特許出願件数、特許権保有件数
参考資料集 目次 我が国のこれまでの知財関連施策 1 大学の知財活動概況 1 特許出願件数 特許権保有件数 2 大学の知財活動概況 2 特許権実施等収入 共同研究費受入額 3 大学の知財活動概況 3 国内保有特許の利用率 4 大学の知財活動概況 4 国際出願の状況 5 大学の知財活動概況 5 大学の
... (1) ◆ 特許による技術移転：大学（等）の教職員・研究職員・ポスドク（教職員等）、学生・院生（学生等）を発明人とする 特許をもとに起業したもの。 (2) ■ 特許以外による技術移転：（１）以外の大学（等）で達成された研究成果 または習得した技術に基づいて起業したもの。 (3) ▲ 人材移転：大学（等）の教職員等、学生等がベンチャーの設立者となったり、その設立に深く関与するなどして ...
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3 第 8 回五大特許庁 (IP5) 長官会合 (205 年 5 月 22 日 : 中国 蘇州 ) 日米欧中韓の五大特許庁 (IP5) への特許出願 (220 万件 (204 年 )) は 世界の特許出願件数 (268 万件 ( 同年 )) のうち 約 8 割を占めており 2007 年より審査結果の
... ベトナム国家知的財産庁と2016年4月よりPPHを開始 することに合意した。ベトナム国家知的財産庁との合意に より、ASEAN主要6か国（フィリピン、インドネシア、 マレーシア、シンガポール、タイ、ベトナム）全てとPPH を実施することになり、日本からASEANになされている 出願のうち、ほぼ全ての出願に対してPPHの利用が可能 となる。日本国特許庁は、PPHのプロモーションに力を ...
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特許協力条約 (PCT) に基づく 国際出願制度に関するトピックス 世界知的所有権機関 (WIPO) 日本事務所
... PATENTSCOPE でライセンシングによる利用可能性の表示を含む 国際出願を検索可能（「構造化検索」を利用） 「書誌情報」タブに示されたライセンシングによる利用可能性の 表示は、出願人によって、優先日から30ヶ月以降であっても、 いつでも取り消すことが可能 ...
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拡張性を高めた特許データベースの設計および実装―特許出願情報への特許審査過程情報の追加―
... 企業の知財活動状況を診断したり、知財創造に関しての 組織的強みを診断したりするパラメータは、特許出願書類 のページ数や特許出願件数ばかりではなく、審査過程の特 許情報を用いなければならない。しかしながら、上述した ように、現状の本研究室のデータベースは特許出願に関す る情報は有しているもの、審査過程に関する情報は有して ...
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目次 < 共通情報 > 1. 加盟している産業財産権関連の条約 2. 特許審査ハイウェイ実施状況 3. 現地代理人の必要性有無 4. 現地の代理人団体の有無 5. 出願言語 6. その他関係団体 7. 特許情報へのアクセス < 特許制度 > 1. 現行法令について 2. 特許出願時の必要書類 3.
... なお、合意した国は次の通りです。 ①米国、②韓国、③英国、④デンマーク、⑤フィンランド、⑥ロシア、⑦カナダ、 ⑧スペイン、⑨北欧特許庁、⑩ノルウェー、⑪ポルトガル、及び⑫オーストラリア その結果として、2014 年 1 月 6 日よりグローバル特許審査ハイウェイ施行開始に伴い、 上記いずれかの国の審査結果に基づき、オーストラリア特許庁においても特許審査ハイ ウェイの申請が可能となりました（Global ...
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第 部 Part 数字で見る知財動向 Trends of Intellectual Property with Facts and Figures 第 章特許 / Chapter Patents 2 出訴状況 出願年別で見る特許出願 審査請求 特許出訴状況登録等の推移 出願年別に見たとき 特許出願件
... 7 Changes in the Number of Patent Applications Filed with Major IP Offices by Japanese Applicants. 2014年の日本人による主要国・機関への特許出願件数 は、 米 国 特 許 商 標 庁（USPTO） へ は 前 年 比2.0%増 の ...
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1. 特許法条約及び商標法に関するシンガポール条約とは 特許法条約 (PLT) 及び商標法に関するシンガポール条約 (STLT) は 各国で異なる国内出願手続の統一化及び簡素化に関する条約である 近年 出願件数が多い欧米諸国の加入が進んでおり 両条約の締約国は PLT が 36 か国 STLT が
... （出願手続の統一化及び簡素化） ・各国で異なる国内出願手続の統一及び簡素化を目的とした「特許法条約」及び「商標法に関するシンガポール条約」への加入を視野に入 れ、特許及び商標の国内出願手続の見直しの検討を行う (以下、略） ※ 「第２ 中小・ベンチャー企業の知財マネジメント強化支援」の「１．中小・ベンチャー企業及び大学の海外知財活動支援」の「（２）今後取り ...
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保有特許一覧｜研究・産学連携｜豊田工業大学
... ポリエステル製容器の耐熱性を向上させる別の方法として、耐熱性樹脂を共押出成形、 多段射出成形等によりポリエステル樹脂と多層化してブロー成形することにより耐熱容器 を得る方法がある。しかし、この方法では積層工程が煩雑で製造装置が高価になるという 難点がある。さらに、ポリエステル樹脂成形体の熱収縮や熱変形を低減する方法として、 ポリエチレンテレフタレートに、ポリブチレンテレフタレートやポリアリレート等をブレ ...
