長野工業高等専門学校紀要第36号(2002) 81
シ ョ 糖 の 水 素 発 酵 に お け る 硫 酸 塩 の 影 響
― 回 分 実 験 ― 浅野憲哉 長谷川大 松本明人 野池達也
Effect of Sulfate on Hydrogen Fermentation of Sucrose
―In Case of Batch Test―
Kenya ASANO Dai HASEGAWA Akito MATSUMOTO and Tatsuya NOIKE ndTatsuyaNoIKE
Englishabstract・:TheeffectofSO4210nhydrogenfem entationofsucrosewasinvestigatedusingbatch
experimentsat35℃ inthisstudy・Thehydrogenproducingmicroflorawasisolated丘omsoybeanS,sakeleesand yogurt・Sucrosewasprovidedat18000mgn(20000ppmasoxygendemand)ascarbonsource.Theconcentration ofSO42‑waschangedBom 100to10000ppm・ThehydrogenproductionwasnotaffectedinS042lrangeof100to 1700ppmbut3000to10000ppm・TheVFAproductionandCODremovalwasaffectedclearlyinSO42‑rangeof 5000tolOOOOppm二 ・
キーワー ド:水素発酵,硫酸塩,回分実験, ミクロフロー ラ
1.序 論
近年,地球温暖化対策や化石燃料消費量節約の技 術開発の必要性が深刻 になって きている.水素は燃 焼 に際 して二酸化炭索を排出せず ク リー ンなエネル ギー鯨であるほか.そのまま燃料屯池に利用できる な どの利点がある l). このため,水封の生産方法, 分離方法お よび貯蔵方法 として,様 ざまな研究が行 われている ))2).
水素の微生物 に よる生血方法には.光合成細路に よるもの と非光合成細仏による ものがある.非光合 成細菌群 による方法には,辿統 した水糸生血が可能 であるとい う利点がある.嫌銭性 非光合成細踏細菌 群はシ ロア リ,大豆,消化汚泥お よび汚泥 コンポス トな どか ら分離 されてお り 3).それ らを用 いた水素 発酵は,グル コース,シュー クロース (シ ョ糖),セ ル ロースな どを対象 に研 究 されている.有機性廃棄 物である rおか ら」や,製麺工脇排水な どか ら水素
'平成13年度 土木学会 中部支部研究発来会 にて 一部発表
++環境都市工学科助手
'''信州大学大学院工学研究科学生 +++書信州大学工学部助教授 H+++東北大学工学部教授
原稿受付2002年5月17日
生成が確認 された研究報告 もあるが 4),そ うした基 質には一般 に硫酸塩 が大量に含 まれ る.廃水 中に硫 酸塩が高濃度 に含 まれ る場合,水素資化性硫酸塩還 元細菌の働 きによ り水素生成 が阻害 され る可能性が ある.
硫酸塩還元細菌は,水素や酢酸 をめ ぐ りメタン生 成細路 と統合す るが,炭水化物 をめ ぐ り酸生成細菌 とも統合す る.5)また,硫酸塩 の還元 によ り生成 さ れ る硫化水軌 も 流出水の水質の悪化,設備 の腐食 お よび細菌の活性阻害な どを引き起 こす ことが知 ら れている. しか し,水素発酵 にお ける硫酸塩還元細 菌の影響については今の ところあま り研究がな され ていない・本研究では,水素発酵 における硫酸塩還 元細菌の影響を回分実験 によ り調査 した.
2.実験方法
2‑1水素生成細菌叢の分離方法
回分実験の種汚泥には,著者 らが食品等 よ り分離 した水素生成細菌叢 を用 いた.細菌叢の分離方法の 概念図を,図1に示す.まず,大豆,酒かすお よび ヨー グル トをペース ト状 に した後混合 し,グル コー スを10000mg/1含む水道水 を添加 して再度混合 し,
82
静置
浅野宕哉 ・長谷川大 ・松本明人 ・野池達也
図1 水素生成細菌叢の分離方法
35℃にて数 日間培養 し,大きな沈殿物 を取 り除いた ものを水素生成細菌叢の溶液 とした.
2‑2種汚泥の馴養方法
前項で述べた手法で得た水素生成細菌叢を,図 2 に示す連続反応槽で馴化 し,回分実験の種汚泥 とし た.馴化 に用いた基質の組成 を表 1に示す.馴化は, 反応槽 温度35℃,流入水の流量 をマイ クロチ ューブ ポンプによ り調整 し水理学的滞留時間(以下HRT)10 時間 とし,ガス循環投拝方式 による完全混合型の条 件で行 った.
emqBni
図2 種汚泥馴化用連続反応槽
発生 したガスは, メスシ リンダー を逆 さに したガ スホル ダー‑水上置換法 によ り採取 し,毎 日ガス発 生速度 を測定 して定常状態を確認 した.液相部は, 反応槽 に取 り付 けたガラス管 よ り採取 した. この と き,反応槽 内のpHは5.0‑5.5,発生 した全てのガス(以 下全ガス)中の水素濃度40‑45%,水素生成速度は約 230ml/h・1であ り,基質 シ ョ糖モル数 当 りの水素収率 は,約2.1moIH2/moIsucroseであった.
