2端子
MOS
構造群馬大学 松田順一
令和元年度 集積回路設計技術・次世代集積回路工学特論資料
概要
•
フラットバンド電圧•
電位バランスと電荷バランス•
表面状態とゲート~基板間電圧•
フラットバンド、蓄積、空乏、反転•
エネルギーバンド図•
反転電荷とゲート~基板間電圧•
全体的な解析•
強反転•
弱反転•
小信号容量•
フラットバンド電圧と基板濃度の導出(注)以下の本を参考に、本資料を作成した。
(1) Yannis Tsividis, Operation and Modeling of the MOS Transistor Second Edition, McGraw-Hill, New York, 1999.
(2) Yannis Tsividis and Colin McAndrew, Operation and Modeling of the MOS Transistor Third Edition, Oxford University Press, New York, 2011.
フラットバンド電圧説明(1)
(1)ゲートと基板は同一材料
(1)ゲートと基板は同一材料
(1)ゲートと基板は同一材料
(1)ゲートと基板は同一材料 (2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料 ゲート
絶縁膜 基板
仕事関数差によりゲートと 基板側にそれぞれ電荷発生
(n型基板)
(P+ポリSi)
G
B
MS
G
B
電圧源 MS
Qo
G
B 電圧源
(3)表面電荷がゼロになる
(3)表面電荷がゼロになる(3)表面電荷がゼロになる
(3)表面電荷がゼロになる ように外部電圧
ように外部電圧ように外部電圧
ように外部電圧φMS印加印加印加印加 (4)界面電荷(4)界面電荷(4)界面電荷(4)界面電荷Qoの影響の影響の影響の影響
material gate
material Bulk
MS
_
_
フラットバンド電圧説明(2)
(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加
(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加
(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加
ox ox ox
ox o
ox
Q C C t
' ',
'
ox ''
ox o
C
Q
t
ox
MSV
FBG
B
Q
o
Q
o
電 圧 源
電 圧 源
' '
ox o MS
FB
C
V Q
容量 単位面積当りの酸化膜
面電荷 単位面積当りの実効界
仕事関数差 圧 フラットバンド電
: :
: :
' '
_ _
ox o
S M
material gate
material Bulk
MS MS
FB
C Q
q W W
V
V 56 .
0
F MS
p
ポリシリコンゲート
V
56 .
0
F MS
n
ポリシリコンゲート
実効界面電荷
•
固定電荷•
酸化時にSi-SiO2界面に形成•
酸化膜中のトラップ電荷•
放射線、光エミッション、キャリア注入に起因•
可動イオン(Na)
電荷•
工程での環境に起因•
界面トラップ電荷•
界面での欠陥に起因•
基板中のキャリアと電荷の交換ありQ o
フラットバンドの説明図
0 Qo
EC
Ei
EV
EF
EFM MS
GB q
qV
ゲート
酸化膜
p型基板
V
GB0 Qo
EC
Ei
EVF
E
EFM FB
GB qV
qV
電位バランス
oxQ
oV
GB
MS
s ( y )
G
B
Q
cy
) ( y
V
GB
s
ox0 0
' '
' '
'
C G
C o
G
s ox
GB
MS s
ox GB
Q Q
Q Q
Q V V
電荷変化のある場合
電荷中性
電圧変化のある場合
ゲート~基板間電圧
は変化する。
より 実際には、界面準位に
を固定して考える。
(注)ここでは、
' '
o o
Q Q
電荷
:単位面積当り基板内
上電荷
:単位面積当りゲート
' '
C G
Q
Q
フラットバンド状態と蓄積状態
0 ,
0
,
'
FB C sGB
V Q
V
ox '
'
ox o
C
Q
t
oxMS
VFB
G
B
Qo
Qo
電
圧 源 電 圧 源
p型
V
FB FBGB
V
V
G
B
正孔 p型
0 ,
0
,
'
FB C sGB
V Q
V
フラットバンド状態 蓄積状態
空乏状態と反転状態
0 ,
0
,
'
FB C sGB
V Q
V
VFB FB
GB V
V
G
B dB
p型
V
FB FBGB
V
V
G
B
d
Bp型
y
y
表面y
c y
0 ,
0
,
'
FB C sGB
V Q
V
空乏状態 反転状態
表面電荷
t F s
t F s
t F s
t s
e N
e p
e n
e n n
A i surface
2 2
0 0
表面電荷(電子)密度
t F i
i t
F
t F i
i t
F
A i A
p n n p
n n n
n
N n n
N p
exp ln
exp ln
