三 和 真 空 株 式 会 社
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お客様との技術の架け橋 お客様との技術の架け橋 お客様との技術の架け橋 お客様との技術の架け橋会社案内
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SANWA VACUUM CO.,LTD.SANWA VACUUM CO.,LTD. SANWA VACUUM CO.,LTD.
SANWA VACUUM CO.,LTD.
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R&D EQUIPMENT GROUPR&D EQUIPMENT GROUP R&D EQUIPMENT GROUP R&D EQUIPMENT GROUP
社 名 三和真空株式会社 所 在 地 〒143-0013 東京都大田区大森南４－６－１５ テクノFRONT森ヶ崎３０７ TEL：03-5735-5656 FAX：03-5735-5655 設 立 1988年5月24日 代 表 取 締 役 鹿村 健 資 本 金 45,000千円 関 連 会 社 三和精密工業株式会社 株式会社ユーテック 有限会社タス工業 技 術 提 携 株式会社アールバキュームラボ 取 引 銀 行 東京都民銀行 浜松町支店 三菱東京UFJ銀行 田町支店 みずほ銀行 浜松町支店 ＜ﾃｸﾉFRONT森ヶ崎 外観＞ ＜アクセスMAP＞
企業理念
会社設立以来、お客様が求めるニーズとメーカーが作り出したシーズを結びつける技術の架 け橋となって参りましたが、今後は技術の架け橋に加え自社で技術を保有し真空業界のトータ ルプロバイダーとして、より深くお客様へ寄与できる企業を目指して参ります。会社概要
三和真空株式会社 ＜電車でお越しの場合＞ ・東京モノレール 昭和島駅下車 徒歩１２分 ・JR大森駅 東口バスターミナル２番 京浜急行バス 森ケ崎行き乗車 終点より徒歩５分 ・JR蒲田駅 東口バス乗り場５番 京浜急行バス 森ケ崎行き乗車 終点より徒歩５分 ・京浜急行平和島駅前バス停 京浜急行バス 森ケ崎行き乗車 終点より徒歩５分Vacuum Part
真空ポンプ・真空計・真空バルブ・金属ベローズ・各種フランジ・電流導入端子
Vacuum Unit
真空装置の開発・設計・製造・改造・修理・メンテナンス
Vacuum Processing
真空チャンバー・排気配管・特殊精密加工
オリジナル商品事業
自社開発商品 NW継ぎ手、フレキ関連他オリジナル加工事業
国内・・・試作/開発製品の生産 海外・・・量産/原価低減製品の生産MEMSセンサ事業
自社開発MEMSセンサ （平成25年9月10日より開始いたしました。）◇海外・販売代理店業務
英国 ： OXFORD APPLIED RESEARCH社
表面科学・ナノサイエンス研究機器メーカー
◇国内・販売代理店業務
株式会社ユーテック 真空成膜装置製造メーカー 株式会社アールバキュームラボ 電流導入端子/宇宙開発/超高真空/研究開発装置メーカー 入江工研株式会社 金属ベローズ／大型ゲートバルブを得意とする真空部品メーカー （VSW-Atomtech社）自社開発真空部品事業
真空科学・研究用機器事
NW-KF継ぎ手規格部品
Original Vacuum Part
センターリング SCR-Series
ｱｳﾀｰﾘﾝｸﾞ付ｾﾝﾀｰﾘﾝｸﾞ SCRO-Series
クランプ SC-Series
クランプ SCC-Series
ロングフランジ SF-50-Series
フレキシブルチューブ SFT-Series
ブランクフランジ SBF-Series
ショートフランジ SF-20-Series
真空部品加工
真空ﾁｬﾝﾊﾞｰ SUS/AL製、各種部品、排気配管/基板ホルダーなど精密機械加工
