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半導体装置および半導体装置の

半導体製造装置プロセス管理技術

半導体製造装置プロセス管理技術

... 場 成 長 性 は 半 導 体 に 限 ら ず 各 方 面 か ら 言 わ れ て い る だ け に 、 こ 地 域 で ビ ジ ネ ス を 優 位 に 進 め る た め に 特 許 取 得 は よ り 重 要 に な る と 考 え ら れ る 。 一 方 、 コ ア テ ク ノ ロ ジ に 対 す る 特 許 取 得 を 考 え る と 、 ま ず 、 特 ...

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通信用半導体レーザの開発

通信用半導体レーザの開発

... これら化合物半導体を成長する方法として、従来、高 品質な結晶が得られる液相エピタキシャル成長(LPE : Liquid Phase Epitaxy)が用いられていた。しかし、80 年代前半から、デバイス高性能化に必須極薄膜成長 が可能で、生産性に優れ、低コスト化に有利と考えられる、 分子線エピタキシー(MBE : Molecular Beam Epitaxy) ...

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目次 第 1 部半導体デバイスモデリング... 5 第 1 章序章 研究背景 研究目的 半導体デバイスモデリングとは... 9 第 2 章半導体デバイスの劣化現象 Hot-Carrier-Injection (HCI) とは.

目次 第 1 部半導体デバイスモデリング... 5 第 1 章序章 研究背景 研究目的 半導体デバイスモデリングとは... 9 第 2 章半導体デバイスの劣化現象 Hot-Carrier-Injection (HCI) とは.

... が前半と後半時にミスマッチ影響が大きく出てしまい、中心値付近のみ相対直線から 差が小さく量子化誤差も小さいため INL と DNL が 0 に近くなったと考えられる。 パワースペクトル解析評価では、魔方陣を応用したアルゴリズムで線形性が改善されて いるため、高調波成分が減少しただと考えられる。 ...

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[NE ハンドブックシリーズ]  パワー半導体

[NE ハンドブックシリーズ]  パワー半導体

... 東田祥史氏)。例えば,定格電圧100V前後まで 低耐圧品では, 「スマートフォン」 「パソコン」 「産業用お よび自動車」三つを主なターゲットとする。「定格電圧 が十数Vスマートフォン向けでは,小型化を重視しま す」 (東田氏)。例えば低オン抵抗MOSFET「ECOMOS TM ...

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半導体量子デバイスの多様な展開

半導体量子デバイスの多様な展開

... 活性層 バンド構造模式図を示す。活性層は、サブバンド間遷 移によって光子を放出する発光層と、トンネル効果により キャリアを輸送する注入層二つ領域が一つ単位構造 を形成し、これが多段に連なっている。まさしく、階段状 に連続した滝(カスケード)ように、キャリアが各段を 流れ落ちる際に、光学的な利得が生じることにより、レー ...

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半導体中の単一磁性原子スピンの光による制御 : 正孔-Mnスピン結合系およびCrスピン

半導体中の単一磁性原子スピンの光による制御 : 正孔-Mnスピン結合系およびCrスピン

... 文 要 旨 本論文は、半導体量子ドット中単一磁性スピンを対象とした著者実験研究成果を纏めた ものである。具体的には CdTe 自己形成ドット中に遷移元素 Mn あるいは Cr 原子 1 個を含む 系を対象とし、遷移元素単一磁性スピン振舞いを調べ、光によるスピン制御手法を開拓し、 ...

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RIETI - 汎用技術としての半導体

RIETI - 汎用技術としての半導体

... 業務設計と組織構造 インターフェイス抽象化と各モジュール分権化は、半導体製造装置メーカー登場 によって強まった。これも最初は半導体メーカー使っている装置を外販するものだった が、次第に専業メーカーがあらわれ、特に半導体露光装置ではニコン・キャノン 2 社で ...

