薄膜の構造
ナノ構造熱電材料開発 －多重薄膜によるナノ構造制御の検討－
... サファイア基板 熱電材料を用いた発電技術は、排熱から直接電力に変換することが可能であり、持続可能なエネルギー源となり得るため、低炭素社会 に向けたエネルギー材料技術として期待されている。しかし、熱電変換効率に直結する熱電性能指数ZTの目標値が自動車廃熱発電で 4以上であるのに対し、実際の材料では50年近く約2以下しか得られておらず、目標の実現は非常に困難であると見られている。この ...
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ポイント 太陽電池用の高性能な酸化チタン極薄膜の詳細な構造が解明できていなかったため 高性能化への指針が不十分であった 非常に微小な領域が観察できる顕微鏡と化学的な結合の状態を調査可能な解析手法を組み合わせることにより 太陽電池応用に有望な酸化チタンの詳細構造を明らかにした 詳細な構造の解明により
... 水素化アモルファスシリコンによる光吸収やヘテロ界面 注 9) における電子構造の不整合 などが、さらなる高性能化の課題となっていました。近年、この課題を解決する可能性 を秘めた新材料を用いた太陽電池の研究開発が各国で活発に行われており、とりわけ 原子層堆積法を用いて結晶シリコン上に製膜した酸化チタン薄膜が比較的高い変換効 ...
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2. スパッタ法を用いた Nb ドープ PZT 薄膜 1-12) 2.1 Nb ドープ PZT 薄膜 PZT はペロブスカイト型構造を持つ複合酸化物であり Pb(Zr xti 1-x)O 3 の化学式で表わされ Fig. 1 に示す構造で ある A サイトに Pb 2+ イオン B サイトに Zr
... 行なった。 2.2 スパッタPNZT薄膜の成膜条件および評価方法 PNZT成膜用の基板として，（100）面Si基板を用いた。 PNZT薄膜は独自に開発した6インチ成膜が可能なRFマ グネトロンスパッタ装置によって形成した。まず，Si基板 上にスパッタリング法によって20nmのTi系の密着層を形 成し，続けてIr下部電極を150nm成膜した。作製した基板 ...
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研究部 歪み Si/Si1-xCx ヘテロ構造の応力制御 研究代表者名山梨大学大学院 医学工学総合研究部 有元圭介 研究分担者名東北大学 金属材料研究所 宇佐美徳隆 1. はじめに圧縮歪み Si/Si1-xCx ヘテロ構造は 従来素子の 2 倍の高正孔移動度が期待される半導体薄膜構造である 移動度を
... InN 薄膜を X 線回折により評価した結果、立 方晶 InN(002)面からの強い回折ピークが観測された。プラ ズマ出力を 350W、GaN 中間層成長時の Ga フラックスを ...InN 薄膜の六方晶混入率は ...のみを堆積した試料 の測定結果も示してある。 InN のスペクトル中には、467 cm -1 に InN ...
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a-C:H薄膜のプラズマ処理による構造変化: University of the Ryukyus Repository
... 勢理客・山下・比嘉・渡久地：ａ－Ｃ:Ｈ薄膜のプラズマ処理による構造変化 100 2-匹プラズマ処理法 プラズマ処理のためのプラズマは，誘導結合型プラ ズマ(InductivelyCoupledPlasma：ICP)を利用して行っ た．ＩＣＰはガラス製放電管の外部にコイルを巻きつけ， コイルに高周波電流を流し，磁束の時間変化により生 ずる誘導電界によりプラズマを保持する方[r] ...
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第2章 スパッタ堆積条件と薄膜微細構造
... 2.6 結言 本章においては、Co-Cr 系グラニュラ型垂直磁気記録媒体の薄膜微細粒子構造の制御について、媒体 ノイズ低減の観点から、その作製条件であるプロセスパラメータを検討し、室温作製でも従来と同程度の磁 気特性が得られる高ガス圧スパッタリング膜の特性、ならびに従来型の高温スパッタにおいて第 3 元素、第 4 ...
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図 2 In0.9Ni0.1TaOx NiOx ( 空孔 ) のない安定な多元系酸化物半導体が得られていること,4) X 線回折結晶構造解析と透過電子顕微鏡観察により, InTaO 4 のウォルフラマイト型結晶構造の薄膜もしくは単結晶 1 次粒子が得られていること, 以上を評価することで,PLA 法
... x の薄膜ともに，マクロ的には柱状のモ フォロジー構造を有しているが，かなりポーラスな形態とな っている．アブレート種である，原子・ラジカル・イオン・ クラスタ等は，混合ガス雰囲気分子とも衝突しながら， O 原 子を取り込むことでアブレート時の酸素欠損を補償しつつ， 特有のモフォロジーを形成しながら堆積基板上に成長したと ...
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MgOスパッタ薄膜の構造特性 : 絶縁破壊およびスクラッチ損傷
... RKosone,T.Nakano,S.Baba,"Electricalbreakdown characteristicsofMgOfilmsdepositedbyrf-magnetron sputteringanditsdependenceonprocessgaspressure," 15thInt'1Conf.onThinFilms,P-S17-OS([r] ...
