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明細書 発明の名称 : フルオロ硫酸エステル類の製造方法 技術分野 000 本発明は 医農薬中間体として重要なフルォロ硫酸ェステル類の製造方法に関する 発明の背景 000 フルォロ硫酸ェステル類は 医農薬中間体として重要である 本発明に関 連する製造技術として フルォロ硫酸無水物 S ) を用いる方

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Academic year: 2021

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(1)

(12) 特許協力条約に基

て公開さ

た国際出

願 (19)世界 知的所有 権機関

国際

事務局 (10)国際公開番号 (43)国際公開日 2010 年 4月29 日(29.04.2010)

WO 2010/047266 A l

(51) 国際特 許 分類 (81) 定国 (表示のな 限り、全ての種の国 内保 C07C 303/28(2006.01) C07D207/416(2006.01) 護 ft) :AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA,

C07C 305/26(2006.01) C Z 53/00(2006.01) BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, Cの, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, Dの, DZ, EC, EE, EG, ES,FI,

(21) 国際 出願 番 号 PCT/JP2009/067841

GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID,IL,IN, IS, (22) 国際 出願日 2009 年10月 15 日(15.10.2009) KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, L・R, LS, LT,LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, (25) 国際 出願の言語 日本 語 MY, MZ, NA, NG, NI, N, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, (26) 国際公開の言語 日本 語 PT,Rの, RS, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY,TJ,TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, (30) 優先権データ ZA, ZM, ZW. 特願2008-272020 2008 年10 月22 日(22.10.2008) JP 特願2008-322984 2008 年12 月18日(18.12.2008) JP (84) 指定国(表示のな1 限 り、全ての種の広 護 ft) :ARIPO (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, (71) 出願人 (米国を除<全ての指定国につ1) :セ NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW), --Lーラシア ン トル 硝子株 式 会 社(CENTRAL GLASS COM¬ (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU,TJ,TM), ロ ツ

PANY, LIMITED) [JP/JP]; 〒7550001 山口県宇部市 (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES,FI,FR, GB,

大宇 沖 宇 部5 2 5 3番地 Yamaguchi (JP). GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, SE, SI, SK, SM, TR), OAPI (BF, BJ,

(72) 発明者 および CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN,

(75) 発明者/出願人

国につ1 てのみ) :石 井 章央 TD, TG).

(ISHII, Akihiro). 安木 学(YASUMOTO, Manabu).

添付公開書類

(74) 理人:橋 本 剛,外(HASHIMOTO,Takhi et

a ) ; T 1040044 東 京 都 中 央 区 明 石 町 12 9 号 国際調 査 報告 条約第2 1条 (3)) 腋済会 ビ ル S H I G A 内 外国 特許 事務所内

Tokyo (JP).

(54) Title:METHOD FOR PRODUCING FLUOROSULFURIC ACID ESTER (54) 発明の名 称 :フル オロ硫酸 エ ス テル類の製造方法

(57) Abstract: A uorosulfuric acid ester can be produced by reacting an alcohol with sulfuryl uoride(SO2F2)in the presence of a base and water. A s a raw material, an optically active secondary alcohol is preferable, and an optically active α-hydroxyester and an optically active 4-hydroxyproline are particularly preferable. By performing the reaction in a two-phase system in the pres ence of a reaction solvent which is not miscible with water, a desired reaction proceeds particularly well. The production method solves all the problems involved in conventional methods, while being commercially practicable.

(57) 要 約 アルコール類を塩 基 と水の存 在下にスル フリル フル オ ( S O F ) と反 応さる ことによ りフル オロ硫酸 エ ス テル類を製造する ことが できる 。原料 基 質 としては、光学活性 級アルコー ル類 が好 まし 、光学活

α

一ヒドロキシエ ステル類および光学活性A - ヒドロキシフロ リン類が特に好まし

。 さらに水と混和しな 反応溶媒の存 在下に 相系で反 応を行 ことにより所望の反応が特に良好

(2)

名称

:

フルオ

硫 酸 エ ス テ

造 方 法

分野

000 本発

医農 薬中

体 と して重要なフル

ロ硫 酸

ステル類

製造方法 に

る。

000 フル

ロ硫 酸

ステル類は

医農 薬中

体 と して重要である。本発

る製造技 術 と して

フル

ロ硫 酸 無 水物

S

) を用

る方法 (特許 文献 「)