材料：SUS AL Mo Ta etc 溶接：アルゴン溶接 樹脂加工：テフロン／ＰＥＥＫなど 検査：Heリークディテクター主要設備機械
汎用フライス 汎用旋盤 ボール盤 サーキュラ 超音波洗浄機 500×400×300 Heリークディテクター HELEN M-212LD 協力工場 20社含む 超高真空チャンバー１ 超高真空チャンバー２Original Vacuum Part Processing 試作から量産まで対応
角ﾁｬﾝﾊﾞｰ Tig溶接 旋盤加工 Maxφ750mm 内面#400研摩＋ 電解研磨仕上げ Tig溶接ビート 丸チャンバー 側面穴加工 Ta電極加工
Partner
株式会社ユーテック
本社：千葉県流山市西平井956-1 中央研究所：埼玉県八潮市伊勢野485-1Vacuum System
開発・設計・製造・改造・修理・ﾒﾝﾃﾅﾝｽまで対応
有機ＥＬ蒸着装置
フィルム用ＣＶＤ装置
Ｓｉ酸化膜ＣＶＤ装置
溶液気化ＣＶＤ装置 複合材料ＲＴＡ装置 ＰＥＴボトル用 ＤＬＣコーティング装置 プラズマ発光モニター ＥＭＩＣＯＮ製膜技術のプロ集団です
特注品装置の製作を２０年以上続けており
多種多様な装置製作で
お客様の開発をお手伝いします
取扱メーカー（代理店業務） 本社：東京都千代田区丸の内3-1-1 国際ﾋﾞﾙ813 工場：埼玉県(ﾃｸﾆｶﾙｾﾝﾀｰ) 愛媛県(内子工場・中山工場) 海外拠点：韓国 韓国支店 / 中国 常州入江精工有限公司 直進・回転・磁気結合式導入機 コスラーズⅡゲートバルブ 超大型角型高真空ゲートバルブ
FFT_Valve
2013年 超モノづくり部品大賞 『奨励賞』 受賞 OLED(照明系）、有機薄膜太陽電池向けCVD、スパッタなどに使われておりますVacuum Part
真空バルブ・金属ベローズ・導入機
溶接ベローズ 成形ベローズ アングルバルブ FFT_Valveはフィルム状のフレキシブル基板の量産に対応 したバルブです。 フィルム出入口のシール形状及びシール材の工夫で密 閉性を高めながら、シール材の粘着性を抑えて 「FFT_Valve」解放時におこるフィルムのバタつきを低減し、 スムーズにフィルムを送り込むことができるようになりまし た。 フィルムロール交換の際も、プロセス室を高真空に保つこ とができ、巻取り部の調整やロール交換作業が簡単になり、 ロール交換後の装置立ち上げ時間の短縮に貢献できます。QUALITY VACUUM
COMPONENTS
MeiVac マグネトロンスパッタソース ＆ 基板ヒーター
ＭＡＫマグネトロンスパッタソースは、コンパクト で、取付けが容易、ターゲットはマグネットにより 保持されていますので脱着が簡単です。 モデルは、１.３、２、３、４、６inch です。 ＭＡＫマグネトロンスパッタソースは、最小限の 電力とＲＦ電力の少ない反射でカソードにＤＣ電 力だけでなくＲＦ電力を供給するシールドされた 電路を備えています。 ＭＡＫマグネトロンスパッタソースは、ターゲット への集束プラズマを減少させることなく高い圧力 （６００ｍｔorr）で作動するだけでなく低い圧力（０. ５ ｍｔｏｒｒ）でも作動させることが出来る独特の特 徴を持っています。 ＜特 徴＞ ◆ 冷却水ラインと高電圧経路が分離 ◆ マグネットと冷却水ラインが分離 ◆ ターゲットの交換が簡単 ◆ ＤＣ、ＲＦモードで作動 ◆ 動作圧力：０.５ー６００ ｍｔｏｒｒ ◆ ＨＶ（高真空）、ＵＨＶ（超高真空） 米国 MeiVac社ＭＡＫマグネトロンスパッタソース
