結晶とアモルファスの
詳細な説明 研究の背景 フラッシュメモリの限界を凌駕する 次世代不揮発性メモリ注 1 として 相変化メモリ (PCRAM) 注 2 が注目されています PCRAM の記録層には 相変化材料 と呼ばれる アモルファス相と結晶相の可逆的な変化が可能な材料が用いられます 通常 アモルファス相は高い電気抵抗
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1.1 市場投入される太陽電池の商品化状況 単結晶 Si 大規模商業生産 多結晶 Si 大規模商業生産 シリコン リボンSi アモルファスSi 小規模 ~ 中規模商業生産 小規模 ~ 中規模商業生産 多結晶 Si 薄膜 小規模商業生産 球状 Si 研究開発段階 ~ 商業生産準備中 太陽電池 III-
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資源循環 エネルギーミニマム型システム技術 平成 12 年度採択研究代表者 小林光 ( 大阪大学産業科学研究所教授 ) 新規化学結合を用いるシリコン薄膜太陽電池 1. 研究実施の概要昨年度までの研究で シアノイオン (CN - ) は シリコン中 ( 特に多結晶シリコンやアモルファスシリコン中 )
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3.4 結晶系以外の太陽電池単結晶シリコン及び多結晶シリコン以外の材料を用いた太陽電池の総称である 3.5 結晶系太陽電池半導体材料として単結晶シリコン又は多結晶シリコンを用いた太陽電池をいう 3.6 太陽光発電設備光起電力効果によって太陽エネルギーを電気エネルギーに変換し 負荷に適した電力を供給す
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アモルファス合金設計のための短距離秩序構造の第一原理格子不安定解析
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半導体結晶の光学的評価:光学スペクトルから結晶を観る
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分子動力学法によるアモルファスポリエチレンの押し込み挙動評価-押し込み速度・架橋点の効果
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革新的超硬質材料の創製 ~バインダレス ナノ多結晶ダイヤモンド・ナノ多結晶cBN~
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Dichloroterephthal –bis–4–n–pentylaniline の結晶と分子構造
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結晶
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気相法によるZnSe 単結晶成長とその応用
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薄膜結晶成長の基礎4.dvi
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分子動力学法による非晶・結晶PP/PEとグラファイト層界面のせん断シミュレーション
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エピタキシャル薄膜研究の広がり ( 私見 ) エピ膜と基板結晶の結晶構造が同じで格子定数が近いグループ 例 Si ホモエピ Diamond 型 エピ膜と基板結晶の結晶構造が同じであるが 格子不整合の程度が大きいグループ 例 Ⅳ-Ⅳ 族 Ⅲ-Ⅴ 族化合物半導体 Diamond 型 Zincblende
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テトラジマイト型Bi系トポロジカル絶縁体単結晶の輸送特性と超伝導に関する研究
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量子アファイン環の結晶基底と両側セル
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希土類-Coアモルファス薄膜の飽和磁化の温度依存性
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分子動力学法によるアモルファスポリエチレン/グラファイト界面の剥離シミュレーション
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アモルファスGd??Ni??合金の局所構造 : シンクロトロン放射光によるEXAFS測定
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窒化物半導体の展開-結晶基板とデバイス-
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