や、

アルコ

ル類

N

ジ アルキルスル フ

ン酸

ステルま

はイミ

硫 酸

法 (許 文

2

非特許 文献 「) が 開示さ

る。 0003 木

願人は

スル フリル フル

リ ド (

S

) と有塩 基

わせ

に よるアルコ

ル類

脱 ヒ ドロキシフ

素化反 応を開示して

る (特許 文献

3

) o

先行

術 文

000 特許 文献 : スペ イ ン

特許 公報第

2

3

6

8

号 特許 文献 : 特 表

2

00

2

9 9 9

号公報 特許 文献3 : 特開

2 006

9 08 7 0

号公報 特許 文献 : 特開

2

00

8

7

7

号公報

000 非特許 文献 :

T

e

a

h

e

d

e

e

(英

) , 「

9

9 6

年,第

3

7

巻,

7

000

明の 目的

フルオロ硫 酸 エステル類

実用

な製 造方法を提 供

る ことにある。そ

のた

には

従 来 技 術

問題 点を解決

る必要 がある。 000 許 文献 「に対 しては

大量規 模 で

が困難で非常に

価なフルオ口

(3)

硫 酸 無 水物を用

る必要 がある。ま

た、

木反 応剤は

2

つの

フルオロスル ホニ ル (

S

) 基を有

るが

、 目的

生成 物に導 入さ

はこ

だ け であり

コノ ミ

ーの

観 点

ら もま し

0008 許 文

2

許 文 「に対 しては

反 応性中

体を経由

な製 造方法であり

操 作

に伴

廃棄物

増加が問題である 000 許 文

3

よび に対 しては

活性中

体 と して フルオロ硫 酸 エステル 類が生成 して

るが

反 応 系内に副生 し

素アニオン (

)

の置

換反 応が極

て速

いた

フルオロ硫 酸 エステル類を選択

に製造

ることがで きな

か った

(スキ

ム 「を参照) 。原料基質

の立

子的

効果を利用して

き続 く

可能 で あ

場 合には質 適 応

製造方法とは言えな

。 00 0 スキ ーム

円 州 ル

速い 。

・F ナ

t N H F 肘こ ィヒ) 7 7 素化物 攻類 塩基として ェチ ァ ・反 応溶媒として丸冴 ル を用いた場 合 00 こ

様に

大量規 模 で

が 容易 でア トムエコノ ミ

ーの高

な反 応 剤 を用

ることができ

合成

法 が直接

で (操 作が簡便 で廃棄物

少な

)

さ ら基質 適 応範

い、

実用

な製 造方法 が 強く

いた

00

課 題ま えて鋭意検討 し

結 果

アルコ

ル類を 塩 基 と水

存在 下にスル フリル フルオ リ ドと反 応さ

ることによ り

フルオ ロ硫 酸 エステル類が製造できることを見

。さ らに水 と混和しな

反 応 溶媒

存在 下に

2

相系で反 応を行う

反 応良 好に進

ることも

にし

。ま

た、

原料基質 と しては

光学活性

2

級アルコ

(4)

ル類が好ま しく

シ エ

び光学 ヒ ドロキシ プロリン類が特に好ま しく

性 フルオ硫 酸 エ テル類は医農 薬中

体 と して非常に重要である。 003

明の

製造 条件は

特許 文献

3

よび で開示し

脱ヒ ドロキシフ

素 化反 応

類 似

るが

存在 下 で反 応を行う

て フルオ ロ硫 酸 エステル類 とフ

素化物

生成比が大 きく

を見

本発

明の

好適な原料基質である光学活性ひ一ヒ ドロキシ エステル類を用

いた

生成比

比較を表 一 「に示

非存在 下 では フ

素化物 が

存在 下 では フルオロ硫 酸 エステル類がそ

選択

に得ら

る。反 応 系内 に副生 し

素アニオンが水

存在によ り

5

き続

でき

( フ

素アニオン

求核性

低下

水層

への

固定化等によ り)

結 果 と して中

体であるフルオロ硫 酸 エステル類が選択

に得ら

と 考えら

る。 00

(5)

表 。 採 里 ㏄ 丈 。 亜 軽 代 並 難 京 旨 齢 穫 口

去 め 。 匡 撞 腓 ぎ ゴ 匡 樟 丹 こ

様に

フルオロ硫 酸 エステル類

製造方法として極

て有用な方法を 見

本発

に到達 し

(6)

