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(4) 高品質な銅酸化物高温超伝導膜の新規低温製造プロセスの提案

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(1)

高品質な銅酸化物高温超伝導膜の 新規低温製造プロセスの提案

島根大学 総合理工学研究科 物理・材料科学領域 助教

舩木 修平

REBa

2

Cu

3

O

y

RE123 REBa

2

Cu

4

O

8

RE124

第34回無機材料に関する最近の研究成果発表会

-材料研究に新しい風を-

2017

1

26

(2)

発表のアウトライン

 背景

超伝導現象の発見,及び超伝導転移温度

(T c )

の変遷

超伝導の

3

つの臨界,及び高性能化への指針

RE123, RE124

超伝導体の特徴,及び現状と課題

目的・検討内容

KOH flux

 研究成果

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(3)

超伝導現象の発見 ~ 1911 年~

H. Kamerlingh-Onnes

(オランダ、ライデン大学)

・超伝導の発見

・液体ヘリウムの精製

この後、金属系及び合金系の超伝導体が数々発見される

水銀を極低温(4.2 K)にすることで 抵抗が消失する現象を発見

(4)

超伝導転移温度 (T c ) の変遷

出典:

http://www.spring8.or.jp/ja/news_publications/press_release/2016/160510/ (2016/12/9

アクセス)

(5)

超伝導の 3 つの臨界( T c –B c –J c

超伝導状態は、ある温度、磁場、電流密度以下(臨界面の内側)で存在

温度一定で使用

(6)

高性能化への指針(磁束のピン止め)

J

:電流

B:磁束

F

L:ローレンツ力

(F

L

=J

×

B)

ピンニングセンター

PC:常伝導体、Tc の低い領域)

P

F:ピン力

磁束をピン止めする

ピンニングセンター

(PC)

が必要

Fig.

混合状態にある超伝導体。

ローレンツ力が発生

磁束が速度

v

で移動するとき

E=B×v

(誘導起電力が発生)

磁束線の運動

電気抵抗の発生

超伝導の消失

(7)

各次元のピンニングセンター(PC)

転位

刃状転位、螺旋転位

柱状欠陥

BZO nanorods

、イオン照射 領域などの非超伝導相

Fig. 超伝導体内に存在するピンニングセンターの概略図。

1D-APC 2D-APC 3D-APC

結晶粒界

双晶境界

析出物・異相

Cu-O

弱超伝導部分

RE / Ba

置換した

Low-T

c

(8)

発表のアウトライン

 背景

超伝導現象の発見,及び超伝導転移温度

(T c )

の変遷

超伝導の

3

つの臨界,及び高性能化への指針

RE123, RE124

超伝導体の特徴,及び現状と課題

目的・検討内容

KOH flux

 研究成果

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(9)

RE123, RE124 超伝導体の特徴

T

c

~ 90 K

酸素量で

T

cが変化

軽希土類で高

T

c

RE/Ba

置換により

T

c が低下[1]

RE123の結晶構造

c b

RE124の結晶構造

RE Ba Cu

T

c

< 80 K

酸素量が安定で

T

c が一定

重希土類で高

T

c

RE/Ba

置換を生じ にくい

Ca

添加で

T

c

= 90 K

比較的薄膜化が容易

酸素アニール処理が必要

✕ 良質薄膜の合成難

○ 酸素アニール処理が不要

液体窒素温度

(77 K)

下における応用が期待されているが,

電気的異方性を有するため配向プロセスが必要

REBa

2

Cu

3

O

y

(RE123) REBa

2

Cu

4

O

8

(RE124)

[1] M. Murakami et al., Supercond. Sci.

