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JAIST Repository: 必須微量元素コートポリスチレン材料による細胞制御の研究

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Academic year: 2021

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(1)JAIST Repository https://dspace.jaist.ac.jp/. Title. 必須微量元素コートポリスチレン材料による細胞制御 の研究. Author(s). 日下, 雅文. Citation Issue Date. 1997-03. Type. Thesis or Dissertation. Text version. none. URL. http://hdl.handle.net/10119/2399. Rights Description. Supervisor:西坂 剛, 材料科学研究科, 修士. Japan Advanced Institute of Science and Technology.

(2) 必須微量元素コートポリスチレン材料による細胞制御の研究 日下 雅文. (西坂研究室). 【はじめに】 インテリジェント型生体材料の作製において,材料表面と細胞との相互作用を制御する ことは本質的な課題であり,様々な手法を用いた材料表面の改質による機能化が行なわれ ている.本研究は,生体内で酵素機能など生体の重要な機能を担っている必須微量元素 を,イオンスパッタ法によりポリスチレン表面にコーティングし,細胞の増殖性や接着性 をコントロールすることにより,より高度の生体適合化をはかることを目的としている. 【試料および実験方法】 をポリスチレンディッシュ表 イオンスパッタ法により,必須微量元素である 面にそれぞれコーティングした.必須微量元素をコートした材料は,特性 線微小分析 ,原子間力顕微鏡 観察,接触角測定,誘導結合プラズマ 発光分析 法等により材料の表面特性の評価を行った.細胞制御の実験は,コート・非コート面を持 細胞,線維芽細胞を対象として, つようにコーティングしたディッシュを用い, 培地(牛胎児血清を 添加)を使用して行った.. Fe, Cu, Zn. (EPMA). (AFM). X (ICP). HeLa. 10%. F-10. 【結果および考察】 イオンスパッタ処理済みのディッシュでは, 微量元素の薄膜の形成が認められた.また. EPMA によりその全てにおいて目的の必須 AFM 観察により求めた平均表面粗さ,接触角, ICP 発光分析結果などより,材料の表面特性 は,コーティング元素,材料表面粗さと密接 に関係していることが分かった. また細胞の増殖・接着制御の実験では,図 に示すように,スパッタ処理面を中心に細胞 が接着し,増殖していく状態が全ての必須微 量元素処理サンプルで観察された.この結果 は先述した,様々な材料の表面特性の分析結 果と密接に関係しており,接触角 ∼ ° , イオン濃度 前後, イオン濃 前後(但し, イオンは検出限 度 界量であった. )で良好な成果が得られ,特に スパッタ処理時間 図 に示した のディッシュで,最も良い結果が得られた.. 1. 図 1:. Phase scope. contrast images. of. microHeLa. cells 5 days after seeding on Cu coated sample.. Two arrows indicate border of Substrate(non coating) /. Fe : 4.5 ppm : 0.4 ppm Cu 1. Cu. Coating area.. keywords. ion sputtering, trace element, surface modi

(3) cation, adhesion control, growth control. Copyright c 1997 by Masabumi Kusaka. : 55 60 Zn. : 30sec.

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参照

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