＜仕 様＞ ＜仕 様＞ ＜仕 様＞ ＜仕 様＞ サイズ サイズ サイズ サイズ ２”２”２”２” ３"３"３"３" ４"４"４"４" ６"６"６"６" ９５０℃ ９５０℃ ９５０℃ ９５０℃ ９５０℃９５０℃９５０℃９５０℃ ９５０℃９５０℃９５０℃９５０℃ ９５０℃９５０℃９５０℃９５０℃ ±１％ ±１％±１％ ±１％ ±１％±１％±１％±１％ ±２％±２％±２％±２％ ±２％±２％±２％±２％ １.２５" １.２５" １.２５" １.２５" ２.２５"２.２５"２.２５"２.２５" ４"４"４"４" ６"６"６"６" １２ｍｉｎ １２ｍｉｎ １２ｍｉｎ １２ｍｉｎ １３ｍｉｎ１３ｍｉｎ１３ｍｉｎ１３ｍｉｎ ２２ｍｉｎ２２ｍｉｎ２２ｍｉｎ２２ｍｉｎ ３０ｍｉｎ３０ｍｉｎ３０ｍｉｎ３０ｍｉｎ １０Ａ １０Ａ１０Ａ １０Ａ ９Ａ９Ａ９Ａ９Ａ １４Ａ１４Ａ１４Ａ１４Ａ １４Ａ１４Ａ１４Ａ１４Ａ ４５Ｖ ４５Ｖ４５Ｖ ４５Ｖ ８５Ｖ８５Ｖ８５Ｖ８５Ｖ ８５Ｖ８５Ｖ８５Ｖ８５Ｖ １３５Ｖ１３５Ｖ１３５Ｖ１３５Ｖ ＡＣ/DC ＡＣ/DCＡＣ/DC ＡＣ/DC ＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DC ＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DC ＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DCＡＣ/DC ５ ５ ５ ５ΩΩΩΩ 10Ω10Ω10Ω10Ω ６Ω６６６ΩΩΩ 10Ω10Ω10Ω10Ω 最高温度 最高温度 最高温度 最高温度 温度均一性 温度均一性 温度均一性 温度均一性 均一性領域 均一性領域 均一性領域 均一性領域 最大電流 最大電流 最大電流 最大電流 最大電圧 最大電圧 最大電圧 最大電圧 入力パワー 入力パワー 入力パワー 入力パワー ヒーター抵抗 ヒーター抵抗 ヒーター抵抗 ヒーター抵抗 ９５０℃までの立上がり時間 ９５０℃までの立上がり時間 ９５０℃までの立上がり時間 ９５０℃までの立上がり時間 （大気中） （大気中） （大気中） （大気中） MeiVac社製高温基板ヒーターは、薄膜積層の間、基板に一定で均一な加熱を供給します。社製高温基板ヒーターは、薄膜積層の間、基板に一定で均一な加熱を供給します。社製高温基板ヒーターは、薄膜積層の間、基板に一定で均一な加熱を供給します。社製高温基板ヒーターは、薄膜積層の間、基板に一定で均一な加熱を供給します。 酸素雰囲気中で温度を９５０ 酸素雰囲気中で温度を９５０酸素雰囲気中で温度を９５０ 酸素雰囲気中で温度を９５０℃℃℃℃まで加熱することが出来ます。まで加熱することが出来ます。まで加熱することが出来ます。まで加熱することが出来ます。 最大温度と高圧で酸素と他の反応ガスに耐えるように設計されています。 最大温度と高圧で酸素と他の反応ガスに耐えるように設計されています。 最大温度と高圧で酸素と他の反応ガスに耐えるように設計されています。 最大温度と高圧で酸素と他の反応ガスに耐えるように設計されています。 長い寿命でメンテナンスがほとんど必要ありません。 長い寿命でメンテナンスがほとんど必要ありません。 長い寿命でメンテナンスがほとんど必要ありません。 長い寿命でメンテナンスがほとんど必要ありません。 ニッケルをベースとした材料は、高温に耐えることを可能します。 ニッケルをベースとした材料は、高温に耐えることを可能します。 ニッケルをベースとした材料は、高温に耐えることを可能します。 ニッケルをベースとした材料は、高温に耐えることを可能します。 この非常に信頼できる基板ヒーターは、高温基板処理のための卓越した製品として認められています。 この非常に信頼できる基板ヒーターは、高温基板処理のための卓越した製品として認められています。 この非常に信頼できる基板ヒーターは、高温基板処理のための卓越した製品として認められています。 この非常に信頼できる基板ヒーターは、高温基板処理のための卓越した製品として認められています。
基板ヒーター
基板ヒーター
基板ヒーター
基板ヒーター
