第
125 回講演大会（東京都市大学）講演募集
講演申込締切：平成
23 年 12 月 2 日(金) [必着]
主 催 (一社)表面技術協会 会 期 平成 24 年 3 月 13 日(火)～14 日(水) 会 場 東京都市大学 世田谷キャンパス（世田谷区玉堤 1-28-1） 交通：東急大井町線「尾山台」駅下車，徒歩12 分 http://www.tcu.ac.jp/access/index.html 講演申込締切 平成 23 年 12 月 2 日(金)[必着] 本会web サイトに登載(11 月 1 日予定)するファイルをご利用ください。 講演要旨締切 平成 24 年 2 月 3 日(金)[必着] 1．講演申込要領 (1) 発表形式 一般講演，シンポジウム，テクノプレゼンテーションおよびポスターセッションのいずれかを 選んでください。 ◆一般講演，シンポジウム，テクノプレゼンテーション 発表10 分，討論 5 分，発表時の使用機器は「液晶プロジェクター」といたします。講演者は ノート型パーソナルコンピュータをご持参ください。 ◆ポスターセッション ポスター展示・討論3 時間といたします。なお，5 分間の概要発表は行いません。 (2) 講演種別 学術講演(学術的視点に立つ発表)，または技術講演(技術的視点に立つもので，新しい結果を含 んでいれば断片的な発表でもよい。)のいずれかを選んでください。 (3) 講演分野 8．に示す分類をご参照のうえ，最も適切と思われる分野，または 6.および 7.に記載のシンポ ジウム・テクノプレゼンテーションを選んでください。 (4) 発表資格 申込者，登壇者は会員(団体正会員に所属の個人を含む)に限りますので，事前に入会手続きを 完了してください。これ以外の共同発表者は非会員でも差し支えありません。 2．講演申込方法 本会 web サイトに登載(11 月 1 日予定)いたします「講演申込」ファイルに記載の手順にしたが い，締切日までに到着するようお送りください。 3．講演要旨原稿 学術委員会の審査で講演が認められたのち，講演申込者宛に電子メールにて，「講演要旨の書き方」， 「講演要旨の送付方法」につきましてご連絡いたします(12 月 20 日予定)。 なお，講演要旨は市販のA4 版用紙をご使用ください。4．著作権 講演要旨集に掲載されたすべての内容の著作権は，たとえ当該講演がキャンセルされた場合であ っても，本会に帰属するものとします。 5．大会参加登録 登壇者も含めて全ての参加者には参加登録が義務づけられています。平成24 年 2 号に掲載予定 の会告に従い，事前登録されることをお勧めいたします。 6．シンポジウム講演募集テーマ S1 表面解析・評価技術の新展開 企画：学術委員会 (趣旨) 最近の表面解析・評価技術の進歩にはめざましいものがある。その結果，従来不可能であ った表面や界面の構造，組成，特性などの評価が可能となってきている。本シンポジウムでは， 表面解析・評価技術に関する発表および表面技術分野に応用した研究成果を発表していただくこ とにより，表面解析・評価技術の活用を考える契機になることを期待している。 S2 表面加工技術の最先端－機能性の発現と制御 企画：ナノテク部会 (趣旨) 高機能性の表面処理や被膜形成においては，近年，ますますその機能性の集積化と加工の 簡便性，低コスト性への要求が高くなっている。本シンポジウムでは，機能性表面の加工法に焦 点を当て，その加工法の詳細と，特に表面の微細構造や形状などに与える影響の視点からメカニ ズムに関する議論を行いたい。 S3 エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナノ表面技術の新展開 企画：表協エレクトロニクス部会 (趣旨) 当部会では春季講演大会時にシンポジウム「エレクトロニクス分野におけるマイクロ・ナ ノ表面技術の新展開」を継続的に開催し，進展著しいエレクトロニクス実装および関連分野にお ける表面技術の最新情報を提供している。今回のシンポジムにおいても，最新の情報を提供する とともに，一般講演および技術講演によって，当該分野の新しい展開を概観したい。 S4 めっき技術の将来展開 企画：将来めっき技術検討部会 (趣旨) 現在，日本の産業界は衰退の危機にあります。5-10 年先の「ものづくり」を考えていく ためには，めっき技術の学術および応用両面からの検討が重要であると考えている。本シンポジ ウムでは，「将来のめっき技術」に関する萌芽的および学術的な研究とともに，様々な分野で試み られている応用例－ナノ粒子や自動車，医療，さらにそれを支えるエレクトロニクス分野からの 発表により，「将来のめっき技術」について検討したい。 S5 アノード酸化による表面の機能化 企画：金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ARS） (趣旨) 古くて新しいアノード酸化処理は，金属および半導体の表面処理技術として長い歴史を持 つが，新規な表面特性の創製技術として近年ますます注目されている。本シンポジウムでは，ア ノード酸化技術による表面の機能化の新しい展開と可能性について検討したい。
