半導体製造技術，プラズマプロセス，真空技術
半導体製造装置プロセス管理技術
... 1） レシピ特許を含むプログラム特許では、日米での出願人分布は大きな違いがある。米国登録特許では、アプライドマ テリアルズ社（AM AT）、アドバンストマイクロデバイセズ社（AM D ）の上位2社でプログラム特許全体の55. 2％を占め ており、この2社は明らかに戦略的に特許を取得していると見られるのに対して、日本は大手半導体メーカや製造装 ...
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技術の系統化調査報告「プロセス制御システムの技術系統化調査」
... ［4.2.3］シリコン振動式差圧伝送器 圧力センサにはピエゾ抵抗式、静電容量式、振動式 などの方式がある。振動式圧力センサは、機械加工振 動子の固有振動数の変化を利用するので精度が高く、 またディジタルセンシング技術への展開が期待され、 早くから着目されていたが、弾性体の素材や加工技術 によるばらつきなどに課題があった。また振動子が周 囲の流体の影響を受けやすく、用途も気体に限定され ...
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日本の半導体 R&D コンソーシアムの将来展望 SIRIJ 技術委員長 ( 株 ) 日立製作所半導体グループ技師長 下東勝博 STRJ WS: March 3, 2003
... 無くなる。 1998 年より国際化の子会社設立、欧台韓が加入、その後一本化。プロセス開発。 年より国際化の子会社設立、欧台韓が加入、その後一本化。プロセス開発。 年より国際化の子会社設立、欧台韓が加入、その後一本化。プロセス開発。 年より国際化の子会社設立、欧台韓が加入、その後一本化。プロセス開発。 1998 MARCO/FCRP設立 設立 設立 設立 ：： ：SRC ： ...
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DLC製造プロセスの歴史とその応用
... イオンを基材表面に照射して表面を清浄化してから被覆され るが、高分子材料はイオン照射時の温度上昇で変質してしま う問題がある。F-DLCでは水素プラズマに晒して基材表面の 汚れを低温で除去する方法を採用した。また、通常のプラズ マCVD法では基材温度は200℃近傍まで上昇し、高分子材 料が変質する。そこで、プラズマを断続的に停止することで 基材の温度上昇を60～80℃に抑制し、高分子材料を変質さ ...
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RIETI - 汎用技術としての半導体
... のように物理的な回路が抽象化され、論理的なプログラムと切り離されることによって、 半導体のモジュール化は急速に進んだ。 チューリング・マシンのような論理的なモデルでは、命令をソフトウェアで書くのも回 路で実現するのも同じことだが、実装するコストには大きな違いがある。初期の IC のよう に機能ごとに違う論理回路を設計すると、ひとつの半導体で機能を実現できるが、プログ ...
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目次 第１章 付加製造に関する技術の俯瞰 付加製造に関する技術の俯瞰 3D プリンター 付加製造技術 は 材料を付着することによって物体を 3 次元形状の数 要約 第１節 3D プリンター 付加製造技術 プリンター 付加製造技術 付加製造技術 に関する技術の概要 に関する技術の概要 値表現から作成す
... 章の第４節に基づく） 付加製造技術は、複雑な形状や肉抜き形状等の造形が可能となる等、産業界にとって大 きな可能性を秘めた技術である。まだ解決すべき課題があり、既存の加工技術をすべて代 生産プロセスの中に付加製造技術を位置づけることでその真 価が発揮される可能性がある。また、欧米では航空機や軍用部品等の領域を初期市場と捉 ...
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企業理念 会社設立以来 お客様が求めるニーズとメーカーが作り出したシーズを結びつける技術の架け橋となって参りましたが 今後は技術の架け橋に加え自社で技術を保有し真空業界のトータルプロバイダーとして より深くお客様へ寄与できる企業を目指して参ります 会社概要 社 名 三和真空株式会社 所 在 地 14
... 取扱メーカー（代理店業務） 薄膜成膜の為のUHV/HVコンポーネントを得意としております サドルフィールド型アトムソース VSW Atomtech社製サドルフィールドファーストアトムビーム （FAB)ソースは電荷を持たない中性の直線ビームを成生します。 不安定で低出力の従来の冷陰極の常識を変え、ビームを中性 化することでこれまで電荷粒子が問題になっていた誘電体や ...
