博 士 論 文 概 要
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(2) 近年著しく高機能化／高集積化する種々の機能デバイスの形成プロセスにおい て、ナノスケールの複雑な形状を有する構造体の形成、およびその精密な機能制 御が求められている。しかしながら、従来から主に用いられているトップダウン 型のドライプロセスのみでは、三次元構造の形成が困難であるとともに、加工過 程でのダメージ等も問題となり、形成可能な構造と機能に制限がある。そこで、 複雑なナノ～マイクロ構造体を高速一括形成可能なボトムアップ型のウェットプ ロセス（電気化学プロセス）の適用が注目されている。 本 研 究 は 、MEMS デ バ イ ス 、高 密 度 デ ー タ ス ト レ ー ジ デ バ イ ス な ど に 応 用 さ れ る強磁性ナノ構造体の形成、およびその機能制御を実現する電気化学プロセス設 計を対象とするものである。特に本研究では、次世代型超高記録密度磁気記録媒 体 と し て 研 究 開 発 が 進 め ら れ て い る ビ ッ ト パ タ ー ン 媒 体（ BPM）を 中 心 に 検 討 を 進 め た 。B P M は ア レ イ 状 に 規 則 配 列 し た ナ ノ ス ケ ー ル の 強 磁 性 体 か ら な り 、個 々 の「ナノドット」は、極微細でありながら、面垂直方向に高い磁気異方性を発現 し、また全面にわたり均一な特性を有することが求められる。しかしながら、従 来から用いられているドライプロセスによる形成プロセスでは、予め形成した連 続膜を物理的に裁断するため粒界をランダムに含み、ドットごとの磁気特性が不 均一となることが課題となっている。一方電気化学プロセスは、リソグラフィ等 により形成したパターンに対して磁性体を析出することで、原理的には一ドット 一粒子の析出も可能となり、均一な磁気特性を有するドットアレイの形成が期待 さ れ る 。し か し な が ら 、B P M に 求 め ら れ る よ う な 極 微 細 な 形 状 で 、高 い 磁 気 異 方 性を発現するための結晶配向制御を実現する電気化学プロセスは、これまでに得 ら れ て い な い 。そ こ で 、本 研 究 で は ド ッ ト パ タ ー ン 内 で の 電 気 化 学 反 応 に 着 目 し 、 特に析出初期の反応制御を試みることで、結晶配向性を制御した極微細な強磁性 ナ ノ ド ッ ト ア レ イ を 均 一 形 成 す る プ ロ セ ス 設 計 を 試 み た 。ま た 、本 研 究 を 通 じ て 、 電 気 化 学 プ ロ セ ス を 用 い た BPM の 新 規 な 形 成 プ ロ セ ス を 提 案 し た 。 本論文は 6 章より構成されている。各章の概要を以下に示す。 第 1 章 では 、電 気化学 プロ セス を 用いた 高機 能薄 膜 および ナノ ／マ イ クロ構 造 体形成の研究について紹介し、従来の手法により得られている知見と問題点をま とめ本研究の位置づけを明らかにした。また、本研究の主たる対象の一つである 磁 気 記 録 媒 体 の 研 究 開 発 状 況 に つ い て 述 べ 、B P M 形 成 に 電 気 化 学 的 手 法 を 用 い る 意義について明らかにした。 第 2 章 で は 、 本 研 究 で 提 案 す る BPM 形 成 プ ロ セ ス に つ い て 述 べ た 。 本 研 究 で は U V- ナ ノ イ ン プ リ ン ト リ ソ グ ラ フ ィ （ U V- N I L ） お よ び 電 子 線 描 画 法 （ E B L ）を パ タ ー ン 形 成 手 法 と し て 用 い て い る 。 U V- N I L は ナ ノ サ イ ズ の パ タ ー ン を 高 速 に 一 括 形 成 可 能 で あ る リ ソ グ ラ フ ィ 手 法 で あ る 。 一 方 、 EBL は 微 細 形 成 性 に 優 れ 、 様 々 な パ タ ー ン を マ ス ク レ ス で 形 成 可 能 な 手 法 で あ る 。し た が っ て 、B P M 形 成 の 実 用 プ ロ セ ス と し て U V- N I L を 、 極 微 細 な パ タ ー ン へ 磁 性 金 属 を 充 填 す る 電 気 化. No.1.