00

わち、

本発

は 発

ら 発

8

を含

フルオロ硫 酸 エス テル類

実用

な製 造方法を提 供

る。 00 発

般式 「 化 で示さ

るアルコ

ル類を塩 基 と水

存在 下にスル フリル フルオ リ ド (

S

) と反 応さ

ることにより

、一

2

化 3 で示さ

るフルオロ硫 酸 エステル類を製造

る方法。 008 式中

R

R 2

よび R 3はそ

に水素原

アルキル基

、置

換 アル キル基

アルケニル基

、置

換 アルケニル基

アルキニル基

、置

換 アルキニル 基

芳 香 環 基

、置

換芳 香 環 基

アルキル力

、置

換 アルキル力 ニル基

アリ

ル力ルボニル基

、置

換 ア リ

ル力ルボニル基

アルコキシカ ルボニル基

、置

換 アルコキシカルボニル基

アミ ノ

キル アミ ノカルボニル基

、置

換 アルキルアミ ノカルボニル基

アリ

ルアミ ノカ ルボニル基

、置

換 ア リ

ルアミ ノカルボニル基ま

はシ アノ基を表

R

R 2

よび R 3

3

つの置

換 基

水素原

を採る

換 基 とシ アノ

換 基

総 数が ま

は「

場 合は

2

つの置

換 基

炭素原

はへテ ロ原

を介

る共 有 結 合により構 造もできる。 00

(7)

「に

おい

さ らに水 と混和しな

反 応 溶 媒

存在 下に

2

相系で反 応を 行う特 徴 と

フルオ硫 酸 エ

00 0

3

般式

3

O H

で示さ

る光学活性アルコ

ル類を塩 基 と水

存在 下にスル フリル フルオ リ ド (

S

) と反 応さ

ることにより

、一

般式 化 。

で示さ

る光学活性 フルオロ硫 酸 エステル類を製造

る方法。 00 式中

R 4

よび R 5はそ

にアルキル基

、置

換 アルキル基

アルキ ル力ルボニル基

、置

換 アルキル力ルボニル基

アリ

ル力ルボニル基

、置

換 アリ

ル力ルボニル基

アルコキシカルボニル基

、置

換 アルコキシカルボニ ル基

アミノカルボニル基

アルキルアミノカルボニル基

、置

換 アルキルア ミノカルボニル基

アリ

ルアミノカルボニル基

、置

換 ア リ

ルアミノカル ボニル基ま

はシ アノ基を表 し

R 4とR 5は同

一の置

換 基を採 らな

。R 4ま

は R 5がシ アノ基を採 らな

場 合は

2

つの置

換 基

炭素原

はへテ ロ原

を介

る共 有 結 合によ り構 造もできる。 は不 斉炭素 を表 し

反 応を通 して不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

る。 00 発

3

おい

さ らに水 と混和しな

反 応 溶 媒

存在 下に

2

相系で反 応を

(8)

行う特 徴 と

3

性 フルオ硫 酸 エ

製造方法。 003

般式 化

O H

R

で示さ

る光学活性アルコ

ル類を塩 基 と水

存在 下にスル フリル フルオ リ ド (

s

) と反 応さ

ることに

、一

般式

6

で示さ

る光学活性 フルオロ硫 酸 エステル類を製造

る方法。 00

R

R

はそ

にアルキル基ま

換 アルキル基を表

R

R

炭素原

はへテロ原

を介

る共 有 結 合に

り 環状構 造を採ることもる。 は不 斉炭素を表 し

反 応を通 して不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

00

6

さ らに水 と混和しな

反 応 溶 媒

存在 下に

2

相系で反 応を 行う特 徴 と

性 フルオ硫 酸 エ

製造方法。 00

7

般式

(9)

で示さ

る光学活性 ヒ ドロキシ プロリン類を塩 基 と水

存在 下にスル フ リル フルオ リ ド (

S

) と反 応さ

ることにより

、一

般式 「

a

化 で示さ

る光学活性 フルオロ硫 酸 エステル類を製造

る方法。 00 式中

R 8は

2

級アミ ノ

護 基

R gルボキ

護 基

2

つの

はそ

不 斉炭素を表 し

R

休ま

s

体 を採ることができ

反 応を通 して

2

つの

不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

る。 008

7

おい

さ らに水 と混和しな

反 応 溶 媒

存在 下に

2

相系で反 応を 行う特 徴 と

7

性 フルオ硫 酸 エ

製造方法。

細 な説

00

従 来 技 術

て有利な 点を以下に述

る。 00 0

で用

るスル フリル フルオ リ ドは

煙蒸剤として広く

規 模 で

が 容易 でノ ミ

ーの高

な反 応剤 で あ 。ま

た、

合成

法 が直接

操 作が簡便 で廃棄物も

。 さ ら

き続 く

制御 が

造 条

(10)