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明細書 発明の名称 : 凍結乾燥法を用いたナノ粒子乾燥体の製造方法 技術分野 [0001 ] 本発明は 凍結乾燥法を用いたナノ粒子乾燥体の製造方法に関する 背景技術 [0002] 従来 粉体を溶媒中に分散させた分散液 ( 以下 スラリーという ) の乾燥は 常温大気雰囲気下での風乾 加熱乾燥 真空乾
... [0046] また、従来は分散剤等の添加剤 を用いる方法などが検討されているが、分 散剤は通常炭素を主成分 とする有機物であるため、材料やプロセス的には有 機汚染 と同 じように作用することにな り、電気特性の低下や熱 プロセスにお ける脱 ガス発生などの問題点がある。本発明においてはその効果により、分 散剤 自体がナノ粒子の使用に際 して悪影響 を与える可能性 を考慮 し、本発明 におけるスラ ...
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超音波スプレー技術を用いた次世代半導体洗浄技術に関する研究
... 研究成果の概要 近年、半導体デバイスの微細化進み ITRS(International Technology Roadmap of Semiconductor)2.0 によると 2020 年には DRAM (Dynamic Random Access Memory)の最小線幅が 10nm になると示され、分子レベルの微細が ...
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第 2 章太陽電池の要素技術 ( 中級編 ) 18 太陽電池セルには多くの技術が使われている 図 1 太陽電池セル作製プロセスに使われるさまざまな要素技術 単結晶成長技術 太陽電池セルの作製には 図 1に示すように 多くの要素技術が使われています 太陽電池は半導体デバイスですから まず半導体材料作製
... ●シリコンは反射率が高く、そのままでは入射光の35％が利用できない ●膜の前面と背面の反射光が打ち消し合って光を有効に結晶に導く 図 1 反射防止膜の働き 反射防止膜の前面（空気側）と背面（シリコン側）の反射光の波の位相が打ち消し合うようにす ると、反射が抑えられ、光を有効に結晶中に導くことができる。同様の技術はメガネのレン ズにも使われている。シリコンの反射を最小にする干渉条件を満たす膜は、青色に見える ...
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超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
... 研究分野：電気電子材料、品質工学 キーワード：半導体デバイス、超音波洗浄、ポリエスチレンラテックス (PSL)粒子、洗浄、純水、エレクトロスプレー 1．研究開始当初の背景 近年、半導体デバイスの微細化が進み ITRS(International Technology Roadmap of Semiconductor)2.0 によると 2020 年 に DRAM (Dynamic Random Access ...
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超音波洗浄技術を用いた次世代半導体デバイスの洗浄技術に関する研究
... 3．研究の方法 (1)ウエットプロセスにおける磁場の純水帯電の影響評価 実際の製造現場での現象を再現させるために、図 1 のよ うな実験システムを構築し、純水が帯電するか確認実験を 行った。市販の電磁石（ギガデコ TMS302）の磁界発生部 の間に純水を通して、その純水をファラデーケージで受け、 電荷を測定した。実験条件は噴射圧力 0.2 MPa、純水の比 抵抗値を 17.0 MΩ･cm、磁場：0, 55, ...
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ワイヤレス技術 ネットワーク ワイヤレス技術 端末 シリコンバレーサンディエゴ 次世代ワイヤレス技術 ダラス シカゴ 次世代インターネット半導体 ソフトウェア オタワニュージャージー スウェーデンモスクワパリミュンヘンミラノトルコマイクロ波技術 FMC 固定ネットワーク 西安成都武漢バンガロール 北
... また、R&D部門には、ファーウェイの購買 部が自社の製品ニーズや開発戦略に適し た優れた部品やモジュールを提供できるサ プライヤーを選択し、継続的な提携関係を 築けるよう、技術面からサポートするという機 能もあります。日本研究所もこうしたマッチン グ機能を担う地域調達センターのひとつとし て、高い技術力を持つ日本の製造業者との 協業を促進する役割を果たしています。これ ...