(3) 学 プ ロ セ ス 設 計 の 基 礎 研 究 に E B L を そ れ ぞ れ 使 用 し た 。U V- N I L に よ る パ タ ー ン 形 成 の 検 討 で は 、 形 成 プ ロ セ ス の 最 適 化 に よ り 、 最 小 で 50 nm 径 、 100 nm 周 期 の ナ ノ パ タ ー ン 形 成 手 法 を 確 立 し た 。E B L に よ る パ タ ー ン 形 成 の 検 討 で は 、 レ ジ ス ト の 塗 布 方 法 か ら 、電 子 線 描 画 条 件 、さ ら に は 現 像 方 法 ま で を 系 統 的 に 検 証 し 、 最 小 で 6 nm 径 、 18 nm 周 期 （ 面 記 録 密 度 2 テ ラ ビ ッ ト ／ 平 方 イ ン チ 相 当 ） の ド ットパターンアレイの形成を実現した。さらに、形成したナノパターンに対し、 電 気 化 学 的 手 法 に よ り 強 磁 性 体 を 充 填 す る BPM 形 成 プ ロ セ ス を 提 案 し た 。 第 3 章 では 、電 解析出 法を 用い た 強磁性 ナノ ドッ ト アレイ 形成 のた め のプロ セ ス 設 計 に つ い て 述 べ た 。B P M へ の 応 用 を 考 え る 際 に は 、ナ ノ ド ッ ト 形 状 で 高 い 磁 気異方性を発現することが求められる。そこで、高い磁気異方性を有する hcp-Co80Pt20 合 金 系 を 用 い 、 微 細 パ タ ー ン へ の 充 填 を 可 能 と し つ つ 、 hcp-Co-Pt 合 金 の 磁 化 容 易 軸 で あ る（ 0002）面 を 面 垂 直 方 向 に 配 向 さ せ る プ ロ セ ス 設 計 を 試 み た 。こ こ で 、本 研 究 で は 、B P M 形 成 に 求 め ら れ る 下 地 層 構 造 を 有 す る 基 板 を 用 い て 高 い 結 晶 配 向 性 を 有 す る Co-Pt 析 出 を 目 指 し た 。 こ の 下 地 層 構 造 は 、 磁 気 ヘ ッ ド か ら の 書 き 込 み 磁 束 を 強 め る 軟 磁 性 下 地 層（ S U L ）、お よ び 形 成 す る 強 磁 性 体 の 結 晶 配 向 制 御 、並 び に S U L と 記 録 層 と の 磁 気 的 相 互 作 用 を 分 断 す る 役 割 を 担 う 中 間 層 か ら な る 。具 体 的 に は 、S U L と し て は C o - Z r- N b 、中 間 層 と し て は h c p - C o - P t （ 0 0 0 2 ）面 と ミ ス マ ッ チ の 小 さ い f c c - C u（ 111 ）を 用 い た 。こ の 下 地 層 上 で の C o - P t 電 析 条 件 を 最 適 化 し 、 Cu と の 界 面 か ら 面 垂 直 方 向 に hcp（ 0002） 面 が 配 向 す る プ ロ セ ス を 開 発 し た 。 ま た 、 形 成 し た Co-Pt 薄 膜 の 磁 気 特 性 を 評 価 し た と こ ろ 、 析 出 初 期 （ 20 nm 以 下 の 極 薄 い 膜 厚 ） に お い て も 高 い 垂 直 保 磁 力 を 発 現 す る こ と を 明 ら か に し た 。 さ ら に 、 こ の 電 析 条 件 に よ り 、 Cu 中 間 層 を 、 テ ラ ビ ッ ト ／ 平 方 イ ン チ 級 の 面 記 録 密 度 を 有 す る BPM で 求 め ら れ る 膜 厚 （ 1-2 nm 程 度 ） ま で 低 減 し た 場 合 で も 、 高 い 垂 直 保 磁 力 を 有 す る Co-Pt 薄 膜 を 形 成 可 能 と し た 。 