PdCl2
2HCl H2C CH2
Cl Cl Pd
Cl Cl
Cl
2−
Cl Pd
Cl Cl −
Cl H2O
H2O
H2O Pd
Cl Cl
H2O
Cl
H2O Pd
Cl H
OH H2O Pd
H2O Cl H OH
H2O Pd Cl
OH H
H2O Pd Cl
H H O
H2O Pd
Cl H
CH3CHO HCl
Pd0 配位子交換 配位子交換
β脱離
1,2-挿入 β脱離 還元的脱離
CuII
PdII Cu0
遷移金属錯体の基本反応
1.配位子交換反応と異性化反応 2.酸化的付加と還元的脱離反応 3.挿入と脱離反応
4.配位子上の反応
配位子交換反応と異性化反応 -1
会合型機構 解離型機構
配位不飽和錯体(16e以下)で 見られる配位子交換反応
配位飽和錯体(18e)で見られ る配位子交換反応
S
N1 型に近い S
N2 型に近い
S: 溶媒分子、基質 遷移金属錯体が化学反応に関与する時には、この過程が絶対不可欠
ML
n+ S ML
n-1S + L
会合型機構
Square Planar T M
L X
L
配位子交換反応と異性化反応 -2
Y
配位不飽和錯体(16e以下)で見られる配位子交換反応 Yの付加が律速段階
T M
L X
L Y
Trigonal bipyramid Y
M T X
L L
Square Planar T M
L Y
L
d8, 16e錯体ではSquare Planarの方が安定 Tetrahedral
×
(結晶場理論と配位子場理論-8参照)
配位子場分裂による安定化 Square Planar -24.56 Dq Tetrahedral -3.56 Dq Y
M T X
L L
Y L M TX
配位子交換反応と異性化反応 -3
トランス効果( Square Planar 型錯体に特有)
どっち?
どっち?
Cl Pt
Cl Cl
NH3
-シスプラチン Cl Pt
Cl NH3 NH3 Cl Pt
Cl Cl
Cl
2-H3N Pt
H3N NH3 NH3
2+
PtH3N
H3N NH3 Cl
+
トランスプラチン H3N Pt
Cl NH3 Cl Clのトランス位が置換される
Clのトランス位が置換される
NH3 NH3
Cl− Cl−
配位子交換反応と異性化反応 -4
トランス効果の原因(静的要因と動的要因)
静的要因(Trans Influence、トランス影響)
M-Lt の結合エネルギー>M-L’の結合エネルギー
M-X の結合エネルギー<M-Yの結合エネルギー 錯体の熱力学的性質に基づく
強い 弱い L'
L
t M YX
トランス影響の大きさの順(分光学的な測定により決定)
HO− < H2O, NH3 < Cl− < I−, Br− < CO, C2H4, < I− < CN−, PR3 < C6H5−, H3C−, H−
Lone Pairがない
π-Acceptor性が高い トランス影響が
大きいもの
金属のdπ電子との反発が小さい 逆供与結合が強い
配位子交換反応と異性化反応 -5
動的トランス効果
16e錯体を考える 18e錯体となる Lt M X
L
L Lt M
X
L
Y
LY M
L L
X
Lt
Y M
Lt X L L
Lt M X L
Y
Lt M Y L
L
Y M Lt
X L
L
dxy, dyz, dxz, dx2-y2は結合に関与 しないので、dπ電子が入る
dxy, dyz, dxz, dx2-y2の中で、準 位が高い軌道は dxyとdx2-y2
TBPはsp3dz2混成 xy平面(equatrial位)にπ-acidicなリガンドが来る方が安定 動的トランス効果の要因
×
配位子交換反応と異性化反応 -6
解離型機構
L M
L
T X
L
L
配位飽和
配位飽和錯体(18e)で見 られる配位子交換反応 Xの脱離が律速段階、
Rate = k1[MTL4X]
−X
L M
L T
L
L
Square Pyramidal
T M L L L
L
Distorted
trigonal bipyramidal
Ret.
Inv.
b
Y
L M
L T
L
L
a
Ya
L M
L T
Y
L L
b
Tのトランス効果が大きい Tのπ−Donor性が高い
Square Pyramidal
Distorted trigonal bipyramidal
酸化的付加と還元的脱離 -1
+
L
nM
酸化的付加
(Oxidative Addition) 配位数:+2
酸化数:+2 還元的脱離
(Reductive Elimination)
平衡を支配する因子 (1) 2つの酸化状態の相対的安定性
(2) A-B結合、A-M-B結合の結合エネルギー
酸化的付加 還元的脱離
金属中心 配位子 配位状況
低原子価 高原子価
配位不飽和 配位飽和
供与性大 供与性小(逆供与性大)
A B B
L
nM A
酸化的付加と還元的脱離 -2
酸化的付加の反応機構
1. Concerted Addition
2. S
N2 Type Addition
3. Radical Mechanism
4. Ionic Mechanism
酸化的付加と還元的脱離 -3
Concerted Addition (H-H, C-H, Si-H, C-C に対するシス付加 )
ML
n+
16e, M0 18e, M0 18e, MII
cis付加
A B L
nM A
B L
nM B A
Square planar 16e, IrI
H2
Trig. bipyramidal 18e, IrI
Octahedral 18e, IrIII
Ir
Ph
3P PPh
3Cl
CO H
H Ir
Ph
3P PPh
3Cl
CO Ir
H H Cl CO
PPh
3Ph
3P
酸化的付加と還元的脱離 -4
C-C, C-H への酸化的付加(非常に稀 , 困難 , 高価値)
PtCl
2Heat
PtCl
2Py
n Pt Cl
Cl Py Py
重油の分解、高分子化合物の分解 Cl Ir PPh
3Ph
3P
PPh
3Cl Ir PPh
2Ph
3P
PPh
3H
Ir
Cl PPh
3H
Ph
3P PPh
2酸化的付加と還元的脱離 -5
S
N2 Type Addition (RX, allyl-X, Benzyl-X, RCOX に対するトランス付加 )
L
nM
立体化学の 反転を伴う
C X L
nM C
X C
L
nM X
金属:求核性が高い時に有利になる過程
求電子剤:立体障害が小さい方、脱離能が高い方が有利になる過程 Ni(PR3)4 > Ni(PAr3)4 > Ni(PAr3)2(alkene) > Ni(cod)2
Me-I > Et-I > i-Pr-I R-OTs > R-I > R-Br > R-Cl
酸化的付加と還元的脱離 -6
+ -L
CO
L
2XPd +
MeOHMe-I
トランス付加体