プラズマ技術を駆使し あらゆる産業分野にご満足のゆくコーティングサービスをお届けします JCC provides our coating service to our customers belonging to all industrial fields with Plasma Surface T

日本コーティングセンター株式会社

プラズマ技術を駆使し、あらゆる産業分野に

ご満足のゆくコーティングサービスをお届けします。

プラズマ（plasma）

物質は原子・分子からなるが、気体を10万℃以上にすると、

原子は＋の電荷を持った原子核と−の電荷を持った電子に

分離して、それぞれが独立に存在するようになる。このよ

うな状態ではクーロン力の効果が顕著になり、通常の気体

とは異なった性質を示す。これを物質の第四の状態、プラ

ズマと呼ぶ。恒星はすべてプラズマ状態になっているため、

宇宙における最も普遍的な状態ともいえるが、地上で安定

に維持することは難しい。（imidas;2001より）

プラズマ技術に特化したコーティング法、浸透拡散法等の

低温での表面改質技術を用い、従来の高温下での表面処理

方法を超える高性能・高品質・高精度のコーティングサー

ビスを可能としました。今後もこのプラズマ技術を駆使し、

お客様のニーズにお応えできるよう業界のリーディングカ

ンパニーとして常に新しい技術の追求と品質・機能の向上

に努め、これからもより多くの“お客様にご満足の頂ける

技術のご提供”をモットーにさらに前進します。

Substance consists of atoms and molecules. When Gas which is one of three phases “solid, liquid, gas” of the substance is heated up more than 10,000℃, atoms or molecules are ionized to positive charged atomic nucleus and negative charged electron, which is called the forth phase, Plasma. In this situation, Plasma gas shows the different characteristics from that of the normal gas caused by Coulomb interaction. All fixed stars are in Plasma condition which is universal condition in the cosmos, but which is rather difficult to be kept stably on the earth.

With Surface modification technology using plasma surface technology under lower temperature such as ceramics coating process, penetration and diffusion process, we make possible to provide the coating service showing high performance, high quality and high precision in comparison with traditional surface treatment under high temperature.

Furthermore from now on, as a leading company, we make efforts to investigate a new technology and improve the quality and the function of our technology in order to satisfy our customer’s various needs.

And we move forward with our motto “we offer our surface technology that our customers can be satisfied”.

日本コーティングセンター株式会社（以下JCC）は、法令 の順守、安全の確保および環境に対応した信頼性の高いプロ セス技術をもちいた事業活動を展開すると同時に、全社的な CR運動の推進により、お客様とJCCおよび社員相互の緊密 なコミュニケーション、JCC品質マネジメントシステムの 確実な運用と継続的な改善の実施、不適合発生の予防、製造・ 技術・営業が一体となった表面改質技術の一層の向上に努 め、お客様からの信頼と要求に満足をしていただける製品品 質（Ｑd、Ｑp）をご提供します。 JCC は、お客様の信頼（CR）に応え続けるために、以下 の事項を順守し、実行します。 1． CR 運動の展開により、社員相互の適切で的確な情報 の伝達、報連相の徹底に努め、社員相互の信頼と技能 技術を高め、優れた製品品質（Ｑ d、Ｑ p）をご提供し ます。 2． お客様と緊密なコミュニケーションに努め、お客様か らの要求を的確に把握し、適切なプロセスの提案によ りお客様の要求に対して満足をしていただける製品品 質（Ｑ d、Ｑ p）をご提供します。 3． JCC 品質マネジメントシステムの確実な運用と法令 の順守、本システムや品質に関連した表面改質技術の 継続的な改善を図り、より適切なプロセスの選定や不 適合発生の予防に努めます。 4． 不適合発生の場合には、お客様とのコミュニケーショ ンや社内の関連する部門間の情報伝達と報連相に努 め、お客様の痒いところに手が届くような的確で細や かかつ速やかに対応します。 5． 潜在する品質・技術課題の抽出と早期の解決に向けて 継続的かつ計画的に取り組み、製品品質（Ｑｄ、Ｑｐ） の向上を図り、不適合発生の根絶に努めます。 6． 重要で適切な品質目標を設定し、計画的かつ早期の解 決を図ります。 　この品質方針は、全社員に周知徹底させ、適宜レビュー し、適切な管理を行います。 2009 年 10 月 1 日

