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線状ガス炎によるpoly-Si TFT策性用急速高温アニ ール装置の試作

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Academic year: 2022

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線状ガス炎によるpoly‑Si TFT策性用急速高温アニ ール装置の試作

著者 鈴木 正国

著者別表示 Suzuki Masakuni

雑誌名 平成8(1996)年度 科学研究費補助金 試験研究(B)  研究概要

巻 1995   1996

ページ 2p.

発行年 2016‑04‑21

URL http://doi.org/10.24517/00066238

Creative Commons : 表示 ‑ 非営利 ‑ 改変禁止 http://creativecommons.org/licenses/by‑nc‑nd/3.0/deed.ja

(2)

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線状ガス炎によるpoly-Si TFT策性⽤急速⾼温アニール装置の試作

Research Project

Project/Area Number

07555413

Research Category

Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research (B)

Allocation Type

Single-year Grants

Research Field

Electronic materials/Electric materials

Research Institution

Kanazawa University

Principal Investigator

鈴⽊ 正国 ⾦沢⼤学, ⼯学部, 教授 (40019732)

Co-Investigator(Kenkyū-buntansha)

正⽊ 裕⼀ ⾦沢⼤学, ⼯学部, 助⼿ (60262549) 北川 章夫 ⾦沢⼤学, ⼯学部, 講師 (10214785)

Project Period (FY)

1995 – 1996

Project Status

Completed (Fiscal Year 1995)

Keywords

poly-Si / ガス炎アニール / TFT / ラテラルアニール / Secondary Grain Growth / grain boundary

Research Abstract

線状ガス炎による⾼温アニールは、poly-Siの電気的特性の改善に⽬覚しい効果をもたらすことが確認された。改善の原因は、⾼温アニールによってSecondary Grain Growth(S.G.G)が起こり結晶粒中の⽋陥密度が減少すること、および各種の⽋陥の巣窟である結晶粒界が縮⼩することによるものであると結論される。即 ち、TED,TEM測定から顕著なS.G.Gが観測され、ESR測定によりスピン密度が⼤幅に減少するので、グレインの結晶性の改善と結晶粒界の縮⼩とが予測されるわけ

All

Search Research Projects   How to Use

(3)

Published: 1997-02-25 Modified: 2016-04-21

Report

(1 results)

1995

Annual Research Report

Research Products

(6 results)

All Other All Publications (6 results)

URL: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-07555413/

である。

各種濃度の不純物がドープされたpoly-Siについても線状ガス炎⾼温アニールの効果を調べたところ、non-dopeの試料に⽐べより顕著なS.G.G.が起こることが観測 された。そこで、van der Paw法によりHall移動度を求めたところ燐をドープした試料で70cm/V・sを超す値が得られた。

以上述べたように、線状ガス炎⾼温アニールはpoly-Siの⾼品質化に⾮常に有効であることが⽴証されたが、現状では試料をガス炎中を通過させる際に試料の温度 が次第に上昇するという⽋点がある。従って、熱処理した試料の均⼀性に問題がある。現在、この点について改良を進めており、まもなく解決の⾒通しが得られて いる。初年度としては、予想以上の成果が得られたと考えられる。

[Publications] Masaki,Y.他: "Effects of gas flame annealing on the structure of poly-Si films." J. Appl, Phys.78. 1459-1464 (1995) 

[Publications] Qu,W.F.,Kitagawa,A..他: "Impurity Activation in Poly-Si films by Rapid Thermal Annealing using Flat Gas Flames." Proc.of 3rd Intern.

Rapid Therm. Processing Conf.307-311 (1995) 

[Publications] Suzuki,M.他: "Model for the Glass Transition in Amorphus Solids Based on the Fragmentation." Phys. Rev. B. 53(掲載予定). 3124-3131

(1996) 

[Publications] Masaki,Y.他: "On the Viscoity Change in Strong and Fragile Glasses." Thermochimica Acta. 2659(掲載決定). (1996) 

[Publications] Qu.W.F.,Suzuki,M.他: "Effects of high temperature rapid thermal annealing using flat gas flames on electrical properties of phosphorus

doped polycrystalline silicon films." J. Appl. Phys.(掲載決定). (1996) 

[Publications] Nakayama,K.,Suzuki,M.他: "Phase Transition in Non-crystalline Solids View from Heating Rate Dependence." Mat. Res. Soc. Symp.

Proc.398(掲載決定). (1996) 

参照

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