Technol. 9 (1996) 1015-1032

応用上の長所・短所 応用上の長所・短所

(10)

実用化の現状と課題

金属テープ 超伝導層 金属原子の拡散

金属原子などの不純物 による

T

cの低下

高温における合成に際しては 金属原子の拡散防止が必要

現在主流の手法

(PLD, MOD

)

800ºC前後の高温環境が必要

バリア層が必須

低コスト化の妨げ

バリア・配向層 金属テープ

・金属テープ:機械的強度の確保

・配向層:粒界による

J

c低下を抑える

・複数のバリア層:金属原子の拡散の防止

・安定化層:超伝導膜を保護

超伝導膜 安定化層

Coated Conductor

方式

Schematic image of Coated Conductor tape

(11)

研究目的,検討内容

低温かつ高速で RE124, RE123 膜を成膜可能 とする簡易的な手法の確立

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(12)

Fabrication method Temp.

[˚C]

Pressure [atm]

Time [h]

Solid state reaction

[1]

800 1 168 High-pressure synthesis

[2]

1050 100 21 Molten alkali hydroxide

[3]

700 1 ~ 4

Table. RE124

結晶の作製方法

[1] S. Adachi et al., Physica C 175 (1991) 523 [2] T. Miyatake et al., Nature 341 (1989) 41.

[3] Y. T. Song et al., J. Cryst. Growth 300 (2007) 263

Fig. Y124

単結晶の

SEM

[3]

溶融させた水酸化アルカリを 用いて低温で

Y124

単結晶を 作製

Ca

RE

サイトに置換させ キャリア濃度を制御すること

T c

91 K

まで上昇

Fig. Y

1-x

Ca

x

Ba

2

Cu

4

O

8結晶における

磁化率の温度依存性 [2]

KOH

フラックスを用いた

Y124

単結晶の低温合成

(13)

発表のアウトライン

 背景

超伝導現象の発見,及び超伝導転移温度

(T c )

の変遷

超伝導の

3

つの臨界,及び高性能化への指針

RE123, RE124

超伝導体の特徴,及び現状と課題

目的・検討内容

KOH flux

 研究成果

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(14)

試料作製手順

Muffle furnace

Insulation material

NdGaO

3

(001) Substrate

Raw materials

KOH

0 3 6 9 12 15 18

Heating temperature [ºC]

T

f

= 494 ~ 796ºC

Time[h]

496 ~ 796ºC

12 h

加熱処理

12 h

KOH

及び

K

2

CO

3除去のために、

水、エタノールを加え超音波洗浄

Particle Film

RE : Ca : Ba : Cu = 1–x : x : 2 : 4 (x = 0 ~ 0.15)

(15)

Y124 膜及び YCa124 膜の配向性 (T f = 641ºC)

2 q [degree]

: RE124 (00l)

NGO (004) NGO (006)

10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 0

Y124 YCa124(x=0.1)

Int ensity [a . u. ]

0 90 180 270 360 f [degree]

NGO sub.

Intensity [a . u. ]

0 90 180 270 360

Y124 YCa124(x=0.1)

NGO sub.

(a) (b)

f [degree]

Fig. Y124

膜及び

YCa124

膜の

XRD 2 q - q

パターン

Fig. Y124

膜及び

YCa124

膜の

XRD 2 qc - f

パターン

using (204) using (204)

using (108) using (108)

S. Funaki et al, Physics Procedia 27 (2012) 284

(16)

Y124 膜及び YCa124 膜の配向性 (T f = 641ºC)

2 q [degree]

: RE124 (00l)

NGO (004) NGO (006)

10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 0

Y124 YCa124(x=0.1)

Int ensity [a . u. ]

0 90 180 270 360 f [degree]

NGO sub.

Intensity [a . u. ]

0 90 180 270 360

Y124 YCa124(x=0.1)

NGO sub.

