• 検索結果がありません。

0.5

N/A
N/A
Protected

Academic year: 2021

シェア "0.5"

Copied!
36
0
0

読み込み中.... (全文を見る)

全文

(1)

2端子

MOS

構造

群馬大学 松田順一

令和元年度 集積回路設計技術・次世代集積回路工学特論資料

(2)

概要

フラットバンド電圧

電位バランスと電荷バランス

表面状態とゲート~基板間電圧

フラットバンド、蓄積、空乏、反転

エネルギーバンド図

反転電荷とゲート~基板間電圧

全体的な解析

強反転

弱反転

小信号容量

フラットバンド電圧と基板濃度の導出

(注)以下の本を参考に、本資料を作成した。

(1) Yannis Tsividis, Operation and Modeling of the MOS Transistor Second Edition, McGraw-Hill, New York, 1999.

(2) Yannis Tsividis and Colin McAndrew, Operation and Modeling of the MOS Transistor Third Edition, Oxford University Press, New York, 2011.

(3)

フラットバンド電圧説明(1)

(1)ゲートと基板は同一材料

(1)ゲートと基板は同一材料

(1)ゲートと基板は同一材料

(1)ゲートと基板は同一材料 (2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料(2)ゲートと基板は異種材料 ゲート

絶縁膜 基板

仕事関数差によりゲートと 基板側にそれぞれ電荷発生

(n型基板)

(P+ポリSi)

G

B

MS

G

B

電圧源MS

Qo

G

B 電圧源

(3)表面電荷がゼロになる

(3)表面電荷がゼロになる(3)表面電荷がゼロになる

(3)表面電荷がゼロになる ように外部電圧

ように外部電圧ように外部電圧

ように外部電圧φMS印加印加印加印加 (4)界面電荷(4)界面電荷(4)界面電荷(4)界面電荷Qoの影響の影響の影響の影響

material gate

material Bulk

MS

_

_

  

(4)

フラットバンド電圧説明(2)

(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加

(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加

(5)界面電荷の影響を打消す外部電圧印加

ox ox ox

ox o

ox

Q C Ct

  

' '

,

'

ox '

'

ox o

C

Q

t

ox

MS

V

FB

G

B

Q

o

Q

o

' '

ox o MS

FB

C

V    Q

容量 単位面積当りの酸化膜

面電荷 単位面積当りの実効界

 

仕事関数差 フラットバンド電

: :

: :

' '

_ _

ox o

S M

material gate

material Bulk

MS MS

FB

C Q

q W W

V

 

 

 

  

V 56 .

 0

F MS

p

 

ポリシリコンゲート

V

56 .

 0

F MS

n

 

ポリシリコンゲート

(5)

実効界面電荷

固定電荷

酸化時にSi-SiO2界面に形成

酸化膜中のトラップ電荷

放射線、光エミッション、キャリア注入に起因

可動イオン(

Na)

電荷

工程での環境に起因

界面トラップ電荷

界面での欠陥に起因

基板中のキャリアと電荷の交換あり

Q o

(6)

フラットバンドの説明図

0 Qo

EC

Ei

EV

EF

EFM MS

GB q

qV  

ゲート

酸化膜

p型基板

V

GB

0 Qo

EC

Ei

EVF

E

EFM FB

GB qV

qV

(7)

電位バランス

ox

Q

o

V

GB

MS

s

( y )

G

B

Q

c

y

) ( y

V

GB

s

ox

0 0

' '

' '

'

C G

C o

G

s ox

GB

MS s

ox GB

Q Q

Q Q

Q V V

  

電荷変化のある場合   

電荷中性   

電圧変化のある場合   

ゲート~基板間電圧

は変化する。

より 実際には、界面準位に

を固定して考える。

(注)ここでは、

' '

o o

Q Q

電荷

:単位面積当り基板内

上電荷

:単位面積当りゲート

' '

C G

Q

Q

(8)

フラットバンド状態と蓄積状態

0 ,

0

,

'

 

FB C s

GB

V Q

V

   

ox '

'

ox o

C

Q

t

ox

MS

VFB

G

B

Qo

Qo

p

V

FB FB

GB

V

V

G

B

正孔 p

0 ,

0

,

'

