JAIST Repository: 加圧ゾル-ゲル処理によるシリカライト膜の結晶粒界制御
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(2) 加圧ゾル-ゲル処理によるシリカライト膜の結晶粒界制御 林 明史. (佐野研究室). 1. 緒言 ゼオライトの耐熱性、耐薬品性及び分子ふるい作用に着目してゼオライトを分離膜素材に応用し ようとする研究が盛んに行われている。当研究室においても、既にシリカライト膜がアルコール/ 水系及び酢酸/水系の浸透気化分離において高い有機物選択透過性を示すことを見い出した。しか し、膜が多結晶体であるため分離は主に結晶粒界を通じて起こっていると考えられる。本研究で は、図 1 に示すようなイメージでシリカライト膜の結晶粒界にゲルを加圧導入することによるシ リカライト膜の結晶粒界制御の可能性について検討した。 2. 実験 シリカライト膜は水性ゲル混合溶液( SiO2・0.05Na2 O・0.05TPA2 O・80H2 O )をオートクレー ブ中に仕込み、ステンレススチール製多孔質基板 (直径 5cm, 平均細孔径 5 μ m )存在下無撹拌で 170 ℃、48 時間水熱処理することにより調製した。得られた膜はテンプレート剤除去のため 400. Figure 1 Schematic diagram of pressurized sol-gel coating. Table 1 Pervaporation separation of ethanol/water mixture using silicalite membrarane before and after pressurized sol-gel coating. Membrane No.. Coating solution. Flux (kg/m2h). EtOH conc. in permeate (vol%). 1 1. Synthesis mixture. 0.828 0.509. 61.2 45.7. 2 2. Sol-gel solution. 0.621 0.423. 65.4 48.0. a) Feed ethanol concentration: 5vol% , feed temperature: 30°C b) 0.1TPABr - SiO2 - 0.05Na2O - 80H2O c) 0.4NH3(aq.)- TEOS - 0.8H2O - 30EtOH 2.5. 70. 2. 65 60. 1.5. 55. 1. 50 0.5. 45 40. Flux (kg/m2h). EtOH concentration in permeate (vol%). 75. 0 20. 30. 40. 50. 60. Feed temperature (°C) Figure 2 Pervaporation performance of before( , ) and after ( , ) pressurized sol-gel treatment followed by water vapor treatment.. keywords. ℃で 20 時間焼成した。加圧ゾル-ゲル処理 は、種々のゲル溶液を加圧浸透させることに より行った。加圧ゾル-ゲル処理前後のシリ カライト膜の分離特性は、浸透気化法により 評価した。 3. 結果及び考察 加圧ゾル-ゲル処理にはシリカライト膜調 製のための水性ゲル混合溶液及びゾル-ゲル 溶液 (0.4NH3 -TEOS-0.8H2 O-30EtOH) を用 いた。表 1 に加圧ゾル-ゲル処理前後のシリ カライト膜の浸透気化分離特性を示す。透過 流束及び透過溶液中のエタノール濃度は共 に加圧ゾル-ゲル処理により減少した。次に、 加圧ゾル-ゲル処理後のシリカライト膜のス チーム処理( 170 ℃,48 時間)を行った。この ときのシリカライト膜の浸透気化分離特性の 変化を図 2 に示す。透過流束は減少したが、 透過溶液中のエタノール濃度は増大した。加 圧ゾル-ゲル・スチーム処理後のシリカライ ト膜表面の SEM 像観察から、膜表面にはゲ ルから生成したと思われるシリカライト微結 晶が存在していることが明らかとなった。こ のことは、加圧ゾル-ゲル処理によりシリカ ライト膜内に導入したゲルを結晶化させるこ とにより、シリカライト膜の浸透気化分離特 性が向上することを示している。なお、水性 ゲル混合溶液中の平均ゲル粒径が 12nm と、 シリカライト膜の結晶粒界の大きさ約 1nm より非常に大きいことを考慮すれば、粒界入 口近傍に生成したこのシリカライト微結晶に より結晶粒界の制御が起こっているものと考 えられる。. シリカライト膜、浸透気化法、結晶粒界、加圧ゾル-ゲル処理. Copyright c 1998 by Akifumi Hayashi.
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