(a) (b)

f [degree]

Fig. Y124

膜及び

YCa124

膜の

XRD 2 q - q

パターン

Fig. Y124

膜及び

YCa124

膜の

XRD 2 qc - f

パターン

using (204) using (204)

using (108) using (108)

[001]

[100]

NdGaO

3

[001]

[110]

Y124

Y124 [110] // NdGaO 3 [100]

641ºC

という低温でも

2

軸配向した

Y124

膜が得られた

100 mm

100 mm

Y124

YCa124(x=0.1)

S. Funaki et al, Physics Procedia 27 (2012) 284

(17)

70 80 90 100 110 120 130 140 150 Temperature [K]

Resistance [a. u. ]

Y124 YCa124

Y124 膜及び YCa124 膜の T c

Fig. Y124及びYCa124膜のR-T曲線

Y124

膜に

Ca

をドープすることで、

T c zero

8 K

上昇

S. Funaki et al, Physics Procedia 27 (2012) 284

Resistance [a. u. ]

78 80 82 84 86 88 90 92 94

Temperature [K]

Y124

YCa124

(18)

Y124, YCa124 の低温成膜

Fig. Phase identification of Y-124, YCa-124 films Fig. T

c

of Y124, YCa124 films

measured by SQUID

Y/Ca

置換量

x=0

において,

595~697ºC

124

相の強い

c

軸配向

c

軸配向領域及び

high-T

c領域が

x

の増加に従って低温側に遷移

(19)

YCa124 膜の不可逆磁場曲線

Fig. Irreversibility lines of Y124, YCa124 film

0 2 4 6 8 10

592˚C, x=0.05 641˚C, x=0.05 692˚C, x=0.05

B//c

0 2 4 6 8

10 641˚C, x=0

641˚C, x=0.05 641˚C, x=0.10 641˚C, x=0.15

B//c 40 50 60 70 80 90 100

Temperature [K]

40 50 60 70 80 90 100 Temperature [K]

B

irr

[T] B

irr

[T]

(20)

作製温度による結晶粒径の変化

作製温度の低温化に従い結晶粒径が小さくなる傾向

50 mm 50 mm 50 mm

c

作製温度:低,不可逆磁場:高

粒界によるピンニング効果で不可逆磁場が向上

595ºC, x=0.05 641ºC, x=0.05 697ºC, x=0.05

(21)

Ca ドープ量による結晶粒径の変化

c

50 mm 50 mm

50 mm 50 mm

Ca

,不逆磁

641ºC, x=0.05

641ºC, x=0

641ºC, x=0.15

641ºC, x=0.1

(22)

YCa124 膜のピンニングセンター

641ºC, x=0 641ºC, x=0.1

10 mm

c

10 mm

c

c c

20 mm 20 mm

 Ca

ドープにより多数のエッチピットが存在

転位によるピンニング効果で不可逆磁場が向上

(23)

YCa124 膜のピンニングセンター

 Ca

Ba

を含む多数の析出物が存在

余剰な

Ca

による析出物がピンニングセンター

25 mm

c

641ºC, x=0.15

Ca

Ba

を含んだ 析出物

析出物の跡

(24)

0 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10

0.2 0.4 0.6 0.8 1.0

T / Tc B irr [T]

641ºC, x=0 641ºC, x=0.1

0.3 0.5 0.7 0.9

Nd123 Y123

Ti-1223

Hg-1223 La214

Bi-2223

J. L. MacManus-Driscoll, Annu. Rev. Mater. Sci. 1998. 28:421–62 M. Suenaga et al., Supercond Sci. Techno1 5 (1992) S1-8

Fig. Irreversibility lines of various superconductor

B//c

他の超伝導体の不可逆磁場との比較

595ºC, x=0.1

(25)

発表のアウトライン

 背景

超伝導現象の発見,及び超伝導転移温度

(T c )

の変遷

超伝導の

3

つの臨界,及び高性能化への指針

RE123, RE124

超伝導体の特徴,及び現状と課題

目的・検討内容

KOH flux

 研究成果

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(26)

Fig. Y-Ba-Cu-O

P-T相図 Y124

Y123

YBCO の酸素圧力-温度相図

酸素分圧を低くすることで,潜在的な

T c

が高い

RE123

膜の作製が可能?