以 上 よ り 、 実 際 の 記 録 媒 体 系 と 同 様 の 下 地 層 構 造 上 に 、 高 い 結 晶 配 向 性 を 有 す る Co-Pt を形成する電気化学プロセス設計の指針を得た。 第 4 章 で は 、第 3 章 で 述 べ た 電 析 条 件 を 用 い た C o - P t ナ ノ ド ッ ト ア レ イ 形 成 結 果と共に、さらなる磁気特性向上のためのプロセス設計について述べた。 4 - 1 節 で は 、U V- N I L に よ り 形 成 し た ナ ノ パ タ ー ン を 用 い て 、C o - P t ナ ノ ド ッ ト アレイの均一形成に向けた電気化学プロセス設計について述べた。電解析出反応 に 対 す る 基 板 表 面 の 反 応 性 に 着 目 し 、 表 面 電 位 顕 微 鏡 （ SPoM） を 用 い た 電 位 分 布 の 観 察 を 行 っ た 。 さ ら に 、 ナ ノ パ タ ー ン 内 で の 核 発 生 、 核 成 長 を 観 察 し 、 Cu 中 間 層 の 表 面 電 位 分 布 と の 相 関 を 調 べ る こ と で 、 Cu 中 間 層 の 表 面 電 位 分 布 の 低 減 に よ り Co-Pt 電 析 の 均 一 性 が 向 上 す る こ と を 明 ら か に し た 。 4-2 節 で は 、 極 微 細 パ タ ー ン へ の 充 填 を 可 能 と す る 電 解 析 出 プ ロ セ ス 設 計 を 目 的 と し 、E B L に よ り 形 成 し た パ タ ー ン へ の C o - P t 電 解 析 出 に つ い て 述 べ た 。ま ず 、 水 素 終 端 し た S i 上 に 塗 布 し た 電 子 線 レ ジ ス ト に パ タ ー ン を 形 成 し 、形 成 し た パ タ. No.2.
(4) ー ン に 対 し て Co-Pt の 充 填 を 試 み た 。 そ の 結 果 、 15 nm 径 、 35 nm 周 期 の ナ ノ パ タ ー ン へ の 充 填 を 可 能 と し た 。 次 に 、 磁 気 特 性 向 上 の た め Cu 配 向 層 を 付 与 し た 基 板 に ナ ノ パ タ ー ン を 形 成 し た と こ ろ 充 填 率 の 向 上 が 見 ら れ た 。こ れ は 、 E B L の 際 に S i に 比 べ C u 上 の 方 が 後 方 散 乱 の 影 響 が 大 き く 、パ タ ー ン 底 部 ま で 十 分 に 露 光され、パターン形成の欠陥が減少したことに因ると考えられた。また、テラビ ッ ト ／ 平 方 イ ン チ 級 の 面 記 録 密 度 達 成 に 向 け て 、 6 nm 径 、 18 nm 周 期 の 微 細 パ タ ー ン へ の 充 填 を 可 能 と し 、 BPM 形 成 に お け る 本 プ ロ セ ス の 有 用 性 を 確 認 し た 。 第 5 章 で は 、無 電 解 析 出 法 に よ る B P M 形 成 の 基 礎 検 討 お よ び 磁 気 M E M S な ど へ の 展 開 を 目 的 と し た 、 無 電 解 Co-Ni-P 系 に よ る BPM 形 成 に つ い て 述 べ た 。 