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V-2 1-B 有機材料融合プロセス技術の開発 V-180
... 次に作製したポーラス熱電薄膜の電気的特性および熱的特性を比較測定した。 熱伝導率については、サンプルが自立膜でないこともあり原理上直接測定が難し いため、比較測定とした。比較測定のため、ポーラス構造を持たない有機薄膜上 に蒸着した Bi 2 Te 3 薄膜が必要であり、これを参照サンプルとした。薄膜サンプル の片端を加熱することで薄膜両端に温度差をつけ、発生した起電力からゼーベッ ...
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半導体デバイス製造のウエットプロセスにおける帯電・放電現象の解明とその対策
... 半導体デバイス洗浄工程において、ウェハを回転させな がら、純水をウェハ滴下するスピン洗浄がある。この時、 モータの回転時に生じる磁場によって、モータの中央部の 純水が帯電し、静電気障害を起こしていると思われる事象 が起きている。この対策は現場の経験的なもので行われ、 真の原因解決には至っていない。本研究では、生産現場で 起きている現象を再現し、純水が磁場の影響によって帯電 ...
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技術戦略研究センターレポート Vol. 14 化学品製造プロセス分野の技術戦略策定に向けて 2016 年 12 月 1 章 化学品製造プロセス分野の概要 化学産業における製造プロセス 化学品製造プロセスにおける温室効果ガス削減の重要性 我が国の化学産業における C
... NEDOでは「グリーンサステイナブルケミカルプロセス基 盤技術開発／規則性ナノ多孔体精密分離膜部材基盤技 術の開発」 （2009 ～ 2013年度）を実施し、5年間で約 13 億円の予算を投じて、イソプロピルアルコールや酢酸の脱 水をターゲットに分離膜製造基盤技術や分離膜評価技術 の開発等を行った。また、 「二酸化炭素原料化基幹化学 ...
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プラズマディスプレイパネルの構造と製造方法 16info plasma dis
... く見られ、特に発光効率に関しては、現在に至るまで、継続して大きなウエイトを占め続けてい る点に特徴を有する。また、セルに焦点をあてた発光効率向上や放電方式の改良に関して、出願 内訳が多い点も注目される。これら韓国人出願傾向の具体的技術内容としては、補助電極による 維持放電方式に関連する出願が多く出されており（日本国籍出願人からは現在主流となっている ...
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中小製造業における「測定・解析」技術の導入プロセスと取引関係の変化
... ところが，日本の半導体産業の国際競争力の低下に連動して，ステンレスの部分めっき技 術に関連した売上も徐々に減少してきた。こうした中で，次の事業の柱にしようとしている のが「ダイヤモンド特殊電着技術」である。1995 年に，知り合いの工具企業から「金属表面 にダイヤモンドをめっきで固着すること」を要望される。これはめっきとダイヤの複合技術 ...
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はじめに 本書は NEDO 技術委員 技術委員会等規程第 31 条に基づき研究評価委員会において設置された 二酸化炭素原料化基幹化学品製造プロセス技術開発 ( 中間評価 ) の研究評価委員会分科会 ( 第 1 回 ( 平成 26 年 8 月 18 日 )) において策定した評価報告書 ( 案 ) の
... 最難関課題である水分解光触媒の完成を待つのではなく、既に実用化されている水素製造 プロセスを組み入れた合成触媒の開発を早期の実用化を視野に入れて行い、その後光触媒の 成果を用いてトータルのプロセスを完成させるロードマップは、成果の実用化を意識した戦 略であり高く評価できる。今後、水素製造からオレフィン製造までの全体プロセスについて ...
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JPCA Show 2016 配布資料 トリニティ スミック 千住金属工業は 単に材料の製造や販売を行うだけではなく 材料を扱う技術をプロセスとして また それに使用する装置の 3 つの技術を一体化させて お客様のソルダリングソリューションをサポートします
... ● Ni層を介する 銅核ボール は、耐落下衝撃性を向上 ● φ２０μｍの狭公差真球ボールで、狭ピッチ実装を実現 ● 製品をソフトエラーから守る、低α線ソルダボール 独自のはんだメッキ技術がボイドを抑制 制御されたメッキ被膜は１次リフローで銅を覆い、 ...
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