(27)

試料作製方法

T f 500 ~ 700˚C

12 h

Heating temperature [ºC]

Time [h]

0 3 15

@ pO

2

: ~1x10

-4

atm

Substrate Raw materials

KOH

Heater

Crucible

N

2

flow N

2

flow

Tube furnace

成膜 酸素アニール

0 200 400 600

0 3 6 9 12 15 18

Heating temperature [˚C]

12 h

Time[h]

5 h

450˚C

350˚C

@ O

2

flow中

(28)

Y123 膜の XRD 測定結果

-45 0 45 90 135 180 225 270 315 360 405

700˚C

650˚C

600˚C

550˚C

500˚C

2 q [degree]

f [degree]

Fig. XRD 2q-qpattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-fpattern (f-scan) of Y124 films and NdGaO3substrate

In tens ity [a. u. ]

Y123(103)

NdGaO3(204)

Int ensity [a. u. ]

: Ba-Cu-O NGO (004) NGO (006) NGO (002)

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

: Y211

: Y123 (00l) : Cu2O : Raw material

-45 0 45 90 135 180 225 270 315 360 405

700˚C

650˚C

600˚C

550˚C

500˚C

2 q [degree]

f [degree]

Fig. XRD 2q-qpattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-fpattern (f-scan) of Y124 films and NdGaO3substrate

In tens ity [a. u. ]

Y123(103)

NdGaO3(204)

Int ensity [a. u. ]

: Ba-Cu-O NGO (004) NGO (006) NGO (002)

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

: Y211

: Y123 (00l) : Cu2O : Raw material

550˚C

以上で

Y123

2

軸配向

Fig. XRD 2q-q pattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-f pattern (f-scan) of Y123 films and NdGaO3 substrate

S. Funaki et al, Jpn. J. Appl. Phys. 55 (2016) 04EJ13

(29)

Y123 膜の表面写真

-45 0 45 90 135 180 225 270 315 360 405

700˚C

650˚C

600˚C

550˚C

500˚C

2 q [degree]

f [degree]

Fig. XRD 2q-qpattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-fpattern (f-scan) of Y124 films and NdGaO3substrate

In tens ity [a. u. ]

Y123(103)

NdGaO3(204)

Int ensity [a. u. ]

: Ba-Cu-O NGO (004) NGO (006) NGO (002)

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

: Y211

: Y123 (00l) : Cu2O : Raw material

-45 0 45 90 135 180 225 270 315 360 405

700˚C

650˚C

600˚C

550˚C

500˚C

2 q [degree]

f [degree]

Fig. XRD 2q-qpattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-fpattern (f-scan) of Y124 films and NdGaO3substrate

In tens ity [a. u. ]

Y123(103)

NdGaO3(204)

Int ensity [a. u. ]

: Ba-Cu-O NGO (004) NGO (006) NGO (002)

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

: Y211

: Y123 (00l) : Cu2O : Raw material

550˚C

以上で

Y123

2

軸配向

Fig. XRD 2q-q pattern of Y123 films as a function of heating temperature

Fig. XRD 2qc-f pattern (f-scan) of Y123 films and NdGaO3 substrate

S. Funaki et al, Jpn. J. Appl. Phys. (submitted)

高品質な結晶成長で見られるスパイラル成長を確認

(30)

Y123 膜の r -T カーブ及び T c

0 10 20 30 40 50 60 70

50 100 150 200 250 300 Temperature [K]

Resisti vi ty [ m W cm ]

60 65 70 75 80 85 90 95

450 550 650 750

Tc onset Tc zero

T

conset

T

czero

Fabrication temperature [˚C]

T

c

[K]

Fabrication temp. = 650˚C

S. Funaki et al, Jpn. J. Appl. Phys. 55 (2016) 04EJ13

650ºC

という低温下で,

高い

T c = 90.4 K

を有する

Y123

膜の作製に成功

(31)