2‑3回分実験の方法 2‑3‑1回分実験の準備
まず,容積約 124mlのガラス製採血管ぴん(以下バイ アル)に水上置換法によ りアル ゴンガスを充填 し,
表1 基質組 成
試 薬 名 濃度(mg/I) Sucrose
NH4HCO3 K2HPO4
MgC12・6H20 100 FeSO4・7H20 282 Na2CO3・10H20 2500 KI 2.5x1013 coclZ・6H20 2・5×10‑3
Mnc12・4日20 2・5×10‑3 znc12 0.5×10・3 Na2MoO4・2H20 0・5×10‑3 H3BO3 0.5xlO・3 NiCl2・6H20 0・5xlO13
完全に空気 を追い出 しブチル ゴム栓お よびアル ミシ ール キャ ップで密栓 した.そ こ‑,定常状態 にある 種汚泥40mlを,バイアル 中を大気圧 に保 ちなが ら, ガラスシ リンジに よ り注入 した.種汚泥中のシ ョ糖 を完全 に消費す るために,35℃ の恒温槽で授拝 しな が ら随時ガラスシ リンジによ り発生 したガスを引き 抜 き,ガス発生が停止す るまで培養 した.その後, 種汚泥の馴化に用いた培地‑硫酸カ リウムを添加 し た基質 40mlと,pHの急激 な低下を防 ぐための lN NaOHl.2mlを注入 し,再度恒温水槽‑配置 し回分実 験開始 とした.
} ト
100甲m 図3 回分実験概念図
回分実験の概念図を図3に示す.なお,国分実験は 3回に分 けて行い,硫酸カ リウムの添加量はそのつ ど変化 させた.試験開始直後のバイアル 内液相部の so42‑濃度 は,低濃度 の実験で100,700,1200お よび 1700ppm,中濃度の実験で100,2000お よび3000ppm, 高濃度 の実験で100,5000お よび10000ppmとした.
ショ糖の水素発酵における硫酸塩の影響 ここで, 100ppm の濃度 が全 ての試験 区に含 まれ る
が, これ は対照 区 として設 けた.なお,各試験区の サンプル数は,一つの濃度 当 り3本用意 した.
2‑3‑2分析項 目および分析方法
全ガス生成量お よび全ガス中の水素濃度 は,低濃 皮,中濃度お よび高濃度 の実験で随時測定 した.液 相部は, 中濃度お よび高濃度の実験で,実験開始直 後,ガス生成 の増加 が見 られ る時点,ガス生成 が極 めて大 きい時点,ガス生成が概ね減少 した時点お よ び実験終了後 の5段階に分 けて測定 した.
ガス発生量 はガ ラス シ リンジを用いて測 定 した.
また,水素ガス濃度 は,TCD(ThermalConductivity Detector)・ガスクロマ トグラフ法 (ShimadzuGC‑8A 壁,shimadzuC‑RIAクロマ トパ ック,カラム :ステ
ンレスカ ラム,担体 :MolecularSieve5A,キャ リア ガス :アル ゴンガス,キャ リアガス圧力 :1気圧, カラム温度 :70℃,注入お よび検 出温度 :loo℃,検 出電疏 :80mA)によ り測定 した.液層部 は,重 クロ ム酸カ リウムによる化学的酸素要求量(以下 COD:
HACH社製coD分析試薬に よる吸光度法),揮発性 脂肪酸(以下 VFA :FID・ガスクロマ トグラフ法),水 素イオ ン濃度(以下 pH :ガ ラス電極法)お よび浮遊物 質の強熱減量(以下VSS:遠心分離法)を測定 した 6). CODは,採取 した元の CODと,ろ紙(孔径 0.45I上 m)を通過 した溶存coDとを分析 した.
3.結果 と考察
3‑1SO。2が低濃度の実験
低濃度 の実験 においてバイアル1本 か ら発生 した, 全ガスお よび水素ガスの平均累積体積 の結果 を図 4 および図5に示す.いずれの試験区で も,ガス体積 は全 ガ ス で 320‑340 ml/vial,水 素 ガ スで 160‑180 ml/vial程度であ り,ガス生成 開始時間,最大ガス生 成速度共 に変化が見 られず,ガス生成 は硫酸イオン による影響をほ とん ど受けなかった.