既 報 の Co-Ni-P 合 金 薄 膜 は 、 次 亜 リ ン 酸 を 還 元 剤 と し て 用 い た 浴 系 か ら 形 成 さ れ 、 膜 厚 200 nm 程 度 で 高 い 垂 直 保 磁 力 を 有 す る が 、 膜 厚 低 下 に 伴 い 、 垂 直 保 磁 力 が 急 激 に 低 減 す る 。 そ こ で 、 析 出 初 期 か ら 高 い 垂 直 保 磁 力 を 示 す Co-Ni-P 無 電 解 析 出を試みた。 5-1 節 で は 、 Co-Ni-P ナ ノ ド ッ ト ア レ イ 形 成 の た め の プ ロ セ ス 設 計 に つ い て 述 べ た 。 C o - N i - P 薄 膜 の 析 出 初 期 か ら の 結 晶 配 向 性 向 上 の た め 、 h c p - C o（ 0 0 0 2 ） と ミ ス マ ッ チ の 小 さ い f c c - C u（ 111 ） を 用 い た 。 し か し な が ら 、 C u 表 面 は 次 亜 リ ン 酸 の 酸 化 反 応 に 対 す る 触 媒 活 性 を 示 さ な い た め 、 Cu 表 面 に Co-Ni-P 合 金 を 直 接 析 出 す る こ と が で き な い 。 そ こ で 、 本 研 究 で は 、 Cu 表 面 が 触 媒 活 性 を 有 す る ヒ ドラジンの酸化反応を利用した。ヒドラジンは他の還元剤と比較し、高純度な析 出を可能とするため、析出初期から高い結晶性が得られると予想した。次亜リン 酸を還元剤として用いる従来浴にヒドラジンを添加し、無電解析出条件および浴 組 成 を 最 適 化 す る こ と で 、25 nm 膜 厚 で 3.0 kOe 以 上 の 高 い 垂 直 保 磁 力 を 有 す る C o - N i - P 薄 膜 の 形 成 を 可 能 と し た 。 さ ら に U V- N I L を 用 い て 形 成 し た パ タ ー ン に 対 し て 、 こ の 条 件 よ り Co-Ni-P を 析 出 す る こ と で 、 パ タ ー ン 底 部 か ら の み の 均 一 形 成 を 実 現 す る と と も に 、形 成 し た C o - N i - P ナ ノ ド ッ ト ア レ イ は 高 い 垂 直 保 磁 力 を 有 す る こ と を 確 認 し た 。 こ の こ と か ら 、 高 い 垂 直 保 磁 力 を 有 す る Co-Ni-P ナ ノ ドットアレイ形成に、本プロセスが適用可能であることを示した。 5 - 2 節 で は 、5 - 1 節 で 設 計 し た 無 電 解 析 出 反 応 の 解 析 結 果 に つ い て 述 べ た 。析 出 過程を経時的に解析することにより、析出初期ではヒドラジンの酸化反応が優先 して進行することで初期領域が形成され、その後その初期領域上で次亜リン酸の 酸 化 反 応 も 同 時 に 進 行 し 、 Cu 表 面 に 触 媒 化 処 理 な し に Co-Ni-P が 析 出 し た こ と が 明 ら か に な っ た 。 ま た 、 ヒ ド ラ ジ ン に よ り 形 成 さ れ る 初 期 領 域 は Co 含 有 率 が 高 く 、 ま た 結 晶 配 向 性 が 高 い た め 、 成 膜 し た Co-Ni-P 合 金 は 析 出 初 期 か ら 高 い 垂 直保磁力を発現することを明らかにした。 第 6 章 で は 、第 2 章 か ら 第 5 章 で 得 ら れ た 結 果 を 総 括 し 、こ れ ら の 知 見 を 基 に した強磁性ナノ構造体形成プロセス設計の指針を提案した。さらに今後の展望に ついて述べた。. No.3.
