Table 1 Chemical composition of MgAlZn alloys(mass).
thickness Al Zn Mn Fe Si Mg
1Al rolled 0.7 mm 0.98 0.34 0.24 0.013 0.007 bal.
3Al rolled 0.5 mm 3.35 0.95 0.47 0.004 0.013 bal.
6Al rolled 0.8 mm 6.60 0.52 0.55 0.005 0.025 bal.
9Al die cast 0.7 mm 8.76 0.80 0.17 0.003 0.030 bal.
塩化物環境における Mg Al Zn 系合金の耐食性に 及ぼす Al 含有量の影響
喜 多 勇 人
1木 本 雅 也
2工 藤 赳 夫
21,2住友金属工業株式会社総合技術研究所
J. Japan Inst. Metals, Vol. 69, No. 9(2005), pp. 805809
2005 The Japan Institute of Metals
Influence of Al Content on Corrosion Resistance of Mg Al Zn Alloys in Chloride Environments Hayato Kita
1, Masanari Kimoto
2and Takeo Kudo
21Corporate Research & Development Laboratories, Sumitomo Metal Industries, Ltd., Joetsu 9428510
2Corporate Research & Development Laboratories, Sumitomo Metal Industries, Ltd., Amagasaki 6600891
Influence of Al content on corrosion resistance of MgAlZn alloys containing 1 to 9 massAl was investigated in chloride environments. The corrosion rate decreased with increasing the Al content in the alloys regardless of the testing methods such as salt immersion test(SIT)and salt spray test(SST). The immersion tests in buffered solutions at constant pH also clarified that the effect of the Al content on the corrosion resistance is largest around pH 10, and diminished when pH is raised up to 12, where MgAlZn alloys are passivated by the formation of Mghydroxide on the surface. XPS analysis revealed that Al was concentrat- ed in the surface film, especially around pH 10, and its concentration was increased with the Al content in the alloys. The high cor- rosion resistance of MgAlZn alloys with high Al can be attributed to the formation of the Alrich surface film in chloride en- vironments.
(Received April 26, 2005; Accepted June 27, 2005)
Keywords:MagnesiumAluminumZinc alloys, corrosion rate, salt immersion test, salt spray test, buffered solution, Xray photoelec- tron spectra, potentiodynamic measurement, surface film
1.
緒 言マグネシウムは実用金属材料の中でもっとも軽量かつ比強 度に優れ,軽量化部品や構造材として幅広い分野に利用され ている1).一方,マグネシウムは化学的に活性で,塩化物水 溶液中では激しく腐食するが,合金化と不純物元素の低 減2,3)により実用的な耐食性が得られるようになった.さら に各種の表面処理4)による防食技術の開発も進められている が,マグネシウム合金の腐食機構については十分解明されて いない.
一般にマグネシウム製品はダイカスト等の鋳造法による成 形が主流であるが,近年は展伸材をプレス成形してノートパ ソコンや携帯電話等の電子機器筺体に適用する方法が注目さ れている.鋳造用のマグネシウム合金には機械的強度と鋳造 性1)の良い
AZ91(Mg 9 massAl 1 massZn),プレス成
形用には加工性の良いAZ31(Mg 3 massAl 1 massZn)
といったMg Al Zn
系合金が多用される.合金元素として 添加するAl
は耐食性の向上に有用であり510),大気中や水 中で表面皮膜中にAl
濃化して耐食的な酸化皮膜を形成する ことが知られている57).また耐食性に効果のあるAl
含有量の閾値を
4以上とする報告
6)もある.しかし腐食進行過程での表面皮膜中への
Al
の濃化挙動については明らかではな い.筆者らは前報11)において,AZ31圧延板の耐食性を種々の腐食試験法を用いて調査するとともに,環境因子の影響に ついても報告した.その中で
AZ31
合金が塩化物水溶液中で 腐食する時に金属表面近傍はpH 10
以上に達することを示 した.本報では塩化物環境でのMg Al Zn
系合金の耐食性 に及ぼすAl
含有量の影響を調べるため,緩衝液を用いたア ルカリ性塩化物水溶液中での腐食挙動および表面皮膜中へのAl
濃化について検討した12,13).2.
