なくするだけなら、超高真空チャンバー技術（チャンバー内表面の パッシベーション技術、UHV ポンプ技術等）が開発されており、これらを採用すれ ば済む。しかし露光装置の宿命として、チャンバー内にはレジストを入れ、しかも そ れ を 強 烈 な EUV 光 で た た か ね ば な ら な い 。 当 然 の こ と な が ら レ ジ ス ト は Hydrocarbon の塊であり、相当量のガス放出が見込まれる。レジストのアウトガス によるカーボンコンタミ量を念頭に置いて、クリーニング技術開発を進める必要が ある。このため、レジストからのコンタミを研究している ASET 等の機関との連携 が望まれる。
＜肯定的意見＞
○ 露光装置内の残留ガス（H2O、Hydrocarbon）等について、Ru 保護膜で一応の見 通しの得られたことは評価できる。これにより酸化防止、カーボン汚染膜のク リーニングの見通しの得られたことは、重要である。しかしこれでは不十分で ある。
○ Si,Ru の酸化による反射率の減少は水分圧 10‑6 Pa で許容範囲に入ることを明ら かにした。炭素膜による反射率の低下は UV+O2 洗浄により解決できることを示 した。
○ これまでにコンタミネーションによる反射率低下を 5％以下に抑えることに成 功しており、提示されているキャッピングレイヤー技術などからみて、中間目 標の 3％を年度内にクリアできると判断する。
○ 最も困難な分野でありながら、個別要素的な成果を多く創出していることは高 く評価できます。これらの成果を、実際の露光装置での評価と取り組みの改善 につなげて頂きたいと考えます。
○ コンタミによる反射率劣化の問題構造化とその打開に向けたアプローチが明確 になっている。
○ コンタミネーションの制御技術に関しても活性酸素方式、等優れた成果が見ら れ、目標クリアに近く、十分評価できる。
○ コンタミネーションの基本的なメカニズム、基本的な対策法が明確になり、コ ンタミネーション制御の指針が得られたことは評価できる。
○ 中間目標（反射率低下＜3%）に近い値を達成していることは評価できる。
＜問題点・改善すべき点＞
● 反射光学系は大変に高価なものであり、汚染による性能劣化は非常に深刻な問
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題である。残留ガスを少なくするだけなら、超高真空チャンバー技術（チャン バー内表面のパッシベーション技術、UHV ポンプ技術等）が開発されており、
これらを採用すれば済む話である。しかし露光装置の宿命として、チャンバー 内にはレジストを入れ、しかもそれを強烈な EUV 光でたたかねばならない。当 然のことながらレジストは Hydrocarbon の塊であり、相当量のガス放出が見込 まれる。この評価が盛り込まれていないことが問題である。レジスト表面から の局所排気等が必要になるかも知れない。とにかく、実用的な露光条件下での レジストからの脱ガス評価も含め、更なる実験を至急実施すべきである。
● 根本的な解決は相当困難であると推察される。使える条件（クリーニングから クリーニングまでの期間）を明らかにすることなど、困難性を運用によって回 避できるような範囲を明確にする検討も重要であろう。
● 現システムでは、プロトタイプレベルの研究であり、実用化を担保するもので はない。
＜その他の意見＞