MOSFET における極薄酸化膜のトンネル電流と酸化 膜遷移層の考察
著者 今井 康人, 山本 弘明
雑誌名 福井大学大学院工学研究科研究報告
巻 55
ページ 107‑113
発行年 2007‑03‑31
URL http://hdl.handle.net/10098/927
107
108
109
110
111
112
113
全文
著者 今井 康人, 山本 弘明
雑誌名 福井大学大学院工学研究科研究報告
巻 55
ページ 107‑113
発行年 2007‑03‑31
URL http://hdl.handle.net/10098/927
107
108
109
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