実 験 方 法供試材として
Table 1
に示す4
種類のMg Al Zn
系合金 を使用した.以下,1Al, 3Al, 6Al, 9Al合金と表記 する.このうち1, 3, 6Al
合金は押出し素材(板厚1 mm)
を温間圧延した薄板,9Al合金はダイカスト製品から平板 部分を切り出したものを使用した.いずれも#1200エメ リー紙で乾式研磨し,アセトン中で超音波洗浄の後に温風乾 燥してから試験に供した.塩水浸漬試験および電気化学測定Table 2 Chemical composition of buffer solutions.
pH 9 0.05MNa2B4O7・10H2O
pH 10 0.025MNa2CO3+0.025MNaHCO3 pH 12 0.05MNaOH
Fig. 1 Corrosion rates of MgAlZn alloys in salt immersion test(SIT)and salt spray test(SST)with 5 and 0.5 mass
NaCl solutions.
Fig. 2 Corrosion rates of MgAlZn alloys and pure Al in salt immersion test of 5 massNaCl buffered solutions as a func- tion of the pH.
では純
Al
圧延板も使用した.腐食試験は塩水浸漬試験と塩水噴霧試験を行った.以下,
それぞれの試験方法を
SIT, SST
と表記する.両試験法ともpH
未調整(as pHと表記する)の5
および0.5 massNaCl
水溶液を用い,試験期間は3
日間とした.SITは試験液の 比液量100 L/m
2,温度308 K
とし,試験片を試験液中に吊 り下げて静置した状態で行った.さらにSIT
はTable 2
に 示す緩衝液を用いてpH
調整した5 massNaCl
水溶液でも 行った.SSTはJIS Z 2371
に準拠して行い,試験温度は308 K
とした.試験後は15 massCrO
3溶液,温度353 K
により腐食生成物を除去し,質量法によって腐食速度を算出 した.SIT後の試験液は,塩酸を加えて沈殿した腐食生成 物を完全に溶解した後に金属濃度分析を行った.アノード分極測定は
Table 2
に示す緩衝液でpH
調整した5 massNaCl
水溶液,温度308 K
を用いた.試験片面積1
×10-4
m
2として,対極にカーボン,参照電極にAg/AgCl
を使用した.実環境では十分な酸素供給のある薄膜環境下で 腐食が進行することを考慮して,測定中は液撹拌とエアバブ リングを行った.分極測定は自然電位で15 s
保持した後に カソード分極状態からアノード分極状態まで,すなわち-1.9~-1.2 Vまで+0.001 V/sで掃引しながら測定を行 い,腐食電位よりも貴な電位域をアノード分極曲線とした.
XPS
分析は表面研磨した試験片を5 massNaCl
水溶液に
300 s
浸漬して軽く腐食させ,蒸留水による洗浄と温風乾燥を行った後に,腐食生成物の存在しない金属光沢の残る部 分について測定を行った.
3.
実 験 結 果3.1 腐食に及ぼすAl含有量の影響
Fig. 1
にSIT
およびSST
による4
種類のMg Al Zn
系合 金の腐食速度を示す.両試験法ともAl
含有量の多い合金ほ ど腐食速度は低く,0.5 massNaCl水溶液にすると腐食速 度は著しく減少した.SSTによる腐食速度はSIT
に比べて 低く,0.5 massNaCl水溶液の場合にはAl
含有量の違いに よる腐食速度の差は少ない.前報11)で示したようにSST
で は金属表面に存在する液膜厚みが薄く,金属表面近傍の急激 なpH
上昇によってSIT
よりも腐食速度が小さくなったと 考えられる.すなわちMg Al Zn
系合金の腐食速度はAl
含 有量の依存性を示し,試験法による違いと塩化物濃度依存性 についてはAl
含有量の違いに関わらず同じ傾向を示すこと がわかった.3.2 腐食に及ぼすpHの影響
腐食に及ぼす
pH
の影響を調べるため,緩衝液でpH
調整 した5 massNaCl
水溶液を用いてSIT
を行った.比較と して純Al
も同様の試験を行った.Fig. 2に腐食速度とpH
の関係を示す.3~9Al合金の腐食速度は
pH
を高くする ほど低下傾向を示したが,1Al合金の腐食速度はpH 10
の時に大きくなった.すなわちAl
含有量の違いによる腐食 速度の違いはpH 10
の時に最も大きいことがわかる.なお 純Al
の腐食速度はpH
が高いほど増大した.SIT
後の試験液を分析した結果,溶出金属としてMg, Al,
Zn
が検出された.これらの溶出金属量の総量はAl
含有量の 多い合金ほど少なく,かつ高pH
ほど減少し,Fig. 2の腐食 速度と同じ傾向を示した.Fig. 3に溶出金属量の総量に対す るAl
の溶出量をAl
溶出率(=Al/(Mg+Al+Zn))として計 算し,素地のAl
含有量との関係をプロットした.なお図中 の点線(CRL: Composition Reference Line)は素地のAl
含有 量を示したものである.pH 9と10
のAl
溶出率は素地のAl
含有量に比べて低く,特にpH 10
ではAl
含有量の多い合金 ほどAl
溶出抑制が顕著であり,Alは表面皮膜中に濃化して いることが予想される.一方,pH 12のAl
溶出率は素地のAl
含有量とほぼ同程度にまで増加し,高pH
ではFig. 2
の 純Al
の腐食速度が増加したことと同様にMg Al Zn
系合金Fig. 3 Relation between dissolved Al mass ratio and Al con- tent of the alloys after 3 days of immersion in 5 massNaCl so- lution at various pH.(CRL: Composition Reference Line).