RE123 の T c 及び RE/Ba 置換

Fig. RE

イオン半径とTc

, c

軸長の相関

RE ionic radius [Å]

Yb ErY

Dy Gd Nd La

0.98 1.02 1.06 1.10 1.14 1.18 88

92 96 100

Tc[K]

11.63 11.69 11.75 11.81

c-axis length ]

Tc c軸長

J. M. Tarascon et al., Phys. Rev. B 36(1987)

M. Murakami et al., Supercond. Sci. Technol. 9(1996) 1015.

F. Tao et. al., Materials Letters 40(1999) 222.

EuSm

・イオン半径のが大きくなるにつれ

T

cが上昇

Y123: 92 K La123: 96 K

M. Murakami, et al., Supercond. Sci. Technol. 9 (1996) 1015

・RE1+x

Ba

2-x

Cu

3

O

yで表される固溶体を形成し,

x

の増加に伴い,

c

軸長が収縮,

T

cが低下

Gd123: < 0.18 Eu123: < 0.39 Sm123: < 0.40 Nd123: < 0.52

La123: < 0.71

K. Takita et al., Jpn. J. Appl. Phys. 27 (1988) L57

Fig. RE/Ba

置換量

x

Tc

, c

軸長の関係 x in Nd1+xBa2-xCu3Oy

0 0.1 0.2 0.3 0.4

3.85 3.90 0 20 40 40 80 100

Lattice constant [Å] Tc [K]

(32)

KOH

フラックス法による

Nd123

膜の低温成膜

@ air

Fig. XRD 2 q – q patterns and R–T curves of Nd123 films

 BaCO

3原料を用いた

KOH

法で

Nd123

膜の低温作製に成功

S. Funaki et al, Physics Procedia 65 (2015) 125

(33)

KOH

フラックス法による

Nd123

膜の低温成膜

@ air

Fig. XRD 2 q – q patterns and R–T curves of Nd123 films

BaCO

3

作製温度の低下に伴い

Nd/Ba

置換量が増加し,

T

cが低下

S. Funaki et al, IEEE TAS 26 (2016) 7201404

(34)

発表のアウトライン

 背景

超伝導現象の発見,及び超伝導転移温度

(T c )

の変遷

超伝導の

3

つの臨界,及び高性能化への指針

RE123, RE124

超伝導体の特徴,及び現状と課題

目的・検討内容

KOH flux

 研究成果

大気中において作製した

RE124

膜の磁場中特性の向上

雰囲気制御による

RE123

及び

RE124

膜の作製と,

作製温度の低温下

後熱処理による

RE124 RE123

相変態と高特性化

(35)

RE123, RE124 超伝導体の特徴

RE Ba Cu O

a b

c

RE123

RE124

T. Wada et al, Jpn. J. Appl. Phys. 29(1990) 915

Fig. P–T diagram of Y–Ba–Cu–O

p O

2

[atm ]

600 700 800 900 1000 10

1

10

–1

10

–2

10

–3

Temperature [˚C]

2 : 4 : 7 + CuO 1 : 2 : 4

1 : 2 : 3 CuO +

Fig. Crystal structure of RE123 and RE124

組成

T

c 安定温度領域 酸素量

RE/Ba

置換

RE123 ~ 96 K

高い 変動 生じる

RE124 ~ 80 K

低い 一定 生じない

(36)

Ba 原料変更による生成相の制御

500C

475C

450C

500C

475C

450C

2 q [degree]

0 10 20 30 40 50 60 2 q [degree]

Eu123 (00l) Eu124 (00l) Eu124 (00l)

0 10 20 30 40 50 60

Fig. XRD 2 q – q patterns of Eu123 + Eu124 and Eu124 films prepared by using BaCO

3

and BaO

2

, respectively

BaCO 3 BaO 2

Y. Miyachi et al, Physics Procedia 65 (2015) 129

(37)