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品質方針

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環境方針

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自社で開発したセラミックコーティングの成膜及び表面改質技術を基盤として、多様な市場二一ズに適応した TiN、TiCN、TiAlN、 CrN、多層膜、さらにはラジカル窒化を主体とした複合処理、その他表面改質に関する種々の技術を市場にご提供しております。大学 や研究機関との共同研究体制により次世代膜として注目されているカーボン系被膜をはじめとする新しいセラミックコーティング膜や 複合処理技術など次世代に通じる新しい表面改質技術の研究開発を積極的に行っています。

On the basis of ceramic coating technology and surface modification technology, which we have developed, we are providing various ceramic coatings such as TiN, TiCN, TiAlN, CrN, multi layered coatings, multiplex treatment with radical nitriding and other surface modification technology, which are most suitable technology for various applications.

And we are going actively to push forward with research and development of new surface modification technology succeeding to next generation such as new ceramics coatings including carbon film being noticed as a next generation coatings and multiplex surface treatment technology through the joint research and development with several universities and other research institutions.

■ 研究開発

Research and Development

理念 日本コーティングセンター株式会社（以下 JCC）は、環 境負荷の低減、省資源、省エネルギーなどに大きく貢献す る真空蒸着技術を基本としたセラミックコーティングの 受託加工事業を展開しております。JCC は、環境保全を 経営の最重要課題の一つと位置づけ、環境関連の法規や環 境上の規範の順守にとどまらず、環境マネジメントシステ ムを基本とした環境改善活動を展開することにより、その 事業活動にかかわる環境汚染の防止、環境の維持改善を目 指し継続的な取組に努めます。 行動指針 JCC は、この理念を達成するために以下の行動指針を 順守し、実行します。 1． 環境負荷の低減に大きく貢献する当社製品の受託加工 事業活動において、環境マネジメントシステムを、有 効かつ適切に運用し、環境の維持に努めると同時に、 継続的な改善を図ることにより環境保全体制の質的向 上を目指す。 2． 受託加工事業活動の過程で発生する有害な化学物質や 廃棄物などに因る環境リスクを予防するために、重要 で適切な環境目標・目的を設定し、技術的・経済的に 可能な範囲で計画的かつ早期の解決をはかり、適宜こ れを見直す。 3． 環境関連法規制および地域住民と同意した協定などを 確実に順守し、一層の改善に努める。 4． 受託加工事業活動によって消費、排出される資源、エ ネルギー、および廃棄物の削減および 3R に努める。 5． この環境方針の全社員への周知徹底をはかるとともに、 一般にも公開する。 6． 環境方針を適宜レビューし、適切な管理を行う。 2011 年 4 月 1 日改定 日本コーティングセンター（株）　代表取締役社長　山根 省三

●

検査装置　

Inspecting instrument

蛍光 X 線膜厚計 ■PVDコーティング装置 PVD coating equipment

　●カソードアーク（CA）式イオンプレーティング装置

　　Cathode Arc type ion plating equipment

　●ホローカソード（HCD）式イオンプレーティング装置

　　Hollow Cathode Discharge type ion plating equipment

　●エレクトロンビーム（EB）式イオンプレーティング装置

　　Electron Beam type ion plating equipment

■DLCコーティング装置 DLC coating equipment

　●イオン化蒸着式コーティング装置

　　Ionization deposition method type coating equipment

　●P-CVD コーティング装置

　　Plasma-Chemical Vapor Deposition method type coating equipment

　●DLC 膜除膜装置 　　DLC removable equipment ■窒化装置 Nitriding equipment

　●ラジカル窒化装置

　　Radical Nitriding equipment ■前処理装置 Pretreatment equipment

　●洗浄装置　　　　 ●真空脱ガス炉

　　Cleaning equipment　　Vacuum heating equipment for degassing

　●WPC ／ショットブラスト装置

　　WPC/shot blasting equipment

　●研磨装置

　　Grinding and polishing equipment

多様化対応の最新保有設備

The latest equipments which are possible to satisfy various needs

JCC partnership company JCC manufacturing extent

・ 蛍光X線膜厚計

X-Ray Fluorescence thickness meter

・ マイクロビッカース硬度計

Micro Vickers hardness tester

・ ロックウェル硬度計

Rockwell hardness tester

・ 光学顕微鏡

Optical microscope

・ 実体顕微鏡

Stereo microscope

・ 表面粗さ計

Surface roughness meter

・ 自動スクラッチ試験機

REVETEST (scratch tester)