,
0 0 0 0
2 0
0
平衡状態(p型基板)
2端子
MOS
構造のエネルギーバンド図(蓄積状態と弱反転開始)
E
CE
VE
FE
iE
FM
0qV
GB0 ,
0
'
oMS
Q
E
CE
VE
FE
iE
FM0 L
GB
qV
qV
q
F0 ,
0
'
oMS
Q
蓄積状態 弱反転状態
2端子
MOS
構造のエネルギーバンド図(中(緩やかな)反転開始と強反転開始)
E
CE
VE
FE
iE
FM0 M
GB
qV
qV
q
Fq
F
F
I q
q
2
0 ,
0
'
oMS
Q
EC
EV
EF
Ei
E
FM0 H
GB qV
qV
q
F0 H
I q
q
中(緩やかな)反転開始 強反転開始
0 ,
0
'
oMS
Q
全体的な解析(ポアソンの式)
・電荷密度電荷密度電荷密度電荷密度
A
t t
A
N n
p
p y y
y p n
y n
N y
n y p q y
0 0
0 0
) exp (
) ( ) , exp (
) (
) ( ) ( )
(
・ポアソンの式ポアソンの式ポアソンの式ポアソンの式
p基板
深さ方向:y
( ) (
1 ) (
( )1 )
0 )
( 2 0
2
t t
y y
s s
e n e
q p y
dy
d
ポアソンの式の解
となる。
アソンの式は、
となる。したがってポ
をかけると左辺は、
両辺に
。 は、以下の如くになる とするとポアソンの式
≫
dy e d
e qN e
dy d dy
d
dy d dy
d dy
d dy d
dy d
e e
qN e dy
d
e N N
n n N
p n N
t t
F t
t t
F t
t F
y y
s A
y y
s A
A A
i A
i A
) 1 (
2 1 2
2
) 1 (
1 ,
,
) ( 2
) 2 (
2 2
2
) ( 2
) ( 2
2
2 2 0
0
) 2 (
) 1 (
2 1
0 ,
0 ,
:
) ( 2
) ( 0
) ( 2
) 2 (
t y
t t
y t s
A
y y
s A
t t
F t
t t
F t
e e
qN e
d e
e qN e
dy d
dy y d
y y
で
但し まで積分
となる。
は したがって電界
) 2 (
) (
) (
) ( 2
) (
t y
t t
y t s
A
s t t
F
t e e
N e y q
dy y d
0 :
, 0
:
ここで
半導体中の全電荷と容量
となる。
は に対する容量
また、
。 は、以下の如くになる 電荷
単位面積当りの半導体
) (
2
) 1 (
2 1
) (
2
) 0 ( ,
2 2 '
' '
'
2 '
'
'
t s t
t s t
A s c
s C c
C
t s t
t s t
A s C
s surface
s C
C
t s t
F t
s
t s t
F t
s
t s t
F t
s
e e
e
e e
N e q C
d C dQ
Q
e e
e N
q Q
Q
Q
m
反転領域(反転層電荷)
となる。
から
となる。ここで、
p基板の場合
s t
s A
s I
B I
C
s A s B
t s A s C
F s
t F s
t F s
e N
q Q
Q Q Q
N q Q
e N
q Q
2 '
' ' '
'
2 '
2 2 2 ,
電荷 単位面積当りの空乏層
電荷 単位面積当りの反転層
:
:
' '
B I
Q
Q
Depletion Weak inversionModerate inversion
Strong inversion
'
Q
I 'Q
CF F 2
s
0
'
Q
B '2
QC
' 1 '
1 B
C Q
Q
1
s
s2
' 2
QI
' 2
QB
0
Z
電荷(反転層、空乏層及びその和)と表面電位
反転領域(表面電位とゲート電圧)
' ' '
' ' '
' '
' '
' '
) ( )
(
) ( )
(
) ( )
1 (
ox
s B s
I s FB
ox
s B s
I s
ox o MS
MS s
s B s
I o ox GB
C Q V Q
C Q Q
C Q
Q Q
C Q V
と表面電位 ゲート~基板間電圧
'
0
' '
'
B I
o G
MS s
ox GB
Q Q
Q Q
V
電圧及び電荷の関係
) (
) (
' '
' '
' '
s B B
s I I
ox ox G
Q Q
Q Q
C Q
F F
FB M
M GB
F s
F F
FB L
L GB
F s
t s s
FB
t s ox
A s s
FB GB
V V
V V
V V
V V
e V
C e N V q
V
t F s
t F s
2 2
2
2
0
0 0
0 2
2 '
の場合、
の場合、
ここで、
中反転開始電圧 弱反転開始電圧, :
: 0
0 M
L
V
V
'
2
ox A s
C N q
基板効果係数
0.2 1.0
1.E+16 1.E+17 1.E+18 1.E+19
γ (((( V
0.5)
N
A(cm
-3)
20 30 40 60 80 100 150 200 300