実験方法 – 相変態による Eu123 の形成

相変態熱処理

XRD・直流四端子法 SEM観察

- Eu124→Eu123

相変態熱処理

使用膜

Eu124/SrTiO

3

(NaOH-KOH

共晶溶液

, BaO

2使用

, 475C

成膜

)

熱処理温度

550~825C

熱処理時間

12

時間

雰囲気

P(O

2

)

0.2 atm, 10

-3

atm, 10

-4

atm, 10

-5

atm (N

2

-O

2混合ガス

)

相変態熱処理条件

- 合成相・T

c・面内の元素分布の評価

酸素アニール処理

-

酸素雰囲気下で

450C

から徐冷

成膜:溶融水酸化物法

- Eu124/SrTiO

3膜の成膜

-

膜のカット

溶融塩

+原料

基板 洗浄

カット

(38)

500 Temperature [C]

P (O

2

) [atm ]

RE124

RE247+1/2CuO

RE123 CuO +

Eu124 Eu247 Eu123

T. Wada et. al. (RE = Y)[1]

100

10-1

10-2

10-3

10-4

10-5

600 700 800 900 1000

(a) 成膜直後及び、(b)相変態熱処理後の膜のXRD 2q-qパターン

650C 625C 600C 575C As-grown

10 20 30 40 50 60

0

Sample holder

Eu123 Eu123 Eu247 Eu124 Eu124

Intensity [a.u.]

2

q

[degree]

SrTiO3

(100) SrTiO3 (200)

(001)(001) (005) (005) (007) (007)

(004)(002) (002) (0022) (0030)

(004) (004) (006) (006) (008) (008) (0010)(0010) (0012) (0012) (0016)(0016)

10 20 30 40 50 60

0 (b) (a)

Eu124熱分解膜のP(O2)-T相図

[1] Takahiro Wada et al., Appl. Phys. Lett, 57 (1990) 81-83

P(O2

)= 10

-4

atm

XRD

の結果

• 600C → Eu247 (00l)

からの回折

• 625,650C → Eu123 (00l)

からの回折

相変態熱処理後も

c

軸配向を維持 相変態熱処理

相変態熱処理で得られた膜の相の同定

(39)

Eu124 膜の熱分解による P(O 2 )-T 相図

酸素分圧の低下に従って、

相境界線が低温側に移動

• Y124

と比較して、低い温度で相 境界線が存在

• Y

では見られない低酸素分圧に おける

Eu247

の生成

P(O

2

) =10

-4

~10

-5

atm

では

600C

前後の低い温度で

相変態が可能

500 Temperature [C]

P (O

2

) [atm ] RE124

RE247+1/2CuO

RE123 CuO +

Eu124 Eu247 Eu123

This work

T. Wada et. al. (RE = Y) [1]

100 10-1 10-2 10-3 10-4 10-5

600 700 800 900 1000

Eu124熱分解膜のP(O2)-T相図

Eu124

熱分解膜の

P(O

2

)-T

相図

(40)

相変態熱処理膜の R-T 測定

• Eu124(as-grown) → T

czero

=69.0 K (

典型的な

Eu124

T

c

)

• Eu247(600C) → T

czero

=85.0 K

• Eu123(625C) → T

czero

=93.0 K

• Eu123(650C) → T

czero

=93.3 K

相変態熱処理

Eu123

膜はバルク値に匹敵する高い

T

cを有する

相変態熱処理前(as-grown)P(O2)= 10-4 atm 熱処理後の膜の電気抵抗値の温度依存性

Temperature [K]

60 70 80 90 100 110 120 2.5

2.0

1.5

1.0

0.5

0.0

Resistance [W]

Eu123(650C)

Eu247(600C)

Eu123(625C) Eu124(as-grown)

90 K付近の転移近傍の拡大図 Eu123(650C)

Eu123(625C)

90 92 94 96 98

2.5

2.0

1.5

1.0

0.5

0.0

Temperature [K]

Resistance [W]

Tczero=93.3 K Tczero=93.0 K

Eu123バルク体のTcの報告値 Tczero = 93.7 K[1]

[1] S. Adachi et al., Phys. C 175 (1991) 523-528.