＜特 ＜特 ＜特 ＜特 徴＞徴＞徴＞徴＞ ◆ ◆ ◆ ◆ ＵＨＶに適合ＵＨＶに適合ＵＨＶに適合ＵＨＶに適合 ◆ ◆ ◆ ◆ ＯＯＯＯ2雰囲気に適合雰囲気に適合雰囲気に適合雰囲気に適合 ◆ ◆ ◆ ◆ 優れた温度の均一性優れた温度の均一性優れた温度の均一性優れた温度の均一性 ◆ ◆ ◆ ◆ 最高９５０最高９５０最高９５０最高９５０℃℃℃まで加熱℃まで加熱まで加熱まで加熱 ＜用 ＜用 ＜用 ＜用 途＞途＞途＞途＞ ◆ ◆ ◆ ◆ スパッタリングスパッタリングスパッタリングスパッタリング ◆ ◆ ◆ ◆ レーザーアプレーションレーザーアプレーションレーザーアプレーションレーザーアプレーション ◆ ◆ ◆ ◆ イオンビーム蒸着イオンビーム蒸着イオンビーム蒸着イオンビーム蒸着 ◆ ◆ ◆ ◆ ＥＣＲ、ＭＯＣＶＤ等ＥＣＲ、ＭＯＣＶＤ等ＥＣＲ、ＭＯＣＶＤ等ＥＣＲ、ＭＯＣＶＤ等取扱メーカー（代理店業務）
英国オックスフォードアプライドリサーチ社
薄膜成膜の為のUHV/HVコンポーネントを得意としておりますミニ e-ビームエバポレータ
ミニ e-ビームエバポレータ ＥＧシリーズは高純度膜の作製に適しており、蒸着レートは高度な制御が 可能で、多くの材料に対して0.1～50Å/minの範囲でコントロール出来ます ＜用 途＞ ■ 数nmの薄膜作製、半導体ドーピング ＜特 徴＞ ■ 冷却効率でコンタミネーションフリーの設計 ■ 材料はロッドまたはルツボ充填の選択サーマルガスクラッカー
TCシリーズサーマルガスクラッカーは電子ビーム加熱技術を利用し、ガス分子を低パワーで効率良く 解離させるユニットです ＜用 途＞ ■ " ソフト"基板クリーニング ■ 酸化物、窒化物 ■ 表面活性 ■ ゼロダメージ水素クリーニング ■ H、Ｏ、ＮＨ3 ＜特 徴＞ ■ 高い解離効率 ■ 超クリーンオペレーション ■ 非常に低いパワー（＜６０W） ■ バックアップフィラメント標準装備 ■ 低メンテナンスピエゾエレクトリックガスドーザー ＰＬＶ１０００
UHVの装置に適合したオールメタル極微量リークバルブで内蔵された圧電素子を用いて制御されます ＜用 途＞ ■ 極微量ガス導入 ■ MBEガス導入 ■ ガスパルシング ■ システム圧力コントロール ＜特 徴＞ ■ リモートコントロール ■ オールメタル ■ 極微量コントロール ■ ＰＣコントロール ■ １、４ポケットのタイプ ４ポケットタイプは 各ポケットの独立制御で同時蒸着も可能なタイプありVacuum Part
ﾐﾆe-ﾋﾞｰﾑｴﾊﾞﾎﾟﾚｰﾀ・ｻｰﾏﾙｶﾞｽｸﾗｯｶｰ･ﾋﾟｴｿﾞｶﾞｽﾄﾞｰｻﾞｰ
表面科学・ナノサイエンス研究用機器製品
■ 標準搭載のフラックスモニタリングプレートにより 精密な膜厚コントロールが可能
取扱メーカー（代理店業務）
英国オックスフォードアプライドリサーチ社
薄膜成膜の為のUHV/HVコンポーネントを得意としておりますRF アトムソース
＜ 用 途＞ ■ 窒化物、酸化物 ■ Ｎ-ドーピング ■ High-K誘電体 ■ 水素原子クリーニング ＜特 徴＞ ■ 高解離率 ■ 高品質膜 ■ 均一性低コスト イオンソース IG５
＜用 途＞ ■ イオンクリーニング ■ スパッタリングアプリケーション ＜特 徴＞ ■ ビームエネルギー 1.0 - 5.0 keV ■ 低いガス流量 ■ フィラメントフリー低エネルギーイオンソース ＬIon50
低エネルギーイオンソース ＬIon50は電子衝撃を利用した低エネルギーガスイオンソースです ＜用 途＞ ■ 基板クリーニング ■ 表面改質 ■ エッチング ＜特 徴＞ ■ ビームエネルギー 30 eV - 1 keV ■ 狭いエネルギー幅 ■O
2のような活性ガスにも対応 表面科学・ナノサイエンス研究用機器製品Vacuum Part
RFアトムソース・低コストイオンソース･低エネルギーイオンソース RF アトムソースはＲＦ放電を利用した中性ビームの発生源で 極めて高い原子フラックスとイオン量ゼロの中性ビームを生み出します IG5は低いガス流量レートで作動する冷陰極イオン源で イオンクリーニング、スパッタリングアプリケーションに理想的です取扱メーカー（代理店業務） 薄膜成膜の為のUHV/HVコンポーネントを得意としております
