[PDF] Top 20 計画の概要 京都市：地域再生について
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化銪鋅薄膜之探討：結構、光學與磁性研究
... (high)訊號，高比例的 氧化銪鋅則只觀察到基板訊號。薄膜 E 2 (high)訊號強度在摻雜後降低，代表薄膜 品質下降，如要使拉曼光譜訊號更易辨識，改進方法應可從增加薄膜厚度方向著 手。XRD 的結果顯示所有氧化銪鋅薄膜中皆沒有雜質與其他晶相的存在，代表 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討： 結構、光學與磁性研究
... 的氧壓下，我們的氧化鋅摻鈥 薄膜的沉積速率是幾乎一致的。結構分析方面，拉曼光譜顯示鈥有成功摻入氧 ...的訊號。PL 光譜，ZnO 能隙的發光貢獻相對於缺陷發光是較微弱的，大部分的樣品都可以看到鋅間 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鈥鋅薄膜的探討：結構、光學與磁性研究
... O 薄膜中皆沒有雜質與其他晶相的存在，代 表 Ho 成功地取代 Zn 的位置，Ho 比例增加時，c 軸晶格常數先減少後增加，粒 徑大小則持續下降，代表薄膜結晶品質變差。拉曼散射結果中，只能看到純氧 化鋅 E 2 -low 與 E 2 -high 的訊號，訊號位置不隨摻雜而改變。而氧化鋅的訊號都 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鏑鋅薄膜的探討： 結構、光學與磁性研究
... 靶材對紫外光的吸收較強，吸收深度較短，所以脈衝雷射蒸鍍製程所使用之脈衝 雷射多採用紫外光波段之雷射。 由於脈衝雷射的脈衝長度極短 (約在 10 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化釓鋅薄膜的探討： 結構、光學與磁性研究
... 6 過透鏡聚焦之後打入靶材，靶材瞬間吸收高能量而氣化，形成一團具有動能的電漿， 噴濺到基板上沉積薄膜。這種鍍膜方法的優點有薄膜的組成成份幾乎與靶材相同，靶 材不需要太大的面積，薄膜沉積速率高，以及樣品結晶品質易掌控。控制實驗中氣體 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射蒸鍍法製備氧化鉺薄膜的探討:結構、光學與磁性研究
... 離子面積計算薄膜比例與靶材比例相近。X 光繞射譜中，摻雜 Er 濃度越 高，在低氧壓下兩製備法的 ZnO 結晶品質越差且 c 軸晶格常數越大，而高氧壓 下兩制備法的 ZnO 結晶品質越差且 c 軸晶格常數先變小在變大。而蓋板法加熱 ... 完全なドキュメントを参照
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脈衝雷射沉積法製備釔銩鐵石榴石薄膜的探討：結構、光學與磁性研究
... 8 2.3 退火 退火（Annealing）在材料工程或冶金學中，是利用改變材料微結構並且進而 改變如硬度和強度等機械性質的熱處理方法。過程為將材料升溫到高於再結晶 溫度的溫度並保持同一溫度一陣子，再使其逐漸的冷卻。退火的用途在於恢復 該金屬因冷加工而降低的性質，可以增加材料的柔軟性、延性與韌性，並釋放 ... 完全なドキュメントを参照
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利用脈衝雷射蒸鍍法製備碲化鉍薄膜與兆赫波時域頻譜之研究
... 1 第一章 緒論 1-1 碲化鉍晶體特性與應用 早期的A V B VI 半導體薄膜材料如矽、碲、硒等化合物被做為熱門 的熱電材料，由於這類的材料具有重量輕、體積小、運作安靜、回收 電能轉換熱能和控制精準等優點，而且在使用此類材料時並不需要用 到會破壞臭氧層的氟碳氫化合物，因此被用在(1)光學和光敏儀器 (2) 紅外線光譜攝影 ... 完全なドキュメントを参照
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利用PLD製備含有氧化鎂鋅緩衝層的氧化釓鋅薄膜之結構、光學與磁性研究
... 已知峰值位置、峰下面積與各元素敏感因子，我們計算出各個配方比例所 對應到的實驗比例，從表可得知，實際比例與配方比例皆有些許落差，推測產 生此結果的原因可能為計算 Gd 原子百分比，由於避免受到 Zn-2s 的影響，所以 選擇 Gd-3d 3/2 ，但是其敏感因子與峰下面積是小於 Gd-3d 5/2 ，可能出現較大誤 差，且在計算 Gd-3d 3/2 的峰下面積時，因 ... 完全なドキュメントを参照
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利用脈衝雷射分子束磊晶之氧化鋅薄膜的成長與光學特性研究
... 4-12a~d show PL spectra measured at room temperature of the ZnO films annealed at different temperature and different annealing time in furnace in O2 ambient and the non-annealed ZnO fil[r] ... 完全なドキュメントを参照