・ カロテスター（膜厚測定装置）

CALOTEST (thickness meter)

・ ボールオンディスク摩擦摩耗

試験機

TRIBOMETER (ball on disk type friction and abrasion tester)

・ その他

other

表面改質技術の位置づけ

Category of surface treatments technology

表面処理

Surface treatment

真空蒸着

Vacuum Vapor Deposition

イオンプレーティング

Ion plating

湿式メッキ

Electro/non-electro plating (wet process)

カソードアーク式

Cathode Arc

PVD

（物理蒸着）

(Physical Vapor Deposition)

ホローカソード式

Hollow Cathode Discharge

コーティング

処理

Coating process

エレクトロンビーム式

Electron Beam

イオン化蒸着（DLC）

Ionization deposition method

蒸　着

Vapor deposition process

スパッタリング

Sputtering

CVD

（化学蒸着）

(Chemical Vapor Deposition)

プラズマ CVD

Plasma Chemical Vapor Deposition

熱 CVD

Thermal Chemical Vapor Deposition

TD処理

Toyota Diffusion process

浸漬拡散

Dipping process

溶　射

Thermal Spraying process

ドライフィルム（固体潤滑膜）

Solid Lubricating Film (Dry Film)

塗　装

Painting process

ラジカル窒化

Radical Nitriding

窒　化

Nitriding process

浸透拡散

処理

Diffusion process

塩浴窒化

Nitriding with salt bath

浸　炭

Carburizing process

イオン窒化

Plasma Nitriding

ガス軟窒化

Gas Nitriding

熱処理

Heat treatment process

JCC グループ会社の受託加工範囲 JCC の受託加工範囲

J

coat

PVD

J

coat

＋

α

J

nite

N

+

M

+

N

+

M

+

PVD イオンプレーティングの原理

Principle of PVD ion plating

装置概略図　

Principles of coating equipments

排気

バイアス電源 排気

1）　被膜材料をアーク放電、ホローカソード放電、EB 等によって溶解し、ガスにする

Material is vaporized by means of the energy of Arc discharge, Hollow Cathode discharge, Electron beam and so on.

2）　プラズマ中で被膜原料のガスと反応性ガスをイオン化する

Vaporized material gas and reactive gas are ionized in plasma environment.

3）　製品に印加されているバイアス電圧（負の電圧）によってイオンを誘導する

Substrate loaded bias voltage (negative voltage) to lead those positive ions. Negatively biased substrate leads those positive ions.

4）　製品上に誘導されたイオンが付き廻り性と密着性に優れた被膜を形成する

Those positive ions reach to substrate, form coatings showing good uniformity and good adhesion.

カソードアーク方式

Cathode Arc type

ホローカソード方式

Hollow Cathode Discharge type

蒸発源

Evaporating source Evaporating source

ワーク

Substrate

るつぼ

Crucible

るつぼ

Crucible

ワーク

Substrate Vacuum

Bias power supply

チャンバー

Vacuum chamber

HCD 銃

HCD gun

プラズマ

Plasma

プラズマ

Plasma

上蓋

Canopy Vacuum

プラズマ

Plasma 蒸発源

特許第 2004785号

PVD 法の中で被膜特性や密着力に優れたイオンプレーティング法を採用しました。イオンプレー ティング法は真空中でのプラズマ反応によって高硬度のセラミックコーティング膜を生成させる方 法です。多様な装置を用いて、種々のコーティング膜の生成が可能です。低温度（200℃前後）から 高温度（550℃前後）までの広範囲な温度域で、被処理材に適した温度でのコーティング処理を行う ために、熱による処理材の変形・変質をきわめて小さく抑える事が可能です。 ①　処理温度は低温（200℃）から高温（500℃）の広範囲に渡ります。

Possible to treat various kinds of materials at the wide range of temperature around 200℃

(low temperature) to 500℃(high temperature).