サドルフィールド型アトムソース
VSW Atomtech社製サドルフィールドファーストアトムビーム （FAB)ソースは電荷を持たない中性の直線ビームを成生します。 不安定で低出力の従来の冷陰極の常識を変え、ビームを中性 化することでこれまで電荷粒子が問題になっていた誘電体や 半導体への照射やエッチングプロセスにも適用が可能になりま した。 FAB110サドルフィールドファーストアトムソースは様々な材料 のアトムビームエッチングとスパッタリングに効果的です。 ＦＡＢソースの応用はAｒやXeのような不活性ガスによる基板のクリーニング、スパッタエッチング アトムビームスパッタ蒸着です。 CF4、SF6、C2F6、C3F8、CHF3、I2のような活性ガスも半導体材料のミリングに利用されます。 ＜用 途＞ ■ 成膜前の基板クリーニング ■ 常温接合前のサンプルのクリーニング、表面の活性化 ■ 半導体基板等のエッチング ■ 微細加工 ■ リアクティブアトムビームエッチング ＜特 徴＞ ■ 電荷を持ったイオンによる衝撃と異なり、絶縁物や半導体試料にもチャージダメージなし ■ ビームが電荷を持たないので電場や磁場中でも曲がらず直進します ＜仕 様＞ ・最大出力電流(mA)2
・ビームエネルギー（keV）0.8－2.3
・最大入力パワー(W) ・最大プラズマ電流（mA） ・ガス流量（sccm） １セル、２セル ・動作真空度（mbar）１ｘ１０-3
・冷却水（L/min ２０℃）2
・寸 法(mm)45x80x40
100
40
4、6
Vacuum Part
サドルフィールド型アトムソース
表面科学・ナノサイエンス研究用機器製品英国VSW Atomtech社
取扱メーカー（代理店業務） 本社：神奈川県相模原市中央区星が丘1-11-3-302 下溝事業所：神奈川県相模原市南区磯部1466
電流導入端子
BNC / MHV / SHV / SMA / 22極端子 / ＣＫ2.4極端子カスタム製品
研究開発用装置（超高真空）に関する事でしたらどんなことでもご相談下さい。『宇宙・衛星』 関連装置の開発を行なっております
・水星探査計画 BepiColombo/PHEBUS 搭載予定（極端紫外光分光ﾁｬﾝﾊﾞｰｼｽﾃﾑ) ・国際宇宙ステーション/きぼう 日本実験棟 搭載（ﾌﾟﾗｽﾞﾏ撮像ｶﾒﾗﾁｬﾝﾊﾞｼｽﾃﾑ） ・小型科学衛星 SPRINT-A EXCEED 搭載予定（紫外線検出器ﾁｬﾝﾊﾞｼｽﾃﾑ） 担当 ﾐｯｼｮﾝVacuum Part
電流導入端子・超高真空実験装置・宇宙/衛星関連装置他
株式会社アールバキュームラボ
水星探査衛星搭載チャンバシステム 小型科学衛星用チャンバシステムウェハーのお取り扱いを開始しました。
徹底した品質管理と優れた技術によりお客さまの用途に合わせてウエハをご用意致します
フルラインアップのサイズでご要望にお応えしております。
ウェハー
サイズ
φ２”～φ１２”
材質
シリコン、GaAS、サファイア等
伝導型 P型、N型
ドープ材 Boron、Phos、Sb、As
その他、結晶方位、抵抗率、パーティクル、厚み、面状態等、お問い合わせください
（尚、インゴットでの販売もしております。）
また、膜付けも可能です。
熱酸化膜
ポリシリコン膜（ドープ、ノンドープ）、タングステン、Cu（メッキ）
レジストコーティング、プラズマSiN（Plasma Nitride) 等々
※詳細お問い合わせください。
WAFER
サービス
三和真空 株式会社 TEL：03-5735-5656
E-mail：[email protected]
http://www.sanwa-vacuum.co.jp
WAFER SERVICE
MAIL ： [email protected] FAX ： 03-5735-5655 URL ： http://www.sanwa-vacuum.co.jp