(5) Ｎｏ.1. 早稲田大学 氏 名. 大内. 隆成. 博士（工学）. 学位申請. 研究業績書. 印 （２０１０年. 種 類 別 ○論文. ○論文. ○論文. ○論文. ○論文. 題名、. 発表・発行掲載誌名、. 発表・発行年月、. １２月. 現在）. 連名者（申請者含む）. “Fabrication of Magnetic Nanodot Array using Electrochemical Deposition Processes,” Electrochimica Acta, vol. 55, no. 27, pp. 8081–8086, October, 2010, T. Ouchi, Y. Arikawa, Y. Konishi, T. Homma. “Electrochemical Fabrication and Characterization of CoPt Bit Patterned Media: towards a Wetchemical, Large-Scale Fabrication,” IEEE Transactions on Magnetics, vol. 46, no. 6 pp. 2224–2227, June 2010, T. Ouchi, Y. Arikawa, J. Mizuno, S. Shoji, T. Homma. “High Perpendicular Coercivity Electroless Cobalt Alloy Films with 25 nm Thicknesses,” Electrochemical Society Transaction, vol. 25, no. 41, pp. 125–134, April, 2010, T. Ouchi, Y. Arikawa, T. Kuno, T. Homma. “Electrochemical Fabrication of CoPt Nanodot Arrays on Glass Disks by UV Nanoimprint Lithography,” Electrochemical Society Transaction, vol. 16, no. 45, pp. 57–64, April, 2009, T. Ouchi, Y. Arikawa, J. Mizuno, S. Shoji, T. Homma. “Fabrication of CoPt Magnetic Nanodot Arrays by Electrodeposition Process,” Journal of Magnetism and Magnetic Materials, vol. 320, no. 22, pp. 3104–3107, November 2008, T. Ouchi, Y. Arikawa, T. Homma.. 総説. “ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成” ，表面技術，vol. 59， no. 7， pp. 430-436，2008年7月，大内隆成，本間敬之．. 講演. “Fabrication of Magnetic Nanodot Array Using Nanoimprint Lithography: In Combination with Electrochemical Deposition or Ion Irradiation,” 218th meeting of the Electrochemical Society, Las Vegas (USA), October, 2010, T. Homma, T. Ouchi, Y. Konishi, J. Mizuno, S. Shoji, M. Aniya, and Y. Sonobe. “Analysis of Nano-patterned Electrodeposition of Co-Pt at Initial Deposition Stage,” The 61st Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Nice (France), September, 2010, T. Ouchi, Y. Konishi, T. Homma. “Study on CoNiP Electroless Deposition Reaction for Fabricating Ferromagnetic Nanodot Arrays,” The Eight International Symposium on Electrochemical Micro & Nanosystem Technologies, Cannes (France), September, 2010, T. Ouchi, N. Shimano, T. Homma. “ナノドットパターン内でのCo-Pt電析初期過程の解析” 2010年電気化学会秋季大会，神 奈川，2010年9月，小西洋平，大内隆成，本間敬之． “Cu層上への超微細Co-Ptドットアレイの形成”2010年電気化学会秋季大会，神奈川，2010 年9月，久野泰伴，高見淳，大内隆成，本間敬之． “無電解CoNiP高保磁力薄膜の析出初期過程解析”2010年電気化学会秋季大会，神奈川， 2010年9月，嶋野直史，大内隆成，本間敬之． “Study on Electrochemical Deposition Behavior of Co-Pt into Nano-patterned Substrates,” PMRC2010, May, 2010, T. Ouchi, T. Kuno, Y. Konishi, T. Homma. “軟磁性下地層への高保磁力Co-Ptナノドットアレイの電析法による作製”電気化学会第 77回講演大会，富山，2010年3月，小西洋平，有川勇輝，大内隆成，本間敬之． “電析法による超微細CoPt強磁性ナノドットアレイの作製と特性評価”表面技術協会第 121回講演大会，東京，2010年3月，久野泰伴，大内隆成，本間敬之．. 講演. 講演. 講演 講演 講演 講演 講演 講演.