よる

適 応できる基質範

が格段に広

。 003

た、

では分離

難 し

不純物を殆 ど副生 しな

いた

、 目的

生成 物 を

化学純度で得 ることができる。 さ らに

反 応を通 して不 斉炭素

の立

体 化学 が保持さ

光学純度

の高

アルコ

ル類を用

ることによ り ルオロ硫 酸 エステル類を

光学純度で得 ることができる。 003 こ

様に

本発

は従 来 技 術

問題 点を全て解決 し

エ業

にも施可能 な製 造方法である。 0033

明の

フルオロ硫 酸 エステル類

製造方法に

つい

て詳細に説

る。 003

、一

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類を塩 基 と水

存在 下にス ル フリル フルオ リ ドと反 応さ

ることによ り

、一

2

で示

フル オロ硫 酸 エステル類を製造

る方法である。 003

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類

R

R 2

よび R 3は

に水素原

アルキル基

、置

換 アルキル基

アルケニル基

、置

換 アルケニル 基

アルキニル基

、置

換 アルキニル基

芳 香 環 基

、置

換芳 香 環 基

アルキル 力ルボニル基

、置

換 アルキル力ルボニル基

アリ

ル力ルボニル基

、置

換 ア リ

ル力ルボニル基

アルコキシカルボニル基

、置

換 アルコキシカルボニル 基

アミノルボ

ルキルミノルボ

、置

換 アルキルミ ノルボ

ミノルボ

、置

換 ア

ミノルボ ニル基ま

はシ アノ

中で

3

つの置

換 基

は水素 原

残 る

2

は同

一の置

換 基を採 ら

ず、

にアルキル基

、置

換 アルキル基

アルキル力ルボニル基

、置

換 アルキル力ルボニル基

アリ

ル力ルボニル基

、置

換 ア リ

ル力ルボニル基

アルコキシカルボニル基

、置

換 アルコキシカルボニル基

アミノカルボニル基

アルキルアミノカルボニ ル基

、置

換 アルキルアミノカルボニル基

アリ

ルアミノカルボニル基

、置

換 ア リ

ルアミノルボ

シ アな化 合物 が ま しく

3

つの置

換 基

さ ら

ルボニル基ま

換 アルコキシカルボニル基で

残 る 「

はアルキル基ま

換 アルキル基を採る光学活性な化 合物

、お

よび

2

級アミノ基 とルボ

(11)

キシル基が保護 基で保護さ

光学活性 ヒ ドロキシ プロリン類が特に好 ま し

。 003 ルキル基は

炭素数が 「

ら「

8

直鎖 ま

は枝分

鎖 式

は 環式 (炭素数が

3

以上

場 合) を採ることができる。木

細書に

けるアル ケニル基は

、前

アルキル基

任意

隣 り

2

つの

子の

結 合 が二重結 合に

任意

数で

き換

結 合

の立

体 化

Z

は三体 と

Z

ヒ ドロキシル基が結 合 し

炭素原

にアルケニル炭素 (

S

2素 ) が 直

結 合 しな

場 合

る 。木

細書に

けるアルキニル基は

、前

アルキル基

任意

隣 り 合 う

2

つの

子の

結 合結 合

きる ヒ ドロキシル基が結 合 し

炭素原

にアルキニル炭素 (

S

炭素 ) が 直接

結 合 しな

場 合も含ま

る 。芳 香 環 基は

炭素数が 「

ら「

8

フェニル基

ナフチル基

ア ン ト リル基等

芳 香 族 炭 化 水素基

はピ ロ リル基

フリル基

チ エニル基

イ ン ドリル基

ベ ンゾフリル基

ベ ンゾチ エニル基等

窒素原

酸素原

は硫黄原

へテロ原

を含

芳 香 族複素環 基を採ることができる。アルキル力ルボニル基 (

O

R

)

アル キル基 (

R

) は

、前

アルキル基 と同じである。アリ

ル力ルボニル基 (

A

)

アリ

ル基 (

A

) は

、前

芳 香 環 基 と同じである。アル コキシカルボニル基 (

R

)