②　印加電圧が大きいため、密着性に優れた被膜が得られます。

Possible to deposit coatings having the characteristic of good adhesion because of loading high bias voltage on substrate.

③　国内最大級の装置により重量物や長尺品、また大量処理が可能です。

Possible to deposit heavy and long substrates using the largest equipment in Japan.

④　複数の蒸発源の組み合わせにより、複合膜や多層膜の生成が可能です。

Possible to deposit multiplex and multi-layered coatings by using combination of multi targets.

①　450 〜 550℃の処理温度で、切削工具の成膜に適しています。

Deposited suitable for cutting tools at 450℃ to 550℃.

②　密着性に優れ、緻密な被膜が得られます。

Possible to deposit superior adhesion and high density coatings.

③　平滑な成膜が可能で、金型等に適しています。

Possible to deposit a smooth coating suitable for plastic injection molds and forming tools.

④　TiCN 処理が可能です。

Possible to deposite TiCN coatings.

カソードアーク式装置 ホローカソード式装置

ホローカソード方式の特徴

Jcoat

PVD

種　　類 Materials 材質名（JIS 等） Material name (JIS)

高速度工具鋼

High-speed steel SKH2、SKH3、SKH10、SKH51、SKH55、SKH57 粉末高速度工具鋼

Powder high-speed steel SKH40 合金工具鋼

Cold/hot-work steel SKD11、SKD11 改、SKD12、SKD61、SKD62 超硬合金

Cemented carbide Brazed cemented carbide P 種、M 種、K 種、N 種、S 種、H 種 ステンレス鋼

Stainless steel SUS304、SUS316、SUS420J2 その他の鋼材

Other steel プリハードン鋼、マルエージング鋼 非鉄金属

Non ferrous material 超硬合金ロー付け品、銅合金、チタン合金、サーメット

Jcoat-PVD 適用材質　

Jcoat-PVD substrate materials for coating

処理温度域にて溶解、変質しない導電体に限ります。

Substrates are limited to materials which possess electric conductivity, do not melt and do not change their physical properties at coating temperature.

We adopted ion plating in PVD method which shows superior film property and adhesion. Ceramics hard coatings are deposited in vacuum by plasma reaction using ion plating process. We can provide various kinds of coatings with our various kinds of these processes. And these processes can minimize distortion or physical properties such as hardness of substrate because those which can treat substrate at wide temperature range around 200℃ to 550℃ can provide the most suitable temperature for coating.

カソードアーク方式の特徴

Features of Cathode Arc Discharge process

Features of Hollow Cathode Discharge process

プライム T

TiN,TiCN

CrN

プライム C

ヴィーナス

TiAIN

ダイモス

マーキュリー W

マーキュリー

※ 1）無潤滑ボールオンディスク：SUJ-2　荷重 5N　　　※ 2）標準仕様：3 ± 1 μ m

被膜特性　

Property of coatings

膜種

Coating Color色調 硬度（Hv）Hardness 摩擦係数

※1

Friction coeffi cient 膜厚（μm）

※2

Thickness 耐摩耗性Wear resistance Corrosion resistance耐食性 耐酸化性Heat proof 耐焼付性Seize resistance

TiN 金　色 2000 〜 2500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ○ ○ ○ ○ TiCN 灰　色 3000 〜 3500 0.30 〜 0.40 1.0 〜 4.0 ◎ △ △ ○ TiAIN 黒紫色 2300 〜 2800 0.30 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ○ ○ ◎ ○ プライム T 赤茶色 3000 〜 3500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ◎ ○ ◎ ◎ プライム C 銀灰色 2300 〜 2800 0.25 〜 0.30 1.0 〜 5.0 ◎ ◎ ◎ ◎ マーキュリー 青灰色 3000 〜 3500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ◎ ◎ ◎ ◎ マーキュリー W 黒灰色 3000 〜 3500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ◎ ◎ ◎ ◎ CrN 銀灰色 2000 〜 2200 0.25 〜 0.30 1.0 〜 10.0 ○ ◎ ◎ ◎ ヴィーナス 黒灰色 3000 〜 3500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ◎ ◎ ◎ ◎ ダイモス 銀灰色 2500 〜 3000 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ◎ ◎ ◎ ◎ ACT 金　色 2000 〜 2500 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ○ ◎ ○ ○ ACC 銀灰色 2000 〜 2200 0.25 〜 0.30 1.0 〜 10.0 ◎ ◎ ◎ ◎ ZrN 白金色 2000 〜 2200 0.35 〜 0.45 1.0 〜 4.0 ○ ○ △ △ 硬質クロムめっき 銀灰色 1000 前後 0.35 〜 0.45 － △ △ ○ △ 無電解ニッケルめっき 銀灰色 500 〜 900 0.35 〜 0.45 － △ ○ ○ △