(6) Ｎｏ.2. 早稲田大学 種 類 別 講演. 講演. 講演. 講演. 講演. 講演. 講演 講演. 講演 講演 講演 講演. 講演. （論文）. （論文）. 題名、. 博士（工学） 発表・発行掲載誌名、. 学位申請 発表・発行年月、. 研究業績書 連名者（申請者含む）. “Electrochemical Fabrication and Characterization of CoPt Bit Patterned Media: a Wetchemical Approaches towards the Large Scale Manufacture of Terabit/in2 Media,” 11th Joint MMM-Intermag Conference, Washington (USA), January, 2010, T. Ouchi, Y. Arikawa, T. Kuno, J. Mizuno, S. Shoji, T. Homma. “High Perpendicular Coercivity Electroless Cobalt Alloy Films with 25 nm Thicknesses,” 216th Meeting of the Electrochemical Society, Vienna (Austria), October, 2009, T. Ouchi, Y. Arikawa, T. Kuno, T. Homma. “ナノインプリントおよび電解析出法を用いたビットパターン媒体の作製と特性評価” 第33回日本磁気学会学術講演会，長崎，2009年 9月，有川勇輝，久野泰伴，林政平，大 内隆成，水野潤，庄子習一，本間敬之． “電解析出法によるCoPt強磁性体ナノドットアレイの作製と高保磁力化”日本化学会第 三回関東支部大会，東京，2009年 9月，大内隆成，有川勇輝，久野泰伴，水野潤，庄子 習一，本間敬之． “Fabrication of Magnetic Nanodot Array using Electrochemical Deposition Processes,” The 60th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Beijing (China), August, 2009, T. Homma, T. Ouchi, Y. Arikawa, C.P. Lin, T. Kuno, J. Mizuno, S. Shoji. “Fabrication of Bit Patterned Media for Ultra-high Density Magnetic Recording by Electrochemical Approaches,” Kurt Schwabe Symposium 2009, Erlangen (Germany), May, 2009, T. Ouchi, Y. Arikawa, C. P. Lin, T. Homma. “CoPt磁性ナノドットアレイ形成におけるパターン微細化の検討”電気化学会第76回大 会，京都，2009年3月，久野泰伴，有川勇輝，林政平，大内隆成，本間敬之． „„Electrochemical Fabrication of CoPt Nanodot Arrays on Glass Disks by UV Nanoimprint Lithography,‟‟ Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-state Science, Hawaii (USA), October, 2008, T. Ouchi, Y. Arikawa, J. Mizuno, S. Shoji, T. Homma. „„Fabrication of Ferromagnetic Nanodot Arrays by Electrochemical Processes,‟‟ Interfinish 2008, Busan (Korea), June, 2008, T. Ouchi, Y.Arikawa, J. Mizuno, S. Shoji, T. Homma. “Fabrication of Magnetic Nanodot Arrays using Wet Processes,” ACEC2008, Taipei (Taiwan), May, 2008, T. Homma, T. Ouchi, Y. Arikawa. “ガラスディスク基板上への電析CoPt磁性ナノドットアレイの作製” ，電気化学会第75回 講演大会，山梨，2008年3月，有川勇輝，大内隆成，本間敬之． “Fabrication of CoPt Magnetic Nanodot Arrays by Electrodeposition Process,” 8th International Conference on Perpendicular Magnetic Recording, Tokyo, October, 2007, T. Ouchi, Y. Arikawa, T. Homma. “ウェットプロセスによる強磁性ナノドットアレイ構造体の形成”，表面技術協会第116 回講演大会，長崎，2007年9月，本間敬之, 大内隆成, 有川勇輝． “Magnetization Reversal Process of Hard/soft Nano-composite Structures Formed by Ion Irradiation,” IEEE Transactions on Magnetics, vol. 46, no. 6, pp. 2132–2135, June, 2010, M. Aniya, A. Shimada, Y. Sonobe, K. Sato, T. Shima, K. Takanashi, Simon J. Greaves, T. Ouchi, T. Homma. “Magnetic Properties of Patterned CGC Perpendicular Films with Soft Magnetic Fillings,” IEEE Transactions on Magnetics, vol. 45, no. 10, pp. 3539–3542, October, 2009, M. Aniya, A. Mitora, A. Shimada, Y. Sonobe, T. Ouchi, Simon J. Greaves, T. Homma..