アルキル基 (

R

) は

、前

アルキル基 と同じである。アミノカルボニル基は

O N

H

で表 さ

る。アルキルアミ ノカルボニル基 (

O N

H

R

R

)

アルキル基 (

R

) は

アルキル基 と同じである。アリ

ルアミノカルボニル基 (

O N

H

A

O N

A

2)

アリ

ル基 (

A

) は

、前

芳 香 環 基 と同じ である。 003 該 アルキル

ルキ

芳 香 環 基

ルキルルボ ニル基

アリ

ル力ルボニル基

アルコキシカルボニル基

アルキルアミノ カルボニル基

よびアリ

ルアミノカルボニル基は

任意

炭素原

上に

任意

数でさ ら任意

わせ

、置

換 基を有

ることもできる ( そ

(12)

換 アルキル基

、置

換 アルケニル基

、置

換 アルキニル基

、置

換芳 香 環 基

、置

換 アルキル力ルボニル基

、置

換 ア リ

ル力ルボニル基

、置

換 アルコキシ カルボニル基

、置

換 アルキルアミ ノ

換 ア

ミ ノ カルボニル基に対応

る) 。係 る

換 基 と しては

塩素

臭素

ョ ウ素

ロゲン原

アジ ド基

ニ ト ロ基

メチル基

エチル基

プロ ピル 基等

低 級アルキル基

フルオロメチル基

クロ ロメチル基

ブロモメ 基等

低 級 ハロアルキル基

メ トキシ基

エ トキシ基

プロポキ シ基等

低 級アルコキシ基

フルオロメ トキシ基

クロ ロメ トキシ基

ブロモメ トキシ 基等

低 級 ハロアルコキシ基

ジメチルアミノ

ジ エ チミノ

ジ プ ロ ピルアミノ基等

低 級アルキルアミノ

プロ ピルチオ基等

低 級アルキルチオ基

シ アノ

メ トルボ

エ トキシカルボニル基

プロポキシカルボニル基等

低 級アルコキシカル ボニル基

アミノカルボニル基

ジメチルアミノルボ

ジ エ チ ミ ノカルボニル基

ジ プロ ピルアミ ノルボ

低 級ルキルミ ノ カルボニル基

低 級アルケニル基

低 級アルキニル基等

不飽和基

フェニ ル基

ナフチル基

ピ ロ リル基

フリル基

チ エニル基等

芳 香 環 基

フェ ノシ基

シ基

ピ ロ リルオキシ基

フリルオキシ基

チ エニルオ キシ基等

芳 香 環オキシ基

ピペ リジル基

ピペ リジノ

ル ホ基 等

脂肪 族複素環 基

ヒ ドロキシル基

保護体

アミ ノ (アミ ノ

はぺ 残 基も含

)

アミ ノ

チオ

ル基

保護体

アル デヒ ド基

アル デヒ ド基

保護体

ボキ

力ルボキシル基

保護体等 が挙 げら

る。 な

お、

細書に

おい

各用語は

次に掲げる意味 で用

る。 低 級

"

とは

炭素数が 「

6

の、

直鎖 ま

は枝分

鎖 式

は環式 (炭素数が

3

以上

場 合) を意味

る。 不飽和基

"

が二重結 合

場 合 (アルケニル基) は

体 ま

きる。 ヒ ドロキシル基

アミノ

チオ

ル デ 力ル ボキシ

保護 基

"

としては

P

e

c

v e

G

i

(13)

O

a

c

S

h

e

T

h

E

d

1

9 9

h

w

l

e

S

c

に記載さ

保護 基等を用

ることができ る (

2

以上

官能基を「

つの

保護 基で 同時に保護

ることもできる) 。ま

た、

不飽和基

"

芳 香 環 基

"

芳 香 環オキシ基

"

よび 脂肪 族複 素 環 基

"

