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基板を用いたセンサーチップの作製

塗布・剥離基板を用いたフレキシブル液晶デバイスの作製

塗布・剥離基板を用いたフレキシブル液晶デバイスの作製

... キーワード 液晶ディスプレイ,フレキシブルディ スプレイ,ポリイミド基板,塗布・剥離法 1. ま え が き プラスチック基板用いフレキシブルディスプレ イは薄型化,軽量化が可能で,衝撃耐性が高いという 特長有することから,貼り付け,巻き取り,ウェア ラブル端末等新たな用途へ応用可能とし,次世 ...

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超高真空熱昇華エッチングを用いた自己組織化GaAsテンプレート基板の作製

超高真空熱昇華エッチングを用いた自己組織化GaAsテンプレート基板の作製

... 半導体ナノテクノロジー核技術と位置付けられるリソグラフィ中で、電子線直接描画は、 生産性には劣るものの、微小線幅(<10nm)形成やデザインルールプロセスごとに変更可能な微 細化技術として期待されている。電子線直接描画法は、レジスト膜に描画しパターンエッチ ...

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低温ZnOバッファ層を用いたガラス基板上ZnO薄膜のPLD成長

低温ZnOバッファ層を用いたガラス基板上ZnO薄膜のPLD成長

... ZnOが注目されるようになり,薄膜デバイス応用 研究が大きく進展している.ZnOはバンドギャ ップが室温で約 ...て励起子が存在できる.この励起子介し発光 利用することで非常に高効率なレーザ作製が 可能である.現在,いくつか研究機関において ...

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液晶を用いた光導波路の設計と作製に関する研究

液晶を用いた光導波路の設計と作製に関する研究

... 40 3.8 まとめ 本章では、液晶使用し光通信デバイスとして、光導波路作製と評価試み。基 板カットから、スピンコータで電極成膜し、レジスタンス測定している。膜表面 ...

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セラミック基板を用いた人工視覚用多電極CMOSデバイスの試作

セラミック基板を用いた人工視覚用多電極CMOSデバイスの試作

... CMOS チップに集積化し制御回路により配線数低減しフレキシブルな人工視覚デバイス試 作し機能実証行っ.1 台チップで 7 個刺激電極制御でき,これ多数接続することによって電極ア ...

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ECR-MBE 法により作製したSi(111)基板上 GaN ヘテロエピタキシャル成長

ECR-MBE 法により作製したSi(111)基板上 GaN ヘテロエピタキシャル成長

... 窒化は逆に膜質悪化引き起こすことが分かっ .このように窒化時間最適化による膜質改善 にも限界があるため,次に窒化時プラズマ強度 最適化によりさらなる膜質改善試み.実験 方法として1100℃で5分間アニール行い,600℃ ...

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ポリマー基板テーパスロットアレーアンテナを用いた300 GHz帯受信器

ポリマー基板テーパスロットアレーアンテナを用いた300 GHz帯受信器

... ceiver. Circular and triangular plots denote array and single antenna, respectively. 節シミュレーションよりも 1 dB 程度高いことが判明 し.その要因として,作製アンテナに使用し表面粗さが考えられる.表面粗さ測定値は,平 均 390 ...

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スフェロイド形成基板の作製とヒト由来毛乳頭細胞の培養

スフェロイド形成基板の作製とヒト由来毛乳頭細胞の培養

... 7 地震が襲 っ.激しい揺れが襲い寮生全員が屋外に避難し点呼 執っ(図 4).2 名がキャンパス離れており,そ うち 1 名が電車で 30 分程度熊本市内まで出掛 けていることがわかっが,地震影響で電車が不通 となり,直ぐには帰寮できないとわかり寮務委員が車 ...

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MBE法を用いたSi基板上のGaAs三次元ナノ構造制御に関する研究 : 酸化膜を用いた成長テンプレート機能の検証

MBE法を用いたSi基板上のGaAs三次元ナノ構造制御に関する研究 : 酸化膜を用いた成長テンプレート機能の検証

... 現在報告されているトップダウン手法に基づい研究例として、パターニングと選択領域的な結晶成長組 み合わせて作製され柱状 GaAs アレイ構造が挙げられる。これは、SiO 2 など非晶質膜基板表面に構築し、 リソグラフィ及び多段階エッチング施し、周期的開口領域設け Si ...

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半導体ナノワイヤを用いた機械素子の作製と共振特性に関する研究

半導体ナノワイヤを用いた機械素子の作製と共振特性に関する研究

... 置しのちにリソグラフィ用いてデバイス化する手法が一般に用いられるが、溝や電極 基板上にデザインする工程とナノワイヤ組み込む工程が別れているため、トップダウ ン法のみ用い行程では不可能なバックゲートつきデバイスなど、より自由度高い ...