7．テクノプレゼンテーション講演募集テーマ T1 環境負荷低減を目指すアルミニウム製品への粉体塗装 企画：ライトメタル表面技術部会 (趣旨) 日本において，アルミニウム製品への塗装は，諸外国に比べ何故進まないのだろうか。今 後とも持続的な発展をし続けるためには，VOC，クロメート，CO2排出および省エネルギーなど の環境負荷低減をもっと考慮しなければならない。本テクノプレゼンテーションでは，環境対応 を配慮した“アルミニウム製品への塗装・粉体塗装”をテーマに，現場実務に密着した会員諸氏 の多様なニーズに応えるための最新情報を提供するとともに，広範な軽金属製品塗装分野からの 技術講演によって，アルミニウム製品への粉体塗装の活性化と拡大を図りたいと考えている。 8．講演分野の分類 A．表面の物理的被覆に関わる分野 A11. 物理蒸着(PVD) A12. 溶射 A13. 溶融めっき A14. 吸着 A15. 塗布・塗装 A16. 泳動電着(電着塗装→A15) A17. ライニング A21. イオン注入 A22. 拡散被覆 A30. その他(新技術を含む) B．表面の化学的被覆に関わる分野 B11. 化学蒸着(CVD) B12. 電気めっき・電鋳 B13. 無電解めっき B14. アノード析出 B15. 熱分解・ゾル-ゲル法 B21. 熱処理(酸化・窒化・炭化) B22. アノード酸化 B23. 化成処理 B30. その他(新技術を含む) C．表面からの物質除去に関わる分野 C 1. 機械研磨・研削 C 2. 化学研磨・電解研磨 C 3. 化学エッチング・電解エッチング C 4. 気相エッチング C 5. 電解加工
C 6. 洗浄 C 7. その他(新技術を含む) D．表面処理の実務に関わる分野 D 1. プロセス管理(省力・省エネルギー) D 2. 検査・品質管理 D 3. 作業環境対策 D 4. 廃ガス・廃水・廃棄物対策 D 5. 資源リサイクル対策 D 6. 工場設備・機器・部品 D 7. その他 E．表面技術に関連する諸分野 E 1. 表面解析・表面分析 E 2. 表面物性 E 3. 表面機能応用(触媒，センサーなど) E 4. 電析応用(金属微粉・電池など) E 5. 腐食・防食 E 6. 微細加工プロセス(半導体など) E 7. その他 9．第 18 回学術奨励講演賞 若手会員の表面技術に関する研究を奨励する目的で「学術奨励講演賞」を設けております。本 賞は，春季講演大会の講演申込みとともに応募していただいた方から，選考により若手研究者(5 名以内)に授与するものです。対象および資格など，詳細につきましては，本ファイルの6 ページ をご参照ください。 参考：過去の授賞者 第12 回(第 113 回講演大会) 柴崎 健(東洋大学大学院工学研究科) 稗田 純子(名古屋大学大学院工学研究科) 川村 洋介(京都大学大学院エネルギー科学研究科) 金子 信悟(神奈川大学大学院工学研究科) 岩澤 健太(茨城大学大学院理工学研究科) 第13 回(第 115 回講演大会) 島津 徳文(名古屋大学大学院工学研究科) 西垣 拓(名古屋大学大学院工学研究科) 濱口 純一(工学院大学大学院工学研究科) 石井 大佑((独)理化学研究所) 番場 陽介(神奈川大学大学院工学研究科) 第14 回(第 117 回講演大会) 新井 房雄(工学院大学工学部)
島田 和季(近畿大学理工学部) 鈴木 清香(信州大学工学部) 野瀬 健二(東京大学生産技術研究所) 藤川 理大(名古屋大学大学院工学研究科) 第15 回(第 119 回講演大会) 山近 紀行(早稲田大学先進理工学部) 青木 聡享(東洋大学大学院工学研究科) 井上 昌利(千葉工業大学大学院工学研究科) 佐々木扶紗子(日本工業大学工学部) 森 晶子(信州大学工学部) 第16 回(第 121 回講演大会) 鈴木 久雄(名古屋大学大学院工学研究科) 髙井 学(千葉工業大学大学院工学研究科) 吉本 芳美(兵庫県立大学大学院物質理学研究科) 野口 陽平(名古屋大学大学院工学研究科) 鎌田 智之(千葉工業大学大学院工学研究科) 第17 回(第 123 回講演大会) 授賞者 なし 10．注意事項 (1)プログラムは，「講演申込」ファイルによって編成いたしますので，申込後の変更・追加は認 めません。また，学術講演および技術講演から関連するシンポジウムでご講演いただくことが あります。 (2)原則として，講演題目，研究者氏名の変更は認めません。 (3)講演の取り消しは，大会運営上，種々の支障をきたしますので，申込の際には十分留意してく ださい。
