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医薬品製造化学特論・課題–7 (2021)

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Academic year: 2021

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医薬品製造化学特論・課題

–7 (2021)

提出締め切り：6 月 8 日(火)18 時

研究室 学籍番号 氏名

問 1. 以下の還元反応の立体選択性の違いを説明せよ。なお、Et3SiH は酸性条件下でも安定なヒド リド源(還元剤)である。

問2. 次の還元反応が高立体選択的に進行する理由を説明せよ。

O O H

Me DIBAL HO

Me OH

Et3SiH TiCl4 H O

Me OH

O H O

NaBH4 CaCl2 O

H OH

+ anti

O H OH 92 : 8 syn

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