には

ロゲン原

アジ ド基

ニ ト ロ基

低 級アルキル基

低 級 ハ ロアルキル基

低 級アルコキシ基

低 級 ハロアルコキシ基

低 級アルキルア ミノ

低 級ルキル

シ ア

低 級ルボ

ミノルボ

低 級ルキルミノルボ

ヒ ドロキシル基

ヒ ドロキシル基

保護体

アミノ

ミノ

ル基

保護体

アル デヒ ド基

アル デヒ ド基

保護体

力ルボキシル基

力 ルボキシル基

保護体等 が

ることもできる。こ

の置

換 基

中には

塩 基 と水

存在 下にスル フリル フルオ リ ドと反 応

る場 合もるが

好適 な反 応 条件を採用

ることによ り所望

反 応を良 好に行う 003

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類

R

R

2

び R 3が

な る

場 合は

ヒ ドロキシル基が結 合 し

炭素原

は不 斉炭素にな るが

反 応 を通 して該不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

る。

目的

化 合物 が光学活性体

場 合には

原料基質 と して光学活性アルコ

ル類を用

ることができる (当然

、 目的

化 合物に応 じてラセミ

を用

もできる) 。 00 0

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類

R

R 2

よび R 3

3

つの置

換 基

水素原

を採る

換 基 とシ アノ

換 基

総 数

合は

2

つの置

換 基

炭素原

はへテロ原

(窒素原

酸素原

は硫黄原

等 ) を介

る共 有 結 合によ り構 造もできる。 00 般式

3

で示さ

る光学活性アルコ

ル類

R 4

よび R 5は

にアルキル基

、置

換 アルキル基

アルキル力ルボニル基

、置

換 アルキル 力ルボニル基

アリ

ル力ルボニル基

、置

換 ア リ

ル力ルボニル基

アルコ キシカルボニル基

、置

換 アルコキシカルボニル基

アミノカルボニル基

ア ルキルアミノカルボニル基

、置

換 アルキルアミノカルボニル基

アリ

ルア

(14)

ミノルボ

、置

換 ア

ミノルボ

シ ア

R

4R 5は同

一の置

換 基

の置

換 基

、一

で示

るア

R

R 2

よび R 3に

おい

て記 し

た、

に対応

換 基 と同じである。 00 般式

3

で示さ

る光学活性アルコ

ル類

R 4ま

は R 5がシ アノ基を 採 らな

場 合は

2

つの置

換 基

炭素原

はへテロ原

(窒素原

酸素原

たは

硫黄原

等 を介

る共 有 結 合

より構 造採 るる (例えば

光学活性 ヒ シ シン類等 ) 003

般式

3

で示さ

る光学活性アルコ

ル類

不 斉炭素を表 し

反 応を通 して不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

る。 00

般式

3

で示さ

る光学活性アルコ

ル類

不 斉炭素

の立

体 化学は

目的

化 合物

の立

体 化学に応 じて

R

休ま

S

体を適 宜用

ることができる。 係 る光学純度は

7

e e

以上 を用

ば良 く

8

e e

上 が 好ま しく

9

e e

上 がま し

00

般式 で示さ

る光学活性アルコ

ル類

R 6

よび

R

にアルキル基ま

換 アルキル基を表

。こ

の置

換 基は

、一

般式 「 で示さ

るア

ル類

R

R 2

よび R 3に

おい

て記 し

た、

に対応

換 基 と同じである。 00

般式 で示さ

る光学活性アルコ

ル類

R 6

よび

R

2

つの置

換 基は

炭素原

はへテロ原

(窒素原

酸素原

は硫黄原

等 ) を介

る共 有 結 合により構 造もできる (例えば

光学活 性は一ヒ ドロキシ ラク トン類等 ) 。 00

般式 で示さ

る光学活性アルコ

ル類

不 斉炭素を表 し

反 応を通 して不 斉炭素

の立

体 化学は保持さ

る。 00

般式 で示さ

る光学活性アルコ

ル類

不 斉炭素

の立

体 化学は

目的

化 合物

の立

体 化学に応 じて

R

休ま

S

体を適 宜用

ることができる。 係 る光学純 度

は、

8

e e

以上 を用

ば良 く

e e

好ま しく

9

e e

上 がま し

(15)