①　低摩擦係数でより潤滑性に優れた被膜です。

Showing low friction coefficient providing more excellent lubricity.

②　低硬度（1000 〜 2000Hv）で靱性、密着性に優れています。

Superior toughness and adhesion for low hardness from 1000 to 2000Hv.

③　低い内部応力のため厚膜処理（MAX3.0μm）が可能です。

Possible to deposit its thickness up to 3.0μm for low residual stress.

①　低摩擦係数で潤滑性を持った被膜です。

Showing low friction coefficient and superior lubricity.

②　高硬度（2500 〜 3500Hv）で耐摩耗性に優れています。

Superior wear resistance for high hardness from 2500 to 3500Hv.

③　処理膜厚が 1μm なので高精度な製品にもご利用頂けます。

Possible to apply for high precise parts because of 1μm thickness.

①　第３元素の添加により耐熱性が大幅に向上しました。

Heat resistance improves greatly by doping the third elements.

②　中硬度（1500 〜 2500Hv）で密着性に優れています。

Superior adhesion for film hardness from 1500 to 2500Hv.

③　大気・水・油中において低摩擦係数を示します。

Showing low friction coefficient in the air, water and oil.

※スリック -F は『静岡県工業技術研究所富士工業技術支援センター』の技術指導により開発 いたしました。

Slick-F was developed based on the technology of Industrial Research Institute of Shizuoka Prefecture Fuji Technical Support Center.

スリック - S の特徴

Features of Slick-S

スリック - H の特徴

Features of Slick-H

スリック - F の特徴

Features of Slick-F

硬度 Hardness 電気絶縁性 Insulation 耐熱性 Heat resistance 低摩擦 Low friction 耐摩耗性 Wear resistance 厚膜化 Thickening 5 4 3 2 1 0 硬度 Hardness 電気絶縁性 Insulation 耐熱性 Heat resistance 低摩擦 Low friction 耐摩耗性 Wear resistance 厚膜化Thickening 5 4 3 2 1 0 硬度 Hardness 電気絶縁性 Insulation 耐熱性 Heat resistance 低摩擦 Low friction 耐摩耗性 Wear resistance 厚膜化Thickening 5 4 3 2 1 0 膜種 Coating 色調 Color 膜厚（μm） Thickness 硬度（Hv） Hardness 摩擦係数 ※1 Friction coefficient 耐食性 Corrosion resistance 耐焼付性 Seize resistance 酸化温度 Oxidized temperature 処理温度（℃） Process temperature スリック- S 黒　色 2.0 〜 3.0 1000 〜 2000 0.10 〜 0.15 ◎ ◎ 250 200 以下 スリック- H 黒　色 0.5 〜 1.5 2500 〜 3500 0.15 〜 0.20 ◎ ◎ 300 スリック- F 黒色〜虹色 1.5 〜 2.5 1500 〜 2500 0.05 〜 0.10 ◎ ◎ 500 TiN 金　色 1.0 〜 4.0 2000 〜 2500 0.35 〜 0.45 ○ ○ 500 350 〜 550 スリックコートは高真空中でのプラズマ技術を活用して成膜される DLC（ダイヤモンドライク カーボン）膜です。真空炉中に炭化水素系ガスを導入しプラズマによって炭化水素イオンや励起さ れたラジカルが発生します。負の電圧に印可された被処理材に炭化水素イオンが電気的エネルギー によって衝突し、アモルファス構造で低硬度から高硬度のスリックコートを低温（200℃以下）にて コーティング可能です。