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熱蒸鍍法製作氧化鋅光偵檢器研究
... 3.1 製程概述 3.1.1 蒸鍍系統 實驗上是利用熱蒸鍍方法，將氮化鋅沉積於基板上。蒸鍍機的主要構造如 圖 3-1。圖中所顯示的是蒸鍍機的腔體，也是主要沉積薄膜的場所。除了腔體 外，還有抽真空的系統，由油迴轉式幫浦(Rotary Pump，RP)和油分子擴散幫 ... 完全なドキュメントを参照
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交流濺鍍法製備之氧化鋅透明導電薄膜之電性及光學性質探討
... Electrical and Optical Properties of RF-sputtered Transparent Conducting ZnO Thin Films.. 研究生：莊傅凱 指導教授：曾俊元 博士.[r] ... 完全なドキュメントを参照
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氧化釓鋅薄膜在不同鍍膜氧壓下的結構、光學與磁性
... 在實驗室學習的過程中，首先要感謝在我剛踏入實驗室時，教導我鍍膜、PL 與 XRD 量測的簡志峰學長，那一個月學長的耐心指導到現在都令我印象深刻。 接著是密修誌與莊桓嘉學長，謝謝你們在實驗上的幫忙，以及課業上的資源交流 與討論，跟你們和夥伴們一起待在實驗室裡聊天的歡樂時光我一直都記得。也感 ... 完全なドキュメントを参照
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以熱蒸鍍法於矽基板上製作氮氧化鋅薄膜之研究
... /n-Si 結構及 p-ZnO/n-Si 結構之 p-n 接面光 偵測器之光響應度，其量測光響應度之裝置示意圖如圖 4-40 所示，光源為 100W 之鎢絲燈，透過紫外光高穿透率透鏡(plano-copnvex lenses)聚焦於單色分光儀 ... 完全なドキュメントを参照
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雷射濺鍍法成長單晶非極性氧化鋅薄膜在藍寶石基板之光學與晶體結構相關特性研究
... ~以及每一屆的學弟包含一直想找我真情流露的紹庭，很小隻的小單哥，居然叫我延畢 陪他打球的老大，給力的鈺程，無力的宣民哥，建銘&育弘等等，都感謝各位在一路來 的幫忙跟照顧。在此還要特別感謝大學同窗的禿頭 ki、基佬家軒、帝王亞育，以及兩位 已為人父的蛇&霹靂叔，這些好朋友不管是在碩班、博班時期都是一起歡笑一起努力的 好朋友，玩得不營養廢話也很多可是友情絕對不是隨便都可以說得清，一起努力人生吧! ... 完全なドキュメントを参照
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以電子束蒸鍍氧化鋅薄膜製作紫外光偵測器之研究
... C 之後薄膜 表面已不再出現鋅的針狀結構，同時只存在氧化鋅的奈米結構。從 SEM 的平面影 像照片也可以觀察到大氣退火溫度的增加可以發現原子間的團簇情形也變得更加 明顯，這也意味著大氣熱退火溫度的增加有助於增益晶粒成長，同時也伴隨著表 面孔洞數的減少以及孔洞的增大，並且經由 Image J 軟體分析 SEM ... 完全なドキュメントを参照
超導薄膜物理與應用---子計畫III：脈衝雷射蒸鍍高溫超導、光電、陶瓷薄膜研究(III)
... 交大在近八年先後建立脈衝準分子雷 射蒸鍍系統，倍頻 Q 開關釹雷射造型系統 和 飛 秒 級 超 快 鈦 - 藍 寶 石 雷 射 量 測 系 統 等。其中，脈衝雷射蒸鍍系統包含自行設 ... 完全なドキュメントを参照
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以濺鍍法製備氮摻雜二氧化鈦薄膜物性及光學特性之研究
... 本論文的完成另外亦得感謝周秀玉學姊的大力協助。因為有你 的體諒及幫忙，使得實驗與本論文能夠更完整而嚴謹。 兩年裡的日子，實驗室裡共同的生活點滴，學術上的討論、敗 戰隊友遠永都不離不棄、義氣到底的革命情感、因為偷懶睡太晚而衝 ... 完全なドキュメントを参照
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射頻濺鍍氧化鋅薄膜於鍺基板之研究
... 3-4-1 X光繞射儀（XRD） 本實驗所使用XRD為SEIMENS D5000系統與儀器科技中心的Bede D1系 統，靶材為Cu靶（Cu Kα λ = 1.54 Å）。XRD為一經常使用的晶體結構鑑定技 術，其試片製作簡單，且為非破壞性分析。一般XRD所使用之X光來源分為兩 種： ... 完全なドキュメントを参照
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鋁薄膜輔助常溫水溶液法製備氧化鋅奈米結構之製程及其性質
... D8 與 D9。由 Fig. 4-4 可看出於低溫 5℃與沉積時間 3 hrs 的條件下，試 片編號 A7 ~ A9，經 X 光鑑定與 JCPDS 卡比對後，無論是否有添加 SDS，其結果皆無氧化鋅繞射峰出現，只有鋅與鋁的繞射峰產生，其中 ... 完全なドキュメントを参照
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