 

FB C s

GB

V Q

V

   

フラットバンド状態 蓄積状態

(9)

空乏状態と反転状態

0 ,

0

,

'

 

FB C s

GB

V Q

V

   

VFB FB

GB V

V

G

B dB

p

V

FB FB

GB

V

V

G

B

d

B

p

y

y

表面

y

c

y

0 ,

0

,

'

 

FB C s

GB

V Q

V

   

空乏状態 反転状態

(10)

表面電荷

t F s

t F s

t F s

t s

e N

e p

e n

e n n

A i surface

2 2

0 0

           

表面電荷(電子)密度

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

t F i

i t

F

t F i

i t

F

A i A

p n n p

n n n

n

N n n

N p

exp ln

exp ln

,

0 0 0 0

2 0

0

     

   

   

   

平衡状態(p型基板)

(11)

2端子

MOS

構造のエネルギーバンド図

(蓄積状態と弱反転開始)

E

C

E

V

E

F

E

i

E

FM

0

qV

GB

0 ,

0

'

o

MS  

Q

E

C

E

V

E

F

E

i

E

FM

0 L

GB

qV

qV

q

F

0 ,

0

'

o

MS  

Q

蓄積状態 弱反転状態

(12)

2端子

MOS

構造のエネルギーバンド図

(中(緩やかな)反転開始と強反転開始)

E

C

E

V

E

F

E

i

E

FM

0 M

GB

qV

qV

q

F

q

F

F

I q

q

 2

0 ,

0

'

o

MS  

Q

EC

EV

EF

Ei

E

FM

0 H

GB qV

qV

q

F

0 H

I q

q

中(緩やかな)反転開始 強反転開始

0 ,

0

'

o

MS  

Q

(13)

全体的な解析(ポアソンの式)

・電荷密度電荷密度電荷密度電荷密度

 

A

t t

A

N n

p

p y y

y p n

y n

N y

n y p q y

 

 

 

 

 

 

0 0

0 0

) exp (

) ( ) , exp (

) (

) ( ) ( )

(

  

  

・ポアソンの式ポアソンの式ポアソンの式ポアソンの式

p基板

深さ方向:y

 

 

   

 ( ) (

1 ) (

( )

1 )

0 )

( 2 0

2

t t

y y

s s

e n e

q p y

dy

d

(14)

ポアソンの式の解

となる。

  

アソンの式は、

となる。したがってポ   

 をかけると左辺は、

両辺に     

は、以下の如くになる とするとポアソンの式

   

dy e d

e qN e

dy d dy

d

dy d dy

d dy

d dy d

dy d

e e

qN e dy

d

e N N

n n N

p n N

t t

F t

t t

F t

t F

y y

s A

y y

s A

A A

i A

i A

 

 

   

 

 

 

 

 

 

 

   

) 1 (

2 1 2

2

) 1 (

1 ,

,

) ( 2

) 2 (

2 2

2

) ( 2

) ( 2

2

2 2 0

0

 

 

     

 

 

   

 

 

) 2 (

) 1 (

2 1

0 ,

0 ,

:

) ( 2

) ( 0

) ( 2

) 2 (

t y

t t

y t s

A

y y

s A

t t

F t

t t

F t

e e

qN e

d e

e qN e

dy d

dy y d

y y

 

 

 

       

 

 但し まで積分

となる。

 

 は したがって電界 

) 2 (

) (

) (

) ( 2

) (

t y

t t

y t s

A

s t t

F

t e e

N e y q

dy y d

 

0 :

, 0

:

  

 

  

ここで  

(15)

半導体中の全電荷と容量

となる。

 

 は に対する容量 

また、

 

   

は、以下の如くになる 電荷

単位面積当りの半導体

 

 

 

 

 

) (

2

) 1 (

2 1

) (

2

) 0 ( ,

2 2 '

' '

'

2 '

'

'

t s t

t s t

A s c

s C c

C

t s t

t s t

A s C

s surface

s C

C

t s t

F t

s

t s t

F t

s

t s t

F t

s

e e

e

e e

N e q C

d C dQ

Q

e e

e N

q Q

Q

Q

m

(16)