Annealed in

P(O2

)= 10

-4

atm

(41)

相変態膜における Eu/Ba 置換

• Eu124

相変態

Eu123

→ Eu/Ba

置換

0.03

低温成膜された

Eu123

[2]

→ Eu/Ba

置換

0.2

11.54 11.56 11.58 11.60 11.62 11.64 11.66 11.68 11.70 11.72 11.74

0.00 0.10 0.20 0.30

c

-axis length[Å]

x in Eu(Ba1-xEux)2Cu3O7-δ

相変態Eu123膜

低温成膜Eu123

相変態前の

Eu124

膜は

Eu/Ba

置換量が少ない

相変態

Eu123

膜も

Eu/Ba

置換が少なく、高い

T

cを示した

Eu/Ba

置換量と

c

軸長の関係[1] [1] Y. Xu et al, Phys. C 333(2000)195-206

[2] Y. Miyachi et al, Phys. Proc. 65 (2015) 129-132

(42)

SEM-EDS による Cu 析出挙動の観察

Annealed in 650C 100 ppm O2 (Eu123+Cu)

Cu

Annealed in 625C 100 ppm O2 (Eu123+Cu)

Cu

As-grown(Eu124)

各元素が均一に分布

・相変態

Eu123+Cu

μm

Cu

が析出

Cu

析出挙動は温度によって異なり、

高温であるほど表面に析出

Cu

析出サイズ・場所を制御できれば、

有効なピンニングセンターとなる?

SEI

SEI

SEI

As-grown (Eu124)

(43)

結言

KOH

フラックスを用いて,低温で

RE124, RE123

膜の作製を試み,

以下の知見を得た

大気中・

650˚C

において,

2

軸配向した

Y124

膜を作製することに成功した

Ca

をドープした

YCa124

膜は高い

T

c

~ 90 K

を示した

Y124

膜は

600 ~ 700˚C

で強い

c

軸配向を示し,

c

軸配向領域及び

high-T

c領域が

Y/Ca

置換量の増加にともなって低温側に遷移した

Y/Ca

置換量が多く,かつ低温であるほど高い不可逆磁場を示した

低酸素分圧にすることで,

550˚C

以上で

2

軸配向した

Y123

膜の作製に成功した

低酸素分圧下・

650˚C

で作製した

Y123

膜は高い

T

czero

= 90.4 K

を示した

大気中・

425˚C

において,

2

軸配向した

Nd123

膜に作成に成功した

作製温度の低温下にともなって,

Nd/Ba

置換が促進され

T

cが低下した

RE124

からの相変態熱処理を経ることで,全ての工程が

600ºC

程度で,高

T

cかつ

PC

を含む高品質な

RE123

相を得ることに成功

(44)

謝辞

本研究を遂行するにあたり,研究費をご支援 いただいた日本板硝子材料工学助成会に深く 感謝申し上げます.

また,本研究で得られた成果を国際会議で発 表するに際し,平成 28 年度の研究成果普及助 成のご支援をいただきました.

重ねて深謝申し上げます.

Fig. Y124 膜及び YCa124 膜の XRD 2 q - q パターン Fig. Y124 膜及び YCa124 膜の XRD 2 qc - f パターン
Fig. Y124 膜及び YCa124 膜の XRD 2 q - q パターン Fig. Y124 膜及び YCa124 膜の XRD 2 qc - f パターン
Fig. Y124 及び YCa124 膜の R-T 曲線
Fig. Phase identification of Y-124, YCa-124 films  Fig. T c  of Y124, YCa124 films
+7

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