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ディスクリート半導体の基礎

ディスクリート半導体の基礎

... =600V 場合、 R drift >> R ch > R J-FET , R N+ , R sub となり R drift でR DS(ON) は決定されますが、 V DSS =30V 場合、 R ch >> R drif t > R N+ , R sub となりトレンチMOSによる微細化でR DS(ON) を下げる事が出来ます。 ① ...

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ディスクリート半導体の基礎

ディスクリート半導体の基礎

... • 本製品を分解、解析、リバースエンジニアリング、改造、改変、翻案、複製等しないでください。 • 本製品を、国内外法令、規則及び命令により、製造、使用、販売を禁止されている製品に使用することはできません。 • ...

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半導体工学の試験範囲

半導体工学の試験範囲

... d 階段型 pn 接合に関する以下設問に答 えよ。ただし、空乏層内電荷はイオン化したアクセプタとドナーのみとし、 p および n 領域厚さは 十分大きく、空乏層外 p 領域、 n 領域では電界は無視でき、アクセプタとドナーはすべてイオン化し ているものとする。また、座標は、接合面を x=0 とし、 n 領域を x ...

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                                             半導体デバイスの信頼性

                                             半導体デバイスの信頼性

... 図Ⅲ-4 実装時圧力によるクラック発生例 図Ⅲ-4 にクラックが発生した例を示す。パッケージはガラスセラミック(ガラセラ)を用いモールドでパッ ケージングしてある。このパッケージをガラスエポキシ(ガラエポ)基板に実装し、その後、パッケージ 上面より圧力を印加した場合図である。パッケージほぼ中央付近にクラックが発生している。クラッ ...

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実習 K: ダイオード 1. 目的 pn 接合半導体整流器の電圧電流特性を測定し 半導体の物理的性質および整流器としての整流作用を理解する 2. ダイオード ダイオードとは二つの電極 ( アノード (A) とカソード (K)) を持った半導体の総称で 最も基本的な非 線形素子である 図 K1 に今回

実習 K: ダイオード 1. 目的 pn 接合半導体整流器の電圧電流特性を測定し 半導体の物理的性質および整流器としての整流作用を理解する 2. ダイオード ダイオードとは二つの電極 ( アノード (A) とカソード (K)) を持った半導体の総称で 最も基本的な非 線形素子である 図 K1 に今回

... 13 図 L5(補) エミッタ接地トランジスタ静特性測定回路 始めに、電源電圧調整つまみを左一杯に回して電圧を 0V にし、電源を入れる。 (1)ベース電流( Ib )を 0mA にした時電圧電流特性を測定する。このため、図 L5ベース側 電流計接続を外しておく。この状態でコレクタ・エミッタ電圧( Vce )を 0~10V ...

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Microsoft PowerPoint - 第2回半導体工学

Microsoft PowerPoint - 第2回半導体工学

... 量子力学要請 1価滑らかな関数意味・・・位置エネルギーが変わる境界とこ ろでも波動関数及びその1次微分が連続 (但し, 位置エネルギーが無限大ところでは波動関数は零 , 即ち ...

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Microsoft PowerPoint - 第11回半導体工学

Microsoft PowerPoint - 第11回半導体工学

... GaAs、GaInPおよびGaN各バンド有効質量と透明になる電子-正孔対濃度 GaAs Ga 0.5 In 0.5 P GaN 伝導帯電子有効質量 m e /m 0 0.067 0.105 0.2 価電子帯軽い正孔有効質量 m lh /m 0 0.082 0.14 0.33 価電子帯重い正孔有効質量 m hh /m 0 0.45 0.48 ...

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中国の半導体市場|TMT Predictions 2019 日本の視点

中国の半導体市場|TMT Predictions 2019 日本の視点

... • 一方、車載マイコンやアナログ等 IC は、最先端製造装置を必ずし も必要としないケースも多く、 10 ~ 20 年前装置で製造が可能である ため 3 、これら中国向け市場は従来通り拡大していくと推測される。 さらに旧世代製造装置は中古流通市場が形成されており、韓国 ...