反転領域(反転層電荷)

となる。

   から

  

となる。ここで、

     

 p基板の場合





  

s t

s A

s I

B I

C

s A s B

t s A s C

F s

t F s

t F s

e N

q Q

Q Q Q

N q Q

e N

q Q

2 '

' ' '

'

2 '

2 2 2 ,

電荷 単位面積当りの空乏層

電荷 単位面積当りの反転層

:

:

' '

B I

Q

Q

Depletion Weak inversion

Moderate inversion

Strong inversion

'

Q

I '

Q

C

F F 2

 s

0

'

Q

B '

2

QC

' 1 '

1 B

C Q

Q

1

s

s2

' 2

QI

' 2

QB

0

Z

電荷(反転層、空乏層及びその和)と表面電位

(17)

反転領域(表面電位とゲート電圧)

 

' ' '

' ' '

' '

' '

' '

) ( )

(

) ( )

(

) ( )

1 (

ox

s B s

I s FB

ox

s B s

I s

ox o MS

MS s

s B s

I o ox GB

C Q V Q

C Q Q

C Q

Q Q

C Q V

 

 

 

 

              

と表面電位 ゲート~基板間電圧

'

0

' '

'

   

B I

o G

MS s

ox GB

Q Q

Q Q

V

     

電圧及び電荷の関係

) (

) (

' '

' '

' '

s B B

s I I

ox ox G

Q Q

Q Q

C Q

F F

FB M

M GB

F s

F F

FB L

L GB

F s

t s s

FB

t s ox

A s s

FB GB

V V

V V

V V

V V

e V

C e N V q

V

t F s

t F s

 

2 2

2

2

0

0 0

0 2

2 '

  

 の場合、

    

 の場合、

ここで、

   

中反転開始電圧 弱反転開始電圧, :

: 0

0 M

L

V

V

'

2

ox A s

C N q

 

(18)

基板効果係数

0.2 1.0

1.E+16 1.E+17 1.E+18 1.E+19

γ (((( V

0.5

)

N

A

(cm

-3

)

20 30 40 60 80 100 150 200 300

)

(

t

ox

(19)

表面電位とゲート基板間電圧及び電荷と表面電位

Depletion Weak

inversion

Moderate inversion

Strong inversion

V

GB '

Q

I

2 

F

 

Z0

s '

Q

B

0

V

L

V

M0

V

H0

'

Q

C

2 

F

F

s

0

(20)

反転領域(反転層電荷とゲート電圧)

GB FB s s

ox

s ox

A s s

FB GB

ox

ox B o

MS s

GB ox

B o

ox ox I

V V

C

C N V q

V C

C Q V Q

C

Q Q

C Q

 

 

 

   

 

 

 

'

' '

' ' '

'

' '

' '

2

        

s A

s B

MS s

ox GB

N q Q

V

'

  2

 Q

Q

Depletion Weak inversion

Moderate inversion

Strong inversion

VFB VL0 VM0VT0 VH0 VGB

'

QI

SlopeCox'

(21)

強反転領域と強反転領域の電荷

 

 

である。

  

となる。ここで     

  

この場合の反転層電荷

       

実効的に一定

は、

強反転領域の表面電位

0 0

0

0 '

0 0

' '

0 0

2

FB T

T GB ox

FB GB

ox I

F s

V V

V V

C

V V

C Q

 

 

 

s F

t

F t s F t

s

F

F t s

N e Q q

e e

e N

q Q

t s

A s I

s s

s t

s

s t

s

s t

s A

s I

 

 

/ 2 /

2 /

2

/ 2

2 ' 2

1 2 2

2 '

 

 

 

 

 

  

  

したがって、

   

 となるため

とおくと、

であるから、

弱反転領域では、

  

反転領域の電荷は

V

: 外挿しきい値電圧

(22)

弱反転領域(反転電荷と表面電位)

 

 

 

s F

t

F t s F t

s

F

F t s

N e Q q

e e

e N

q Q

t s

A s I

s s

s t

s

s t

s

s t

s A

s I

 

 

/ 2 /

2 /

2

/ 2

2 ' 2

1 2 2

2 '

 

 

 

 

 

  