3‑2SO.2が中濃度の実験
中濃度 のバイアル 1本 当 り全 ガスお よび水素ガス の平均累積体積の結果 を,図6お よび図7に示す.
ガス体積 は全 ガスでは対照区の約 180ml/vialと比べ S04を2000お よび3000ppm添加 した もので 1割程 度少なめの160ml/Yial前後 となってお り,水素ガス では対照 区の約85ml/vialに対 して70ml/vial程度 と なってい る. しか し,ガス生成 開始時間お よび最大 ガス生成速度 には顕著 な変化 が見 られ なかった.こ れよ り,ガス生成量が硫酸イオンによる影響 を受け
oo500050005000500〜4332211
(IE!ち\一uJ)瞥坐Y.FF胡 0
200 400 経過時間(hours)
図4 硫酸イオン濃度と全ガス生成量(低濃度) 0000000000000U64208点り4221ーーーー(Jt2!^JLuJ)燈せY.〜:僻鴬 0
200 400
経過時間(hours)
図5 硫酸イオン濃度と水素ガス生成量(低濃度)
00lU00O50l.a211
(Je!^[[ul)軽輩YEF胡
83
0 50 100 150 200
経過時間(hours)
図6 硫酸イオン濃度と全ガス生成量(中濃度)
00000008(042(Ie!^JLuJ)燃
せ
YEF
礁鴬0 50 100 150 200
経過時間(hours)
図7 硫酸イオン濃度と水素ガス生成量(中濃度) たことが分かった.
84 浅野意哉 ・長谷川大 ・松本明人 ・野地達也 中濃度 の実験 にお ける液相部pHの経時変化 を図
8に示す .図6(ガス)と比較す る とガス発生速度 は, い ず れ の試 験 区 で も水 素発 酵 の最 適 pHで あ る 5.0‑5.5の辺 りで最大 を示 し,ガス発生停止後 も緩や かに低下 していた.硫酸イオ ン濃度の違いによるpH の変化 は見 られなかった.
中濃度 の実験 における VFA の経時変化 を,図 9 お よび図10に示す.プ ロピオン酸お よびiso‑酪酸の 発 生量 は極微量であったため,酢酸 と n一酪酸 (以下 酪酸) のみ図示 した.一般 に単糖類や二糖類 を基質 とした水素発酵では,副産物 として酢酸あるいは酪 酸 が生成 され るが,酪酸型の水素発酵のほ うが水素 収率が よい.本実験では,ガス生成速度が最大の時 間に酢酸 よ りも酪酸が多 く発生 してい るため,効率 よ く発辞 が行 われてい ることがわかる.また,ガス 発生停止後 も酢酸発酵が起きていた.
図11にVSSの経時変化 を示す.本研究で用いた 基質には溶解性 の有機物 しか含 まれていないため, VSSは菌体量 とみなす ことがで きる.VSSはいずれ の試験 区で もガス発生開始時が最大 とな り,その後 徐 々に減少 している.
COD濃度 お よび溶存coD濃度の経時変化 を図12 お よび図13に示す.両者 ともに,いずれの試験区で
もガス生成 とともに減少 し,その後ほ とん ど変化が 見ちれ なかった.また,両者 ともに15%程度除去 さ れた.
7 6
543(⊥d (V叫uJ)噸&.濫造0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図8硫酸イオン濃度と液相pH(中濃度) 1800
1600 1400 1200 0008642 0000 00000
0 50 100 150 経過時間(hours)
図9 硫酸イオン濃度と酢酸生成量(中濃度) 200
(rPE)噸粥潜塩(lPuJ)髄鞘SS^
2000 18006420 0000 0000
800642 000 0000
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図10硫酸イオン濃度と酪酸生成量(中濃度)
000020
800 600 400 200 0
0 50 100 150 経過時間(hours)
図11 硫酸イオン濃度とVSS濃度(中濃度)
0000000000008642nHLL̲一日Url
(一PE)髄鞘凸00
200
0 50 100
経過時間(hours)
150 200
図12 硫酸イオン濃度とCOD濃度(中濃度)
000000000987654321111111111(一PLu)噸粥凸00壮快
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図13硫酸イオン濃度と溶存coD濃度(中濃度) 中濃度 の実験では,ガス生成 量は硫酸イオ ンによ る影響が多少見 られた ものの,液相部には顕著 な違 いが見 られなかった.また,発生ガス中の硫化水素
ショ糖の水素発酵における硫酸塩の影響 濃度 は測定す るこ とができなかったが,腐乱臭が確
認 されたため硫化水素が多少発生 していた ことがわ かる.
3‑3 SO42‑が高濃度の実験
高濃度 の実験の,全 ガスお よび水素ガスの平均累 積体積の結果 を図14お よび図15に示す.対照区で は,ガス体積 が約 250ml/vial,水素 ガスが約 130 ml/Yialであったのに対 し,硫酸イオ ンを5000また は10000ppm含む試験 区では全ガスが210ml/vial前 後,水素ガスが 100ml/Yial前後であ り,水素発酵が 硫酸イオ ンによる阻害 を受 けているこ とがわか る.