Table 3 Chemical composition of surface films on MgAlZn alloys after 300 s of immersion in 5 massNaCl solution by XPS quantitative analysis(mass).
O Mg Al Cl
1Al 58.0 39.4 0.0 2.6
3Al 56.4 38.7 1.9 3.1
6Al 56.1 34.7 5.6 3.6
9Al 56.0 31.6 7.7 4.6
中の
Al
の溶出量も増加したと考えられる.3.3 腐食初期の表面皮膜組成
腐食初期の表面皮膜組成を解析するため,表面研磨した試 験片を
5 massNaCl
水溶液に300 s
浸漬して軽く腐食させ た後に,腐食生成物が無く金属光沢の残った部分のXPS
分 析を行った.検出元素のうちC
を除く元素の定量分析結果 をTable 3
に示す.Fig. 4にAl 2s
領域のナロースキャンス ペクトル,Fig. 5にTable 3
の定量分析値から得られた表面 皮膜中のAl
濃度(=Al/(Mg+Al))と素地のAl
含有量との 関係を示す.図中の点線(CRL:Composition Reference Line)は素地の Al
含有量を示したものである.Table 3
に示すように3~9Al
合金は皮膜構成元素とし てO, Mg, Al, Cl
が検出されたが,1Al合金にはAl
は検出 されなかった.また,いずれの合金からもZn
は検出されな かった.Fig. 4に示すAl 2s
領域のスペクトルはAl
含有量 が多いほどAl
3+に起因する119 eV
付近のピーク強度が増 大した.この場合,金属Al
に起因するピーク(117.8 eV)は ほとんど認められず,表面皮膜中のAl
は酸化物または水酸 化物を形成していると考えられる.Fig. 5に示す表面皮膜中 のAl
濃度は素地のAl
含有量に対して直線的に増加し,特 に6Al
以上の合金では素地の2
倍以上濃化していた.す なわち塩化物水溶液中でAl
は比較的短時間のうちに表面皮 膜中に濃化し,かつAl
含有量の多い合金ほど高濃度に濃化 していることがわかる.次に,表面皮膜中への
Al
濃化に及ぼすpH
の影響を調査するため,3Al合金を
pH
調整した5 massNaCl
水溶液 に300 s
浸漬した後に,上記と同様にXPS
分析を行った結 果をFig. 6
に示す.表面皮膜中のAl
濃度はpH 10
で最大と なり,Fig. 3のpH 10
でAl
溶出が抑制されたことに一致す る.一方,pH 12のAl
濃度も素地に比べれば濃化しており,Fig. 3
のpH 12
でAl
溶出率が増大したこととは一致しな い.すなわちpH 10
では腐食初期から表面皮膜中にAl
濃化 しているのに対して,pH 12では腐食のごく初期段階の金属 光沢を示す部分にはAl
濃化するものの,腐食の進行過程でAl
溶出が増加していくためと考えられる.4.