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Si系材料を用いた光学素子の作製と評価に関する研究

Si系材料を用いた光学素子の作製と評価に関する研究

... クバンドギャップ(PBG)がある。これ利用することで、導波路内部にある特定波長 閉じ込めることができる[2]。そのため、光導波路に急峻な角度つけて曲げ光放射抑制でき、光回路設計上制限大幅に緩めることが可能となる。本研 ...

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AlN 基板を用いた高Al 組成AlGaN HEMTの開発

AlN 基板を用いた高Al 組成AlGaN HEMTの開発

... 2 − 2 エピタキシャル層評価結果 まず、AlGaN HEMT エピタキシャル層結晶構造評価行っ。低 Al 組成 AlGaN HEMT 構造と高 Al 組成 AlGaN HEMT 構造 X 線回折測定結果(2θ-ωスキャン)図 2 に示す。横軸 回折角は結晶積層方向(c 軸方向)格子定数に対応する。 低 Al 組成 ...

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MBE法を用いたNi/Feエピタキシャル超格子の作製と評価

MBE法を用いたNi/Feエピタキシャル超格子の作製と評価

... Fe:Ni=22:78 Ni,Fe 合金)とき最も高い初透 磁率得られることが知られている。パーマロイ異方性磁気抵抗効果利用し微小薄 膜は、ハードディスクドライブ磁気ヘッドや、磁気センサーなどに用いられる。磁気応 ...

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光導波路を用いたバイオ・ケミカルセンサーの開発のための基礎研究

光導波路を用いたバイオ・ケミカルセンサーの開発のための基礎研究

... 2.2.ガラス導波路の再加熱処理による導波路特性変化 a.等価屈折率Nの変化と導波層消失 本実験で主に 用いたガラス導波路は,4000cに熟したホットプレー ト上や電気炉中で溶融させたKNO。中に浸潰させて 作製したものである。ホットプレートを使用すること ば簡便であり,高価な電気炉がなくてもイオン交換が できる。この様子をFig.3に示した。電気炉を用いる ときは,溶[r] ...

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食器用洗剤を用いた小型魚類透明骨格標本の作製

食器用洗剤を用いた小型魚類透明骨格標本の作製

... に寄与し.実際に今回実験初期準備に必要となっ 経費はホルムアルデヒド液(500 mL,700 円程度), 酢酸(500 mL,1000 円程度),アリザリンレッド S(25 g,9000 円程度)及び水酸化カリウム(500 g,2000 円 程度)であり,この分量で染色可能なメダカは計算上数 千匹になる.試薬用高純度グリセロールは標本封入 ...

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振動によるハプティックデバイスを用いた感触機器の作製と性能評価

振動によるハプティックデバイスを用いた感触機器の作製と性能評価

... 図 1 システム構成 3 先行研究と比較 先行研究 [1] では,実際にはない床踏み心地普通 平らな床上で再現するハプティックシューズデザイン とその評価が行われてい.用途は,リハビリや,歩き方 誘導などに利用することが想定されてい.そこで本研 ...

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JAIST Repository: レドックスポリマーを用いた酵素電極の作製と評価

JAIST Repository: レドックスポリマーを用いた酵素電極の作製と評価

... キサメチレンジアミンから合成し。 N,N'- ビスアクリルアミド含んだ、ポリ - (アクリルアミ ド - アクリル酸)重合し。フェロセン誘導体とポリ - (アクリルアミド - アクリル酸)よりカ ルボジイミドに縮合させレドックスポリマー調製し。 <酵素電極作製>粉末状にしレドックスポリマーと ...

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単板マイクロチップコンデンサ / 薄膜回路基板

単板マイクロチップコンデンサ / 薄膜回路基板

... 問題が発生し場合は、弊社はその責負うも ではありません。また、これら権利実施 権許諾行うものではありません。 当カタログに記載製品うち、「外国為替及 び外国貿易法」に定める規制貨物等に該当する ものについては、輸出する場合、同法に基づく ...

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小型チップ部品を搭載したプリント基板の熱設計手法に関する研究

小型チップ部品を搭載したプリント基板の熱設計手法に関する研究

... [1-14], [1-15] など様々な議論がなされている.また,主要発熱部品である MPU(Micro-processing unit)については,その内部構造考慮し熱抵抗モデル化について報告されている [1-16] . これまで多く研究に共通する点は,MPU やパワー半導体など主要発熱部品及び筐体 ...

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シングルチップマイクロコンピュータを用いたボイスレコーダの開発

シングルチップマイクロコンピュータを用いたボイスレコーダの開発

... スピーカはメッセージが聞こえやすい高所に任意 方法で取り付ける。設置作業が終了したら電源 プラグコンセント(AC100V)に差込み,本体 表面RESETボタン押せば準備完了である。 操作は全て本体表面で行い,録音モード選ぶ ことから始まる。スライドスイッチ「20秒」側 にするとメッセージ20秒間録音し再生できる。 ...

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