Jcoat

スリック

※ 1　無潤滑ボールオンディスク：SUJ-2　荷重 5N

スリックの特性　

Property of Slick

スリック - S スリック - H スリック - F

Slick is a specialized DLC (Diamond like carbon) coating by means of ionization deposition method process developed by ourselves, one of the using plasma technology processes in vacuum environment. Hydrocarbon ions and active radicals are generated by plasma ambient in vacuum chamber which reactive hydrocarbon gas is put in. Hydrocarbon ions possessing electrical potential energy attack to the surface of substrate, negatively biased at high and form Slick on it at low temperature (less than 200℃). Hydrocarbon ions were collided with negative charged substrates by electrical energy, then Slick was deposited on substrate’s surface at low temperature less than 200℃. Slick has an amorphous structure and has the characteristic of low to high hardness and low friction.

①　200℃以下の低温処理が可能です。

Possible to deposit at low temperature less than 200℃.

②　炭化水素系ガスを原料としています。

Made from hydrocarbon gas.

③　平滑な被膜が得られます。

Possible to deposit smooth coating.

④　医療・食品分野においても使用できます。

Possible to apply for medical and food-related parts.

JCC　DLC の特徴

Features of JCC Diamond Like Carbon

10 15 20 25 0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100 絞り力 [k N] Force 加工数（ショット） Shot 未処理 TiN CrN CVD スリック- F 他社DLC パンチ Punch しわ押さえ Blank holder ブランク材 Blank (SUS304) 評価用ダイ

Die for evaluation

分野 Field 適用製品 Application 目的（効果） Intended purpose 相手材 Work piece material

適用被膜 Applicability 切削工具 Cutting tool

凝着防止

アルミニウム合金

H

金型 Forming tools 粉末成形 Powder compression

付着防止

セラミックス、磁性体

Ｓ，Ｈ

深絞り Deep drawing

潤滑性、凝着防止

アルミニウム合金、銅合金

Ｓ，Ｈ

マンドレル Mandrel

凝着防止

アルミニウム合金、銅合金

Ｓ，Ｈ

機械部品 Machine part 搬送ガイド Transportation guide

凝着防止、摺動性

電子部品、非鉄金属

Ｓ，Ｈ

超音波ホーン Ultrasonic horn

凝着防止、耐摩耗性

樹脂、アルミニウム合金

Ｈ

アンビル Anvil

凝着防止、耐摩耗性

樹脂、アルミニウム合金

Ｈ

ポンプ部品 Pump part

耐摩耗性

液体、スラリー

Ｓ，Ｈ

樹脂成型 Resin molding 樹脂金型 Resin mold

付着防止、耐摩耗性

樹脂

Ｈ，Ｆ

エジェクターピン Ejector pin

摺動性

樹脂

Ｈ

医療器具

Medical equipments 歯科用工具Dental tool

耐食性

─

Ｈ

スリックのアプリケーション　

Application of Slick

スリック - F の無潤滑深絞りプレスの事例

Deep drawing press under no lubricating using Slick-F

加工力の推移（SUS304）

（設備：都立産業技術研究センター）

Testing machine : Tokyo metropolitan industrial technology research institute

Transition of processing force

ドリル エンドミル リーマ Drill Endmill Reamer

Jナイトの特徴

Features of Jnite

特許第 2947445号

J ナイトは窒化反応に有用と考えられる活性種（ラジカル）を発生させ、窒素分子イオンがほとんど 存在しない低イオン密度のプラズマを形成し、スパッタリングを抑制した窒化を行うことを特徴と しています。このプラズマを利用して、化合物層の生成及び表面粗度の低下を抑制することが可能 となりました。

Jナイト

ラジカル

窒　　化

適用材質一例　

Substrate material for Radical Nitriding

代表的な材質名（JIS 等）

合金工具鋼 Cold/Hot work steel

SKD61、SKD62

SKD11、SKD11 改（DC53 等）、SKD12

高速度工具鋼 High speed steel

SKH2、SKH3、SKH10、SKH51、SKH55、SKH57 粉末高速度工具鋼

ステンレス鋼

Stainless steel SUS420J2、SUS304 その他鋼材 Other steel プリハードン鋼、マルエージング鋼 0.18 0.16 0.14 0.12 0.1 0.08 0.06 0.04 0.02 0 表面粗さ Ra, μm Roughness 窒化深さ，μm Ｊナイト イオン窒化 ガス軟窒化 化合物層 0 8 12 窒化材質：SKD61 拡散層 130 130 130 未処理

non treatment ＪナイトJnite イオン窒化Ion nitriding Gas soft nitridingガス軟窒化

1300 1200 1100 1000 900 800 700 0 100 200 300 400 表面からの距離 ,μm Distance from surface