  

したがって、

   

 となるため

とおくと、

であるから、

弱反転領域では、

  

反転領域の電荷は

(23)

弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:1)

 

 

となる。

  

の関数になり、

となる。したがって、

  

を解くと として、上式から

となる。

         

  

であるから 弱反転領域では、

t F GB sa

t F s F

V t

GB sa

A s I

GB sa

FB GB

sa

sa sa

s

s s

FB

t s s

FB GB

s

V e N Q q

V V V

V

e V

V

 

 

/ 2 ) ( 2 2

/ 2

) ( 2

' 2

4 2

2

 

 

    

 

である。

 (一定)

     

となる。ここで、

  

とすると、

ここで、

0 2

1

/ 2 ) (

2 1 2

|

1 2 2 2 ' 2

2 )

(

n n

dV n d

N e Q q

V

F GB sa

sa

V t

F A s I

F GB

sa

F sa

t F GB sa

 

 

 

 

(24)

弱反転領域(反転電荷とゲート電圧:2)

 

となる。

   (

    

となる。

  

したがって、

t F

A s M

n V V M

n V V t F

A s I

I

M GB F

sa

N Q q

e Q

N e Q q

Q

V n V

t M

GB

t M

GB

 

 

2 2

2

2 2 ' 2

' 2 1

' 0

/ '

0

/ 0 0

0 0

0 0

) ( GB

sa V

0

VM 0

VL

F

2

F

s 0

Slpoe 1

n

M

VGB

(25)

反転層電荷とゲート~基板間電圧

t F s

t F s

e V

V

e N

q Q

t s s

FB GB

s t

s A

s I

2 2

' 2





    

 

t M

GB V n

V M

I

Q e

Q

'

' 0 0 / 0

0

' '

T GB ox

I

C V V

Q   

(a)

(b)

(c)

Weak Moderate Strong

V

GB

ln

Q

I'

) (a )

(b

) (c

0

V

H 0

V

T 0

V

M

(26)

小信号容量(ゲート~基板間)

s C C

ox G ox

c ox

s C ox

G

G s G

ox G

GB gb

GB G gb

d C dQ

d C dQ

C C

d dQ d

dQ

dQ d dQ

d dQ

dV C

dV C dQ

' '

' '

' '

' '

' '

' '

' '

, 1 1

1 1

1

  ここで、

               

になる。

とすると、以下の如く   

単位面積当り)

ゲート~基板間容量(

VGB

Cgb

QG

QG

QC

QC

CC Cox

CC

s

 VGB

s

ox

s ox

V

GB

     

' '

G

C

Q

Q   

QG

QC

(27)

半導体中の全電荷による小信号容量

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

t F s t

F s

t s t

F t

s

t s t

F t

s

e N e

q C

e e

e

e e

N e q C

d C dQ

t s

A s c

t s

t s t

t s t

A s c

s C c

2 2 '

2 2 '

' '

2 2 1

3

) (

2

) 1 (

2 1

  

の場合   

の具体的な式

参照

関連したドキュメント

BS/110度CS IF入力端子

$R\epsilon conn\epsilon\iota ti0n$ and the road to $turbul\epsilon nce---30$. National $G\epsilon nt\epsilon

Further using the Hamiltonian formalism for P II –P IV , it is shown that these special polynomials, which are defined by second order bilinear differential-difference equations,

(出所:総務省 統一的な基準による地方公会計マニュアルに一部追記 平成 27

(154kV群馬幹線(金井~群馬)ノンファーム型接続対象エリア25/34 ノンファーム型接続対象エリア 〇群馬県: 沼田市、高崎市、渋川市、 利根郡

つまり、p 型の語が p 型の語を修飾するという関係になっている。しかし、p 型の語同士の Merge

疎開先所在地 勢多郡大胡町 群馬郡総社村 群馬郡総社村 勢多郡黒保根村 勢多郡富士見村 群馬郡古巻村 群馬郡古巻村 勢多郡北橘村

出力 ERRF 端子「DIRERRP=0」 MUTEB 端子「DIRMUTP=0」 NPCMF 端子「DIRPCMP=0」. L PLL ロックエラー解除 出力データミュート処理