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像の復元に適した符号化開口を設計した. 本稿では, この設計した符号化開口を適用して画像復元を行い, 位置合わせの精度を評価し, 推定した合焦画像が位置合わせ装置に必要十分な画質であることを示す.. 産業用装置の位置合わせ機能半導体や液晶, プリント基板の各種検査装置の検査工程において, 検査材料の

像の復元に適した符号化開口を設計した. 本稿では, この設計した符号化開口を適用して画像復元を行い, 位置合わせの精度を評価し, 推定した合焦画像が位置合わせ装置に必要十分な画質であることを示す.. 産業用装置の位置合わせ機能半導体や液晶, プリント基板の各種検査装置の検査工程において, 検査材料の

... 図 3 アライメントマーク画像例と その画像パワースペクトル平均値 4.2 符号化開口最適化方法 4.1 で述べたように,自然画像とアライメントマーク画 像パワースペクトル平均値をとったとき,画像に含まれ る周波数成分傾向が異なることがわかった.よって, Zhou ら[5]が用いた開口評価関数(5)式で自然画像パ ...

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から プロセッサー メモリー 拡張ボード 内蔵デバイスなど < 外付けオプション編 > テ ィスフ レイ装置 USB MEM スイッチンク HUB 外付け装置 (BR1200) 外付け装置 (BR1650) 外付け装置 ( 日立テ ィスクアレイシステム ) 下

<システム装置および内蔵オプション編 >から プロセッサー メモリー 拡張ボード 内蔵デバイスなど < 外付けオプション編 > テ ィスフ レイ装置 USB MEM スイッチンク HUB 外付け装置 (BR1200) 外付け装置 (BR1650) 外付け装置 ( 日立テ ィスクアレイシステム ) 下

... ・LTOライブラリ装置には、スロット数分のLTOカートリッジを標準添付しておりません。必要に応じ媒体をセットしたモデルを御購入ください。 尚、媒体セットモデル媒体には予めバーコードラベル(No.000001~000030;変更不可)が貼り付けられています。 ・LTOカートリッジを追加手配する場合は、消耗品扱いで、日立システムズより御購入ください。 ...

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半導体技術分野の重要技術説明資料

半導体技術分野の重要技術説明資料

... Ⅲ−21 度なサービスが可能になるであろう。 SoC 混載用不揮発性メモリ システムオンチップ(SoC)は今後電子機器高付加価値化を支える中核的な半導体デバイ スである。高性能で小型であることから、据え置き型電子機器と並んでモバイル機器に多用され る。そのため、今後ますます、SoCには低消費電力長時間動作と、電源ON・OFFにより瞬時に ...

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半導体中の単一磁性原子スピンの光による制御 : 正孔-Mnスピン結合系およびCrスピン

半導体中の単一磁性原子スピンの光による制御 : 正孔-Mnスピン結合系およびCrスピン

... Finally, we demonstrate that, under a resonant single-mode laser eld, the energy of any spin state of an individual Cr atom can be independently tuned using the optical Stark eect.. V.[r] ...

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業種別 通貨別組入比率 (2018 年 11 月 30 日現在 ) 業種別 通貨別 その他 43.1% キャッシュ等 1.3% 銀行 21.1% 食品 飲料 タバコ 7.5% 半導体 半導体製造装置 9.7% エネルギー 9.1% 電気通信サービス 8.1% インドネシアルピア 2.3% タイバーツ

業種別 通貨別組入比率 (2018 年 11 月 30 日現在 ) 業種別 通貨別 その他 43.1% キャッシュ等 1.3% 銀行 21.1% 食品 飲料 タバコ 7.5% 半導体 半導体製造装置 9.7% エネルギー 9.1% 電気通信サービス 8.1% インドネシアルピア 2.3% タイバーツ

... ファンド保有期間中、その都度ファンドから支払われます。 ・ 有価証券売買委託手数料/保管銀行等に支払う外貨建資産保管費用/信託財産に関する租税、信託事務処 理に要する費用等 ・ 振替制度にかかる費用/印刷業者等に支払う法定書類作成、印刷、交付および届出にかかる費用/監査法人等に ...

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