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第 4 章 Si ドーパントの第一原理計算 51

4.2 計算手法

第4章Siドーパントの第一原理計算

Fig. 4.8: 大野らの実験による積層欠陥エネルギーのGa濃度依存性10)

トは積層欠陥部に偏析し,p型ドーパントは積層欠陥部に偏析しないとされてお

り,Fig. 4.3に示した大野らの実験結果と整合する.しかし,直近の大野らの実験

ではp型ドーパントであるGaも積層欠陥部に偏析するという結果が報告された.

積層欠陥エネルギーのGa濃度依存性をFig. 4.8に示した10).これによるとSi結晶 中においてGa濃度を上げると,n型ドーパントであるP,As,Sbに比べて小さい ながらも,積層欠陥エネルギーが低下している.これはSi結晶中においてGaも 積層欠陥部に偏析することを示唆しており,これまでの理論的アプローチと整合 しない.本研究では,これらドーパントの偏析挙動メカニズムを第一原理計算に よって明らかにすることを目的とした.

第4章Siドーパントの第一原理計算

Fig. 4.9: 2×2×2に拡張し,ドーパントを1原子置換したダイヤモンドSiスーパー セルSi63X1の格子モデル.

Fig. 4.10: ドーパントを1原子置換したダイヤモンドSiスーパーセルSi63X1のトー タルエネルギー.

り,10層と11層の間に積層欠陥を導入した.また実際の計算には,Fig. 4.12に 示した上面図のようにFig. 4.11を2×2,3×3に拡張したモデルを用いた. 各層に ドーパントを1原子置換したモデルで各ドーパントの溶解エネルギーを比較した.

また2×2のモデルにおける溶解エネルギーは,

Esolution=( ESFSi

63X1ESicubic

63X1

)−( ESiSF

64ESicubic

64

) (4.1)

の計算式で求めた.ESFSi

63X1はドーパント‘X’を置換した積層欠陥を持つSiスーパー セルのトータルエネルギー,ESFSi

64は,積層欠陥を持つSiスーパーセルのトータル エネルギー,ESicubic

63X1 はドーパント‘X’を置換したダイヤモンドSiスーパーセルの トータルエネルギー,EcubicSi

64 はピュアなSiスーパーセルのトータルエネルギーを 各々示している.Si63X1のモデルをFig. 4.9に示した.eq. 4.1の右辺第一項である (ESFSi

63X1ESicubic

63X1

)はドーパントの溶解エネルギーに積層欠陥エネルギーを余分に含 んだものを示しており,右辺第二項である−(

ESFSi

64ESicubic

64

)によって積層欠陥エネ ルギーをキャンセルしている.そうして積層欠陥を持つシリコン結晶中に置換し たドーパントの溶解エネルギーEsolutionを求めた.これと同様に3×3モデルでは

Esolution = (

ESFSi143X1EcubicSi63X1 − 80 64EcubicSi64

)

− (

ESFSi144EcubicSi64 − 80 64EcubicSi64

)

(4.2)

第4章Siドーパントの第一原理計算

Fig. 4.11: 積層欠陥を含んだSi結晶モデル.

Fig. 4.12: Fig. 4.11に示したSiユニットセルモデルを(a) 2×2と(b) 3×3に拡張し たスーパーセルの上面図.

によって溶解エネルギーを求めた.積層欠陥を持つSi144に相当するダイヤモンド Si結晶モデルを作成するのは不可能なため,EcubicSi

64 のエネルギーを乗算した80

64EcubicSi

64

を用いることで,Siの原子数の帳尻を合わせた.またドーパントの偏析挙動を調べ るためによく用いられる偏析エネルギーは完全結晶部に置換したドーパントの溶 解エネルギーと,積層欠陥部に置換したドーパントのエネルギーとの差分となる.

2×2,3×3モデルにおけるドーパントを置換した層の不純物濃度は各々25%,11%

である.またk-meshは7×7×2,5×5×2を各々のモデルに用いた.また原子座標,

および格子の体積変化は六方対称性を維持した上で,緩和した.

これらの溶解エネルギーを求める際に使用したSi143X1 のモデルにおいて,各 ドーパント原子を5-10層に各々置換した際のΓ点におけるエネルギー準位図を描 画し,ドーパントの置換位置に対する不純物準位の変化を調べた.

第4章Siドーパントの第一原理計算

Fig. 4.13: 完全結晶部と積層欠陥部を境に伸縮させ,格子ひずみを調べるために用

いた積層欠陥を含むSi結晶のモデル.

4.2.2 Si 純結晶の局所ひずみ

Siとは異なる原子半径のドーパントを置換時に生じる格子ひずみの効果を調べ た.Fig. 4.13に格子ひずみを調べるために用いた計算モデルを示した.Fig. 4.11と 同様のSi結晶モデルであり,完全結晶部である2-3層間と積層欠陥部である10-11 層間を境として2ブロックに分け,両ブロックの間の距離を-0.3Åから+0.3Åまで 0.05Å刻みで伸縮させ,系のエネルギー変化を調べた.またk-meshは15×15×2に 設定し,構造緩和は行っていない.