考 察前節において
Mg Al Zn
系合金はAl
含有量の増加とともに
SIT, SST
に関わらず腐食速度が減少すること,および塩化物水溶液中において
Al
含有量が多いほど表面皮膜へのAl
濃化が顕著となることが明らかとなった.また前報11)ではAZ31
の場合に金属表面と塩化物水溶液との界面ではpH
が 急激に上昇し,pH 10以上に達することを明らかにした.そ こで表面皮膜中へのAl
濃化による耐食性とそのpH
依存性 について考察する.Fig. 2
に示したように緩衝液を用いてpH
調整した環境中では,pH 10付近で腐食速度に及ぼすAl
含有量の影響が最も大きくなった.さらにFig. 3
にpH
の 違いによるAl
溶出率の変化,Fig. 6に表面皮膜中のAl
濃 度の違いを示したように,pH 10付近では表面皮膜中へのAl
濃化が最大になることが明らかとなった.腐食に及ぼす
pH
の影響を調べるため電気化学測定を行っ た.Fig. 7にpH 9, 10, 12
に調整した5 massNaCl
水溶液 中で測定したアノード分極曲線を示す.比較のために純Al
のアノード分極曲線も測定した.pH 9と12
のアノード分極 曲線にはAl
含有量の影響はほとんど認められないが,pH10
ではAl
含有量の増加にともない腐食電位は貴に移行し,プラトーを示す領域の電流密度低下も認められた.前報にお いて
AZ31
合金の腐食はアノード支配で進行することを述べ た.Al含有量増加にともなうプラトー領域の電流密度低下 は腐食のアノード反応が抑制されたことを意味しており,Al
濃化した皮膜形成に起因した現象と考えられる.なお,純
Al
の腐食電位はpH
を高くするほど卑に移行し,高pH
になるほど溶解しやすくなることがわかる.Fig. 8に腐食電 位を素地のAl
含有量で整理した結果を示す.腐食速度の指 標となる腐食電位はpH 9
と12
ではAl
含有量の影響はほと んど認められないが,pH 10ではAl
含有量の増加につれて 上昇した.すなわちpH 10
の腐食電位は表面皮膜中へのAl
濃化量の違いが支配的となっており,Table 1に示すAl
以 外の成分の違いあるいは組織の違い(1~6Al合金は圧延組 織,9Al合金は鋳造組織)の影響は小さいと考えられる.Fig. 3
とFig. 6
の結果ともあわせ考えるとpH 10
付近ではAl
濃化した耐食的な表面皮膜の形成により腐食のアノード 反応が抑制されたと考えられる.一方,pH 12ではAl
が溶 出するためその影響はほとんど認められない.またpH 9
でAl
含有量の影響が認められなかったのは,Al水酸化物がよ り安定となる結果,表面皮膜中のAl
量が少ない場合でも耐Fig. 4 Xray photoelectron spectra(XPS)of surface films on MgAlZn alloys after 300 s of immersion in 5 massNaCl so- lution.
Fig. 5 Relation between Al/(Mg+Al)mass ratio of surface film and Al content of the alloys after 300 s of immersion in 5 massNaCl solution.(CRL: Composition Reference Line).
Fig. 6 Al/(Mg+Al)mass ratio of surface film of 3Al alloy after 300 s of immersion in 5 massNaCl buffered solutions.
Fig. 7 Anodic polarization curves of MgAlZn alloys and pure Al in 5 massNaCl buffered solutions.
Fig. 8 Relation between corrosion potentials and Al content of the alloys in 5 massNaCl buffered solutions.
食性を維持できることを示しているが詳細は明らかではない.
表面皮膜中の
Al
は酸化物または水酸化物を形成している ことをFig. 4
に示した.Table 3に示すMg
とAl
の全てが 酸 化 物(MgO
+Al
2O
3)ま た は 水 酸 化 物(Mg
(OH
)2+Table 4 Calculated Oxygen content as mixture of MgAl oxide or hydroxide(mass).
Oxide Hydroxide
1Al 25.9 51.9
3Al 27.2 54.3
6Al 27.8 55.6
9Al 27.7 55.0
Fig. 9 Pourbaix diagram of Mg (solid lines) and Al (dot lines).