00

明の

好適な原料基質である

、一

般式

5

で示さ

る光学活性アルコ

ル類

S

e

C

a

(米

, 「

9

9

「年,第

2

「巻,

2

6

7

等を参考にして

市販さ

る種

光学活性は一アミ ノ

該 アルコ

ル類

つか

は市販さ

施例 で用

いた

(

S

) 乳 酸

エチルエステルは市販品 を利用し

般式 「 で示さ

るアルコ

ル 類

よび

般式

3

で示さ

る光学活性アルコ

ル類もそ

多くが市

る。 00 0

般式

7

で示さ

る光学活性 ヒ ドロキシ プロリン類

R 8は

2

級 アミ ノ

護 基

係 る保 護 基 と し

ベ ン ジルオ

e

ブ トキシカル ボニル基

9

フルオ レニルメ トキシカルボニ ル基

3

ニ トロー

2

ピ リジンスル フ ェニル基

P メ トキ シベ ンジルオ キシカルボニル基等 が挙 げら

る。そ

中でもべンジルオキシカルボニル基

よび

e

ブトキシカルボニル基が好ま しく

e

ルボニル基が特に好ま し

般式

7

で示さ

る光学活性 ヒ ドロキ , プロリン類

R gは

力ルボキシル基

保護 基を表 し

係 る保 護 基 と しては

メチル基

エチル基

e

ブチル基

ト リクロ ロエチル基

フ ェナ , ル基

ベ ン ジル基

ニ トロベ ン ジル基

メ トキシベ ン ジル基等 が 挙 げら

る。そ

中でもメチル基

エチル基

e

ブチル基

よびべ ンジル基が好ま しく

ま し

00 本発

明の

好適な原料基質である

、一

般式

7

で示さ

る光学活性 ヒ ド ロキ シプロリン類

は、

第 版 実験化学講 座

2

有機合成

V

アミ ノペ プ チ ド (

9

9

年,

9

3

09

) 等 を参考にして

市 販

光学活性 ヒ ドロキシ プロリン

ら製造

ることができる。ま

た、

2

級アミ ノ基

保護 基 R 8とカルボキシル基

保護 基 R g

わせ

によ

ては 市販さ

るも

があり

ることもきる。ま

た、一

般式

7

で示さ

る光学活性 ヒ ドロキシ プロリン類

2

級アミ ノ

保護 基 R 8が

e

ブ トキシカルボニル基で

力ルボキシル基

保護 基 R g

(16)

がメチル基である化 合物 (

2

S

R

) は

T

e

a

h

e

d

e

e

(

) , 「

9

9 8

年,第

3

9

巻, 「 「

6

9

「 「

7

に従

い、

光学活性 ヒ ドロキシ プロリンメチルエステル

塩 酸 塩

ら容易に製造できる。 00

般式

7

で示さ

る光学活性 ヒ ドロキシ プロリン類

2

つの

不 斉炭素を表 し

反 応を通 して

2

つの

不 斉炭素

の立

体 化学は保持 さ

る。 003

7

で示

ヒ ドロキシ プロリン類

2

つの

不 斉炭素

の立

体 化学は

、 目的

化 合物

の立

体 化学に応 じて

2

R

2

R

S

2

S

R

2

S

S

を適 宜用

ることができる。係 る エ ナ ンチオ マ

過剰率は

8

e

e

以上 を用

ば良く

9

e e

上 がま し

9

e e

上 が 特に好ま し

。係 る ジアステレオ マ

過剰率は

8

d

e

以上 を用

ば 良く

9

d

e

上 がま し

9

d

e

上 がま し

00 スル フリル フルオ リ ド

使用量は

、一

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類 「モルに対 して

7

モル以上 を用

ば良く

8

ら「

モル が好ま しく

9

ら モル が特に好ま し

。 00 塩 基 と しては

ト リエチルアミ

イ ソ プロ ピ

ト リ 一プロ ピアミ

J

ブチ

J

ペ ンチ

ピ リ ジ ン

2

3

チジ ン

2

チジ ン

2

6

チジ ン

3

, ルチジ ン

3

, ルチジ ン

2

, ,

6

コ リジ ン

3

, ,

6

コ リジ ン

ジメチルアミノ ピ リジ ン

「, ジ アザビ

3

ノ ン エン (

D

N

)

「,

8

ジ アザビシクロ

ウ ンデ セ

7

エ ン (

D

U

)

、 N

N

N

N

N

一ペ ンタメル グ ニ ジ ン

「, ,

7

トリアザビ ・ ・

デセ エン (

T

D

)

P

ァゼ

ンベ

炭酸 水素 リ

炭酸 水素ナ トリ

炭酸 水素カ リ

炭酸 リ ウム

炭酸ナ トリ

炭酸カ リ

水酸 化 リ

水酸 化ナ トリ

(17)