(7) Ｎｏ.3. 早稲田大学 種 類 別 （講演）. （講演）. （講演）. （講演）. （講演）. （講演） （講演）. （講演）. （講演）. （講演）. 題名、. 博士（工学） 発表・発行掲載誌名、. 学位申請 発表・発行年月、. 研究業績書 連名者（申請者含む）. “イオン注入による CGC 型媒体の磁気特性の変化” 第 34 回日本磁気学会学術講演会， 茨城，2010 年 9 月，安仁屋政憲，島田明，安森順一，園部義明，佐藤浩太郎，嶋敏之， S. Greaves，村岡裕明，大内隆成，本間敬之． “室温イオン液体を用いた電析法による Si マイクロピラーアレイの作製”2010 年電気化 学会秋季大会，神奈川，2010 年 9 月，中野悠理，秋吉貴裕，大内隆成，福中康博，本間 敬之． “Magnetization Reversal Process of Hard/soft Nano-composite Structures Formed by Ion Irradiation,” 11th Joint MMM-Intermag Conference, Washington (USA), January, 2010, M. Aniya, A. Shimada, Y. Sonobe, K. Sato, T. Shima, K. Takanashi, Simon J. Greaves, T. Ouchi, and T. Homma. “ソフトガードバンドを有する垂直磁気記録媒体の磁化反転機構” 第33回日本磁気学会 学術講演会，長崎，2009年 9月，安仁屋政憲，島田明，園部義明，佐藤浩太郎，嶋敏之， 高梨弘毅，大内隆成，本間敬之． “Magnetic Properties of Patterned CGC Perpendicular Films with Soft Magnetic Fillings,” Intermag2009, California (USA), May, 2009, M. Aniya, A. Mitra, A. Shimada, Y. Sonobe, T. Ouchi, Simon J. Greaves, and T. Homma. “Si電解エッチングによる微細孔アレイ形成における孔密度制御”電気化学会第76回大 会，京都，2009年3月，川名功泰，鵜沢健太郎，大内隆成，本間敬之． “Size-Controlled Microfabrication of Pore Arrays to Si Wafer Surface,” International Union of Materials Research Societies (IUMRS-ICA2008), Aichi, December, 2008, K. Uzawa, N. Kawana, T. Ouchi, T. Homma. “Electrochemical Fabrication and Modification Processes for Arrayed Microstructures on Si Wafer Surfaces,” 211th Meeting of The Electrochemical Society, Chicago (USA), May, 2007, T. Homma, H. Sato, T. Yamaguchi, T. Isobe, T. Ouchi. “微小スルーホール配列を用いた還元性ガスフローによる金属ナノ粒子形成プロセスの 制御”電気化学会第74回講演大会，千葉，2007年3月，大内隆成，磯部哲彦，山口拓也， 佐藤裕崇，本間敬之． “微小スルーホール配列を用いた還元性ガスフローによる金属ナノ粒子の合成” ，2006年 電気化学会秋季講演大会，京都，2006年9月，磯部哲彦，大内隆成，山口拓也，佐藤裕崇， 本間敬之，庄子習一．.
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