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エピタキシャル薄膜研究の広がり ( 私見 ) エピ膜と基板結晶の結晶構造が同じで格子定数が近いグループ 例 Si ホモエピ Diamond 型 エピ膜と基板結晶の結晶構造が同じであるが 格子不整合の程度が大きいグループ 例 Ⅳ-Ⅳ 族 Ⅲ-Ⅴ 族化合物半導体 Diamond 型 Zincblende
... ・ZnOナノ結晶 - 結晶子ｻｲｽﾞとｻｲｽﾞ分布、格子歪・・・ ・有機高分子薄膜 – 高温in-situXRD測定による結晶化/非晶質化 59 M. Birkholz, “Thin Film Analysis by X-Ray Scattering”, Wiley-VCH Verlag GmbH & Co., 2006. ...
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第 7 章有機薄膜太陽電池の基礎 目次 第 7 章有機薄膜太陽電池の基礎 有機薄膜太陽電池の原理 有機薄膜太陽電池の構造 有機半導体活性層 半導体 有機半導体と活性層 太陽
... 在する分子中に存在する。二重結合を持つ C 原子は sp 2 混成軌道をとり、それら同士 による強いσ結合と残りの pz 軌道同士がπ結合という結合によって二重結合を形成 している。π結合は電子雲が分子面の上下でかぶっているため、弱い相互作用を示 す。このため分子が重なり合うことによりある特定の C 原子のπ電子が分子全体に ...
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ペロブスカイト型Liイオン伝導体エピタキシャル薄膜の研究 : 歪制御イオン伝導とヘテロ構造
... Figure 3.5 Out-of-plane 2 θ - θ XRD patterns for LLT thin films on NGO (110) substrates, grown at substrate temperature of 950 ◦ C with a laser fluence of 1.4 J/cm 2 under different oxyg[r] ...
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多重磁極マグネトロンスパッタ法を用いて作製したFeおよびFe-N系薄膜の磁化特性および表面構造
... 度が低下するためにターゲットのエロージョン領域が減 少し，生産性の低下を招くだけでなく，ターゲットの寿命 が著しく低下する．一方，MMPC-MS法ではFig. 2 に示す ようにターゲット表面の強い水平磁束密度によりエロー ジョン領域が拡大し，効率良く薄膜を作製することができ る．窒素混入により，MMPC-MSおよびCMS法ともに堆 ...
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（７） 薄膜材料-1
... 電極上におけるタンパク質の反応は，糖尿病診断に重要なグルコースセンサー等に利用されている．近年では，反応 の高選択性や効率の高い電子移動システムを構築するために単分子層吸着金電極（SAM）を用いて，タンパク質の電 極界面における挙動が数多く検討されている．電極上でのタンパク質の吸着挙動，反応のダイナミクスおよび電極界面 ...
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有機薄膜に対するレーザ加工特性の実験的評価
... 1. はじめに 有機薄膜太陽電池は製造時の CO 2 発生量が少なく、設 置場所に制限がなく持ち運びも可能であることから、将 来の再生可能エネルギー源としての条件を満足したデバ イスであると考えられる．有機薄膜太陽電池のモジュー ル化にはパターニング加工[1]が必須でありレーザを用 いることで集積度の高いデバイスを製作することが出来 ...
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有機薄膜太陽電池用材料の新しい合成法を開発
... 有機薄膜太陽電池の発電を担う部分には、一般的にフラーレン誘導体とπ共役高分子を混合したものが用いら れています。太陽光を良く吸収し、効率よく発電できる材料の開発を目指して、様々な構造の化合物が合成されて きました。これらの研究の蓄積により、太陽電池材料に適した構造が明らかになってきています。このような新しい材 ...
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薄膜形成技術
... このような高次機能を発現させる手段としての薄膜形成技術を飛躍的に発展させるきっか けになったのは、 1947 年のトランジスタに始まる半導体産業の誕生である。特に、今日「集 積回路 （ＩＣ） 」 として知られている二次元構造が擬似平面状に重層化された半導体回路素子 ...
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薄膜結晶成長の基礎3.dvi
... 置では図 3.4 に示したように三つの原子に働く力は打ち消されずに，矢印のような力 が残る． ( たとえばステップエッジの原子では，真下の原子の斥力を左右の下にある原 子の引力が打ち消し，左横の原子からの斥力 σ 0 だけが残る． ) これがステップのとこ ...
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薄膜結晶成長の基礎4.dvi
... 一般に，拡散場中での成長パターンは開いた構造を持つ．等方的な界面の成長パター ンはランダムなフラクタルとなるが，結晶の場合には雪に見られるような規則性を持っ たものとなる．この原因は結晶の規則的な原子配列にある．結晶の格子構造が，巨視 ...
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分光・偏光を用いた薄膜・界面解析の実際
... 各層の光学定数スペクトルを表し，サンプル の膜構造を記述して，知りたい未知数を含ん だサンプルの光学モデルを構築する．この光 学モデルにより，ある条件で光が入射された 際の反射率スペクトル，透過率スペクトル， 吸収スペクトル，分光エリプソメトリースペ クトルなど，所望のスペクトルを計算するこ とができる．次に，光学モデルを基に生成さ ...
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電子材料用薄膜グリーンシートの機械的強度評価法の確立
... セラミックス微粒子をポリマーに混ぜて焼成するとセラミックスシートを作製でき，電子機器をはじめとする様々 な民生品でこの技術が利用されている．このセラミックスシートの機械物性はセラミックス粒子とポリマー材料なら びに焼成条件が大きく影響している．本研究では，セラミックス粒子を混錬して作製したポリマーグリーンシートの ...
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