水酸 化カ リウム

水酸 化力ム等

無機塩 基が挙 げら

る。そ

中で も トリエチルアミ

イ ソ プロ ピ

ブチ

ピ リジ ン

2

6

ルチジ ン

2

, ,

6

コ リジ ン

ジメチルアミ ノ ピ リジ ン

「, ジ アザビシクロ

3

「,

8

ジ アザビ

5

・ ・

ウ ンデセ エン

炭酸 水素ナ トリウ ム

炭酸 水素カ リウム

炭酸ナ トリ

炭酸カ リ

酸 化 トリ および水酸化カ リウムが 好ま しく

イ ソ プ ルアミ

ト ブチルアミ

8

ジ ア ・ ・

ウ ンデセ エン

炭酸 水素ナ ト リウム

炭酸 水素カ リウム

炭酸ナ ト リ ウム

よび炭酸カ リウム が特に好ま し

。こ

塩 基は単独ま

は組

わせ

て用

ることができる。有機塩 基 と無機塩 基

わせ

により良 好な 反 応性と

選択性 (生成比 ; フルオロ硫 酸 エステル類ノ フ

素化物 ) が得 ら

る場 合がある。 00 有機塩 基 と無機塩 基を組

わせ

て用

い、

本発

明の

好適な製 造 条件である

さ らに水 と混和しな

反 応 溶 媒

存在 下に

2

相系で反 応を行う

基は有機層に

無機塩 基は水層にそ

より多く分配

機塩 基によりスル ホニル化が効果

に進行 し

水層では副生 し

素アニ オンがアルカ リ金属塩 ( フ

化 リ

トリ

カ リ ム ) 等

形で効果

に固定化さ

良 好な反 応性と

選択性 が得ら

る。 こ

好適な製 造 条件を採用

ることにより

規 模 で現 性良 く

目的

合物を製造

ることができる。木

細書に

ける

2

相系

"

液相

状 態 だ けを対象とし

表記であり

ル フル フルオ リ ドが存 在

る気相も含

る と厳密には

3

相系

"

である。 00 塩 基

使用量は

、一

般式 「 で示さ

るアルコ

ル類 「モルに対 して

7

モル以上 を用

ば良 く

8

ら「

モル が好ま しく

9

ら モル が特に好ま し

。塩 基を組

わせ

て用

る場 合は

使 量を表 し

塩基性

方を触媒

(例えば

アルコ

ル類 「モル

対 して ・ 「モル ) に用

ることもできる。

(18)

008

使

、一

「 で示さ

るアルコ

ル類 「モルに対 して

( リ

ル ) 上 を用

・ 「

3

が好ま しく

2

2

が特に好ま し

。本発

明の

製造方法に

おい

て水

使用量は重 要なフ

ク タ

であり

ぎ る と

性 が

ず、

ぎ る と生 産 性

低下を招 き

さ らに廃 水処理

経済

負担も大 きな る 00 水 と混和しな

反 応 溶 媒 と しては

ヘキ

シクロヘキ

ヘ プタ

脂肪 族 炭化 水素系

ベ ン

芳 香 族 炭化 水素系

塩 化メチレン

クロ ロホル ム

「,

2

ジクロ ロエタン等

ロゲン化 炭 化 水素系

ジ エ チルエ

テル

ジイ ソ プロ ピルエ

テル

e

ブチメチ

ル等

酢酸 エ チ

酢酸 ブチル等

エステル系等 が挙 げら

る。そ

中でも ヘキ

ヘ プタン

ト ルエン

キシレン

塩 化メチレン

ジイ ソ プロ ピルエ

テル

e

ブ チルメチルエ

テル

よび酢酸 エ チル が好ま しく

ヘ プ

キシレン

e

ブチルメチルエ

テル

よび酢酸 エ チル が特に好ま し

。こ

反 応 溶 媒は単独ま

は組

わせ

て用

ることができる。 00 0 水 と混和しな

反 応 溶 媒

使用量は

、一

般式 「 で示さ

るアルコ

ル 類 「モルに対 して

以上 を用

ば良く

3

3

が好 ま しく

2

が特に好ま し

。 00 反 応温度は

一 「

ら 十 「

C の

で行 えば良く

ら 十

2

C

が好ま しく

ら 十

C

ま し

00 反 応

8

以内

で行 えば良く

造 条 によ り

な る

ィー 、

液 体

ィー 、

磁気共

分析

段によ り反 応

行 状 況跡 し

殆 ど消 失

時点を終 点 と

ることが好ま し

。 00

反 応 終

2

離 して有機物ま

は有機層を

収 し

必要 に応 じて有機溶媒 (例えば

ヘキ

ヘ プタン

トルエン

キシ レン

塩 化メチレン

ジイ ソ プロ ピルエ

テル

e

ブチルメチルエ

テル

酢酸 エ チル等 ) で希釈 し

無機酸 (例えば

塩 酸

臭化 水素酸

参照

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