また,ガス生成 開始時間お よび最大ガス生成速度 は, 対照区 と比較 して硫酸イオ ン添加 区で遅延および低 下が起きた.
高濃度実験のpHの経時変化 を図16に示す.中濃 度実験 と同様 にガス発生速度は,いずれの試験区で も水素発酵の最適pHである5.0・5.5の辺 りで最大 を 示 し,ガス発生停止後 も緩や かに低下 した.しか し, 硫酸イオン添加 区でpHの低下が抑制 された.
高濃度 の実験 におけるVFAの経時変化 を,図 17 お よび図18に示す.中濃度 と同様 に,ガス生成速度 が最大の時間に酢酸 よ りも酪酸生成が卓越 している ため,効率 よく発酵が行 われているこ とがわかる.
しか し,ガス発生停止後の酢酸発酵が,硫酸イオ ン 添加 区では著 しく阻害 されていた.
000000505052211(Le!^[[∈)世輩Y.〜:制
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図14硫酸イオン濃度と全ガス生成量(高濃度)
000000208より42▲ll(一e!^JLuJ)任
せ
Y.FF僻
蔦0 50 100 150 200
経過時間(hours)
図15 硫酸イオン濃度と水素ガス生成量(高濃度)
987654
T)d
85
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図16硫酸イオン濃度と液相pH(高濃度)
0000000000505211
(V叫uJ).雌蝶潜溢
‑◆‑ 100ppm
+ 5000ppm
‑X‑10000ppm / ノ◆
= /
.泰 真二
0 50 100 150 200
経過時間(hours)
図17硫酸イオン濃度と酢酸生成量(高濃度)
000000000505211
(lPuI)雌粥戯塩
ー̲」 .
‑◆‑ 100ppm ー 5000ppm
‑X‑10000ppm
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図18硫酸イオン濃度と酪酸生成量(高濃度)
0000000000000208642(lJa∈)髄鞘SS^
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図19 硫酸イオン濃度とVSS濃度(高濃度) 図19にVSSの経時変化 を示す.VSSは中濃度 と 同様 に,ガス発生開始時が最大 とな り,その後徐々 に減少 した ことがわかる.
86 浅野憲哉 ・長谷川大 ・松本明人 ・野地達也 COD濃度 お よび溶存coD濃度 の経時変化 を図20
お よび図21に示す .中濃度 の場合 と異な り,対照 区 との差 が顕著 に表れ た.また,coDの除去率 は両者 ともに10%程度 であった.
高濃度 の実験 で は,ガス生成量 と液相部で共 に硫 酸イ オ ンに よる影 響 が顕著 に現れた. しか し, この 場合 は電解 質 を高濃度 に含むた め,水素発酵 の阻害 の原 因が硫 酸塩 還元 に よるもののみな らず,浸透圧 も少 なか らず影響 していた と考 え られ る.
参考文献
1) 太 田時男監修 :「水素エネル ギー最先端技術」, エ ヌ ・テ ィー ・エ ス,(1995)
2) 藤原勝 幸,笠松義 隆 :GdFe2の磁性‑の水素吸 収 の影 響 ,長 野 工業高等専 門学校紀要,第 35 号,(2001)81‑84
3) Taguchi,F., Chang ,J.D. :Isolation of a hydrogen‑producing bacterium ClosEridt'um betjerinkii strain AM21B form termi tes. Can.J.ML'crobtoL.,39,(1993)7261730.
4)一 水 野修 ,新谷真 史,鈴木清彦 ,矢 口淳一,野地 達 也 :製麺 工場 排 水 か らの水 素生成 に及 ぼす pHの影 響 ,環境 工学論 文集 ,第37巻,(2000) 97‑106
5) 水 野修 ,李 玉友 ,野地達也 :スクロー スの酸発 酵 に及 ぼす硫酸塩 還元 の影響 ,水環境 学会誌 , 第 18巻 ,第 11号,(1995)894‑900
6) 建設省 都 市局下水道部 ・厚 生省生活衛生局水道 環境部 監修 :「下水試験方法上巻」,日本 下水道 協会, 1997
20000 (V的∈)雌蝶凸OC) 11111111 9008765432 0000000 0000000 00000000
11000 10000
0 50 100 150 200 経過時間(hours)
図20硫 酸イ オン濃度 とCOD濃度(高濃度)
000000000000000000000000000lU009876LL'432101111111111(vaE)地境QOO壮快
0 50 100 150 経過時間(hours) 図21硫 酸イオ ン濃度 と溶存coD濃度(高濃度)
200