)
(
Åt
ox表面電位とゲート基板間電圧及び電荷と表面電位
Depletion Weak
inversion
Moderate inversion
Strong inversion
V
GB 'Q
I2
F
Z0
s 'Q
B0
V
LV
M0V
H0'
Q
C2
F
F
s
0
反転領域(反転層電荷とゲート電圧)
GB FB s s
ox
s ox
A s s
FB GB
ox
ox B o
MS s
GB ox
B o
ox ox I
V V
C
C N V q
V C
C Q V Q
C
Q Q
C Q
'
' '
' ' '
'
' '
' '
2
s A
s B
MS s
ox GB
N q Q
V
'
2
Q
Q
Depletion Weak inversion
Moderate inversion
Strong inversion
VFB VL0 VM0VT0 VH0 VGB
'
QI
SlopeCox'
強反転領域と強反転領域の電荷
である。
となる。ここで
は この場合の反転層電荷
実効的に一定
は、
強反転領域の表面電位
0 0
0
0 '
0 0
' '
0 0
2
FB T
T GB ox
FB GB
ox I
F s
V V
V V
C
V V
C Q
s F
tF t s F t
s
F
F t s
N e Q q
e e
e N
q Q
t s
A s I
s s
s t
s
s t
s
s t
s A
s I
/ 2 /
2 /
2
/ 2
2 ' 2
1 2 2
2 '
したがって、
となるため
≪ とおくと、
であるから、
弱反転領域では、
反転領域の電荷は
V
: 外挿しきい値電圧弱反転領域(反転電荷と表面電位)
s F
tF t s F t
s
F
F t s
N e Q q
e e
e N
q Q
t s
A s I
s s
s t
s
s t
s
s t
s A
s I
/ 2 /
2 /
2
/ 2
2 ' 2
1 2 2
2 '
したがって、
となるため
≪ とおくと、
であるから、
弱反転領域では、
反転領域の電荷は
弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:1)
となる。
の関数になり、
は となる。したがって、
を解くと として、上式から
となる。
であるから 弱反転領域では、
t F GB sa
t F s F
V t
GB sa
A s I
GB sa
FB GB
sa
sa sa
s
s s
FB
t s s
FB GB
s
V e N Q q
V V V
V
e V
V
/ 2 ) ( 2 2
/ 2
) ( 2
' 2
4 2
2
である。
(一定)
となる。ここで、
とすると、
ここで、
0 2
1
/ 2 ) (
2 1 2
|
1 2 2 2 ' 2
2 )
(
n n
dV n d
N e Q q
V
F GB sa
sa
V t
F A s I
F GB
sa
F sa
t F GB sa
弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:2)
となる。
) (
は となる。
したがって、
t F
A s M
n V V M
n V V t F
A s I
I
M GB F
sa
N Q q
e Q
N e Q q
Q
V n V
t M
GB
t M
GB
2 2
2
2 2 ' 2
' 2 1
' 0
/ '
0
/ 0 0
0 0
0 0
) ( GB
sa V
0
VM 0
VL
F
2
F
s 0
Slpoe 1
n
M
VGB
反転層電荷とゲート~基板間電圧
t F s
t F s
e V
V
e N
q Q
t s s
FB GB
s t
s A
s I
2 2
' 2
t M
GB V n
V M
I
Q e
Q
'
' 0 0 / 0
0
' '
T GB ox
I
C V V
Q
(a)
(b)
(c)
Weak Moderate Strong
V
GBln
Q
I') (a )
(b
) (c
0
V
H 0V
T 0V
M小信号容量(ゲート~基板間)
s C C
ox G ox
c ox
s C ox
G
G s G
ox G
GB gb
GB G gb
d C dQ
d C dQ
C C
d dQ d
dQ
dQ d dQ
d dQ
dV C
dV C dQ
' '
' '
' '
' '
' '
' '
' '
, 1 1
1 1
1
ここで、
になる。
とすると、以下の如く
単位面積当り)
ゲート~基板間容量(
VGB
Cgb
QG
QG
QC
QC
CC Cox
CC
s
VGB
s
ox
s ox
V
GB
' '
G
C
Q
Q
QG
QC
半導体中の全電荷による小信号容量
t F s t
F s
t s t
F t
s
t s t
F t
s
e N e
q C
e e
e
e e
N e q C
d C dQ
t s
A s c
t s
t s t
t s t
A s c
s C c
2 2 '
2 2 '
' '
2 2 1
3
) (
2
) 1 (
2 1
の場合
の具体的な式