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によるアルケンの酸化

ドキュメント内 有機金属化学(導入) (ページ 67-80)

PdCl2

2HCl H2C CH2

Cl Cl Pd

Cl Cl

Cl

2−

Cl Pd

Cl Cl −

Cl H2O

H2O

H2O Pd

Cl Cl

H2O

Cl

H2O Pd

Cl H

OH H2O Pd

H2O Cl H OH

H2O Pd Cl

OH H

H2O Pd Cl

H H O

H2O Pd

Cl H

CH3CHO HCl

Pd0 配位子交換 配位子交換

β脱離

1,2-挿入 β脱離 還元的脱離

CuII

PdII Cu0

遷移金属錯体の基本反応

1.配位子交換反応と異性化反応 2.酸化的付加と還元的脱離反応 3.挿入と脱離反応

4.配位子上の反応

配位子交換反応と異性化反応 -1

会合型機構 解離型機構

配位不飽和錯体(16e以下)で 見られる配位子交換反応

配位飽和錯体(18e)で見られ る配位子交換反応

S

N

1 型に近い S

N

2 型に近い

S: 溶媒分子、基質 遷移金属錯体が化学反応に関与する時には、この過程が絶対不可欠

ML

n

+ S ML

n-1

S + L

会合型機構

Square Planar T M

L X

L

配位子交換反応と異性化反応 -2

Y

配位不飽和錯体(16e以下)で見られる配位子交換反応 Yの付加が律速段階

T M

L X

L Y

Trigonal bipyramid Y

M T X

L L

Square Planar T M

L Y

L

d8, 16e錯体ではSquare Planarの方が安定 Tetrahedral

×

(結晶場理論と配位子場理論-8参照)

配位子場分裂による安定化 Square Planar -24.56 Dq Tetrahedral  -3.56 Dq Y

M T X

L L

Y L M TX

配位子交換反応と異性化反応 -3

トランス効果( Square Planar 型錯体に特有)

どっち?

どっち?

Cl Pt

Cl Cl

NH3

-シスプラチン Cl Pt

Cl NH3 NH3 Cl Pt

Cl Cl

Cl

2-H3N Pt

H3N NH3 NH3

2+

Pt

H3N

H3N NH3 Cl

+

トランスプラチン H3N Pt

Cl NH3 Cl Clのトランス位が置換される

Clのトランス位が置換される

NH3 NH3

Cl Cl

配位子交換反応と異性化反応 -4

トランス効果の原因(静的要因と動的要因)

静的要因(Trans Influence、トランス影響)

M-Lt の結合エネルギー>M-L’の結合エネルギー

M-X の結合エネルギー<M-Yの結合エネルギー 錯体の熱力学的性質に基づく

強い 弱い L'

L

t M Y

X

トランス影響の大きさの順(分光学的な測定により決定)

HO < H2O, NH3 < Cl < I, Br < CO, C2H4, < I < CN, PR3 < C6H5−, H3C, H

Lone Pairがない

π-Acceptor性が高い トランス影響が

大きいもの

金属のdπ電子との反発が小さい 逆供与結合が強い

配位子交換反応と異性化反応 -5

動的トランス効果

16e錯体を考える 18e錯体となる Lt M X

L

L Lt M

X

L

Y

L

Y M

L L

X

Lt

Y M

Lt X L L

Lt M X L

Y

Lt M Y L

L

Y M Lt

X L

L

dxy, dyz, dxz, dx2-y2は結合に関与 しないので、dπ電子が入る

dxy, dyz, dxz, dx2-y2の中で、準 位が高い軌道は dxyとdx2-y2

TBPはsp3dz2混成 xy平面(equatrial位)にπ-acidicなリガンドが来る方が安定 動的トランス効果の要因

×

配位子交換反応と異性化反応 -6

解離型機構

L M

L

T X

L

L

配位飽和

配位飽和錯体(18e)で見 られる配位子交換反応 Xの脱離が律速段階、

Rate = k1[MTL4X]

−X

L M

L T

L

L

Square Pyramidal

T M L L L

L

Distorted

trigonal bipyramidal

Ret.

Inv.

b

Y

L M

L T

L

L

a

Y

a

L M

L T

Y

L L

b

Tのトランス効果が大きい Tのπ−Donor性が高い

Square Pyramidal

Distorted trigonal bipyramidal

酸化的付加と還元的脱離 -1

+

L

n

M

酸化的付加

(Oxidative Addition) 配位数:+2

酸化数:+2 還元的脱離

(Reductive Elimination)

平衡を支配する因子 (1) 2つの酸化状態の相対的安定性

(2) A-B結合、A-M-B結合の結合エネルギー

酸化的付加 還元的脱離

金属中心 配位子 配位状況

低原子価 高原子価

配位不飽和 配位飽和

供与性大 供与性小(逆供与性大)

A B B

L

n

M A

酸化的付加と還元的脱離 -2

酸化的付加の反応機構

1. Concerted Addition

2. S

N

2 Type Addition

3. Radical Mechanism

4. Ionic Mechanism

酸化的付加と還元的脱離 -3

Concerted Addition (H-H, C-H, Si-H, C-C に対するシス付加 )

ML

n

+

16e, M0 18e, M0 18e, MII

cis付加

A B L

n

M A

B L

n

M B A

Square planar 16e, IrI

H2

Trig. bipyramidal 18e, IrI

Octahedral 18e, IrIII

Ir

Ph

3

P PPh

3

Cl

CO H

H Ir

Ph

3

P PPh

3

Cl

CO Ir

H H Cl CO

PPh

3

Ph

3

P

酸化的付加と還元的脱離 -4

C-C, C-H への酸化的付加(非常に稀 , 困難 , 高価値)

PtCl

2

Heat

PtCl

2

Py

n Pt Cl

Cl Py Py

重油の分解、高分子化合物の分解 Cl Ir PPh

3

Ph

3

P

PPh

3

Cl Ir PPh

2

Ph

3

P

PPh

3

H

Ir

Cl PPh

3

H

Ph

3

P PPh

2

酸化的付加と還元的脱離 -5

S

N

2 Type Addition (RX, allyl-X, Benzyl-X, RCOX に対するトランス付加 )

L

n

M

立体化学の 反転を伴う

C X L

n

M C

X C

L

n

M X

金属:求核性が高い時に有利になる過程

求電子剤:立体障害が小さい方、脱離能が高い方が有利になる過程 Ni(PR3)4 > Ni(PAr3)4 > Ni(PAr3)2(alkene) > Ni(cod)2

Me-I > Et-I > i-Pr-I R-OTs > R-I > R-Br > R-Cl

酸化的付加と還元的脱離 -6

+ -L

CO

L

2

XPd +

MeOH

Me-I

トランス付加体

L

3

Pd

H

C X

ドキュメント内 有機金属化学(導入) (ページ 67-80)

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