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平成 30 年度知的財産権制度説明会 ( 実務者向け ) 特許協力条約 (PCT) に基づく 国際出願の手続 審査業務部出願課国際出願室
... 【事件との関係】 すべての指定国における出願人 【氏名又は名称（日本語）】 株式会社東京製作所 【氏名又は名称（英語）】 TOKYO SEISAKUSHO CORPORATION 【あて名（日本語）】 東京都千代田区霞が関三丁目4番3号 【あて名（英語）】 4-3，Kasumigaseki 3-chome，Chiyoda-ku, Tokyo 【郵便番号】 1000013 ...
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グローバル出願に適した特許明細書
... ている。特に，PCT 出願ではミラー翻訳の制約によって出願時の特許明細書の内容を各国移行時に変更する ことは許されないから，本来であれば，PCT 出願用の特許明細書は世界各国の実務を踏まえたものでなければ ならない。しかしながら，実際には各国の実務上の隔たりがかなり大きく，実体面における特許明細書の世界 ...
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RIETI - 特許出願公開のオープンイノベーション効果：インクジェット特許の分析
... 要 旨 企業が特許出願を行う目的は、発明の権利化だけではない。競合他社による技術 の権利化阻止を目的とする防衛出願も、特許出願には多く含まれる。特許査定率を 下げる一因とも見られる防衛出願ではあるが、日本国内のすべての特許出願は出願 後 18 ...
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特許権侵害における差止め
... 2 存続期間 (67) との関係 訴えの利益との関係では，存続期間との絡みが問題となる。 裁判実務では，存続期間の終了が迫っている場合でも，存続期間が経過するまでの間は 侵害行為をなしてはならないことに変わりはないので，差止請求が認容されている。その場 合，差止めの終期が示されることがある （松山地決平成 8.11.9 判時 1608 号 139 頁〔便座カバ ー〕，東京地判平成 10.3.23 知裁集 30 巻 1 号 75 ...
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日本における特許権行使
... （＊＊） 特許権が付与されると、その権利者（特許権者）は、特許により保護されるテクノロジーの無断使用者による実施を排除 することができる。とはいえ、特許は行使可能であってこそはじめて価値を発揮する。ドイツ、日本及び米国では、特許の権 ...
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第5回 特許出願（２） ☆インド特許法の基礎☆
... は無く、願書から優先権の申立に関する記載を削除するよう求めてくる。結果として、 出願人自ら、優先権の申立に関する記載を願書から削除することになるため、仮に特許 が認められたとしても、後に優先日の利益を争うことが困難になる。例えば、侵害訴訟 における無効主張に対して、優先権主張の有効性を争うことが難しく、特許の有効性を ...
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米国の産学連携 米国の産学連携インパクト 2007 年統計 新規発明開示件数 19,827 件 ( 前年 18,874 件 ) 特許出願件数 17,589 件 ( 前年 15,908 件 ) 総ライセンス件数 5,109 件 ( 前年 4,963 件 ) 産学連携による新製品の数 686 件 ( 前
... 一方、日本においては、先願主義であるため、特許出願を行うことなく研究成果を公表した場合、研究成果の権 利化は実現できない。例外措置として、特許庁長官が指定する学術団体における公表は半年に限り特許出願は 可能であるが、期間も米国の半分であり、また、公表可能な学術団体も限定的である。よって、研究成果の公表 ...
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出願人のための特許協力条約（PCT） －国際出願と優先権主張－
... について日本に 出願し，その後発明 B がされた時点で第 1 国出願に 基づき優先権を主張して第 2 国出願として発明 A に 発明 B を加え国際出願した場合を示したものである。 この場合，国際出願は日本について自己指定となる。 （a） 自己指定となった日本において，所定の条件を 満たせば国際出願の発明 A，B のうち，発明 A ...
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米国特許商標庁(USPTO)による特許出願時における
... III. 提案 2011 年 11 月 22 日付けのスペシャルレポ ートでお勧めしましたように、第三者には限 られた参加権のみが与えられており、出願人 には、拒絶に適用された書類の関連性につい て反駁するために、ほぼ無限に近い機会が与 えられているため、当所では、通常、競合者 の特許出願が係属中である際、第三者による 提出をお勧めしていません。しかし、完成済 ...
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第6回 特許出願（３） ☆インド特許法の基礎☆
... しかしながら、インド特許法には、孫出願を禁止する明示の規定は存在せず、子出願 が包含する発明の内容によっては孫出願が許されるケースもあり得ると考える現地代 理人もいる。文言上、第16条は、孫出願への分割を規定していないが、子出願が親出願 ...
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手続きガイドライン ( 日本語仮訳 ) ( ラオス関連特許出願に対する特許の付与円滑化に関する協力に基づく早期特許査定申請 ) 日本国特許庁 (JPO) により付与された特許を有する出願人は JPO での特許出願の審査結果を利用したラオス関連特許出願の 特許の付与円滑化に関する協力 ( 以下 CPG
... DIP 特許出願と、CPG 申請の基礎となる日本特許出願（以下「対応 JPO 特許出 願」という）とが、優先日又は出願日において同じ最先の日を有すること。 DIP 特許出願（PCT 出願の国内移行出願も含む）は下記ケース I ～ Ⅳのいずれかである必要がありま す。 ...
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保有特許一覧｜研究・産学連携｜豊田工業大学
... 50 【特許請求の範囲】 【請求項１】 表面に凹凸部を有する基板に対して被膜を形成する方法であって、前記被膜の形成を異な る第１及び第２の２回の塗布工程に分けて行い、第１の塗布工程で少なくとも前記凹部の 底部から壁部の中間深さ位置に至るまで被膜を形成し、第２の塗布工程で少なくとも前記 凹部の中間深さ位置から凸部の上面に至るまで被膜を形成することを特徴とする被膜形成 方法。 ...
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