Al( OH)
3)を 形 成 し て い る と仮 定し て計 算し た 酸 素 濃 度 (mass)をTable 4
に示す.この計算値とTable 3
のO
の 実測値とを比較すると,表面皮膜中のMg
とAl
は水酸化物 を形成している可能性が高い.なおMg Al
系合金の腐食生 成物が[Mg1-xAl
x(OH)2]x+の構造を持つ複水酸化物とする報告14,15)もあるが,ここではその確認はできなかった.
Fig. 9
に298 K,金属イオン濃度 10
-6mol/L
におけるAl
とMg
の電位pH
図16)を重ね合わせて示す.Alは中性付近,Mg
は高pH
域でそれぞれ酸化物または水酸化物を形成して 不動態化する.pH 10付近で耐食性に及ぼすAl
含有量の影 響が最も大きくなることはすでに述べた.MgAl Zn
系合 金の場合はFig. 9
の電位pH
図とはAl
の安定化するpH
域 は 一致し な い が ,pH 10
付近 で はMg
は 溶出し ,AlはAl(OH)
3として表面に濃化したと考えられる.この場合にAl
含有量の多い合金ほど高濃度にAl
濃化した皮膜を形成す ることによって耐食性が向上したと考えられる.一方,pH12
でAl
含有量の影響がほとんど認められなくなるのは,Mg(OH)
2の不動態皮膜形成によって耐食性が維持されるためと考えられる.
5.
結 言本研究では
Mg Al Zn
系合金の耐食性に及ぼすAl
含有量 の影響を明らかにするため,塩水浸漬試験と塩水噴霧試験に よる腐食速度の比較,および腐食初期のXSP
分析と電気化 学測定を行い,以下の知見を得た.
Mg Al Zn
系合金の腐食速度はSIT>SST
の関係に あり,両試験法ともAl
含有量の多い合金ほど高耐食であっ た.塩化物濃度を低くすると腐食速度は大幅に減少し,SST の場合はAl
含有量による腐食速度の差は小さくなった. 塩化物水溶液中において
Al
含有量の多い合金ほど表 面皮膜中にAl
が高濃度に濃化することが明らかとなった. 腐食速度に及ぼす
Al
含有量の影響はpH 10
の時に最 も大きく,表面皮膜中へのAl
濃化がpH 10
付近で最大にな ることと対応するものと思われる.pH 12ではAl
含有量に よる腐食速度差は小さく,高pH
環境ではMg
水酸化物の形 成によって耐食性が維持されていると考えられる.文 献
1) Y. Kojima: J. Surf. Finish. Soc. Jpn.44(1993)866873.
2) K. Nisancioglu, O. Lunder and S. Ono: J. Surf. Finish. Soc. Jpn.
44(1993)883889.
3) O. Lunder, T. Kr. Aune and K. Nisancioglu: Corrosion43(1987) 291295.
4) M. Takaya: J. Surf. Finish. Soc. Jpn.44(1993)874882.
5) S. Ono: J. Surf. Finish. Soc. Jpn.53(2002)166171.
6) J. H. Nordlien, K. Nisancioglu, S. Ono and N. Masuko: J. Elec- trochem. Soc.143(1996)25642572.
7) J. H. Nordlien, K. Nisancioglu, S. Ono and N. Masuko: J. Elec- trochem. Soc.144(1997)461466.
8) O. Lunder, J. E. Lein, T. Kr. Aune and K. Nisancioglu: Corro- sion45(1989)741748.
9) G. L. Makar and J. Kruger: J. Electrochem. Soc. 137(1990) 414421.
10) D. Daloz, P. Steinmetz and G. Michot: Corrosion53(1997)944
954.
11) H. Kita, M. Kimoto and T. Kudo: J. Japan Inst. Metals 68(2004)868872.
12) H. Kita, M. Kimoto and T. Kudo:Collected Abstract of the 2004 Spring Meeting of the Japan Inst. Metals(2004)146.
13) H. Kita, M. Kimoto and T. Kudo:Collected Abstract of the 2004 Autumn Meeting of the Japan Inst. Metals(2004)483.
14) S. Mathieu, C. Rapin, J. Steinmetz and P. Steinmetz: Corr. Sci.
45(2003)27412755.
15) C. B. Baliga and P. Tsakiropoulos: Mater. Sci. Thcnol.9(1993) 513519.
16) M. Pourbaix:Atlas of electrochemical equilibria in aqueous solu- tions,(Pergamon Press, New York, N.Y. 1966).