2 時間 6 時間 12 時間 硬度 ,Hv0. 1  Hardness

窒化方法の違いによる表面粗度の変化

Transformation of surface roughness by different nitriding method

J ナイト処理した SKH51の断面硬度分布

Profile hardness distribution of nitrided (Jnite) SKH51

化合物層が見られません。

Radical Nitriding

①　表面状態をほとんど変化させず鏡面性が保たれ、後加工が不要です。

Possible to keep specularity without changing of surface condition.

②　化合物層の形成なしに拡散層のみの窒化を行うことが可能です。

Possible to form only hardened diffusion layer without compound white layer.

③　寸法変化を非常に小さく抑えることが可能です。

Possible to prevent changing dimension.

④　処理表面に PVD 法などとの複合処理が容易です。

Easy to manage multiplex treatment such as Jnite with PVD.

J ナイト処理装置

J ナイト処理後の組織写真

The generation of compound layer and the deterioration of surface roughness can be controlled by using this plasma. Using this plasma, it is possible to prevent the formation of compound white layer and damage of surface condition by nitriding process.

特許第 1994196号、第 2773092号、第 2989746号

最近の表面処理は用途が多様化する中でより高性能化、より厳しい使用条件に耐えうる表 面改質技術が要求されるようになってきました。Jcoat+ αは、イオンプレーティング法と、 基材の強化を目的とした浸炭、窒化、ショットピーニングなどとを組合せ、セラミックコー ティング膜の一層の性能向上を図るとともに、従来の高温処理の欠点を補うプロセスです。 ①　寸法変化を非常に小さく抑えることができます。CVD・TD 等と比較して低温処理ですが、同等寿命が期待できます。

Almost the same performance is obtained though it is processed at a low temperature compared with CVD and TD process.

②　繰り返し処理が可能なため、金型自体を長期ご使用できます。

Possible to use molds and die for long time.

③　被膜下の基材から機械的強度を上げることができます。PVD 膜の性能向上が図れます。

Possible to improve a performance of PVD coatings.

試験条件

　

Test conditions

160t ナックルジョイントプレス （神奈川県産業技術センター）

ポンチ材質：SKH51＋各表面処理 被加工材：SS400（ボンデ処理品）

Test machine 160 ton Knuckle joint press (Kanagawa Industrial Technology Center) Punch material; SKH51+various kinds of surface treatment

Work material; SS400 (after bonderized)

低温処理品である Jcoat+ αは同じ低温処理品に対してだけでなく、 高温処理品と比較しても同等以上の耐かじり性を発揮しました。

Punch applied Jcoat+α processed at lower temperature showed not only much better performance of galling resistance than that of normal coatings with normal ion plating at lower temperature but also almost equal or better performance than that of other surface treatments at high temperature.

Jcoat

＋

α

複合処理

スクラッチ試験による Lc 値 , N 80 70 60 50 40 30 20 10 0 TiN/SUS304 TiN/SKD11 TiN/SKH51 TiN/ 超硬 0 200 400 600 800 1000 1200 1400 1600 1800 基材硬度 , Hv TD 処理 Jcoat+α（CrN） TiCN CrN TiN Lc 値（摩擦力判定） Lc 値（AE 判定） 0 20 40 60 80 100 スクラッチ試験による Lc 値 , N 4 3 2 1 0

きず深さ（μm） _{Depth of damage groove}

J coat+α （CrN） 未処理 PVD-VC PVD-CrN CVD-TiC/N TD-VC 各種処理のきず深さ測定結果 ナックルジョイントプレス 装置概略図 ポンチ カウンタポンチノックアウトピン 被加工材 ダイ

スクラッチ試験による膜密着力の比較

基材硬度と膜密着力の関係

Multiplex treatment

Jcoat＋αの特徴

Features of Jcoat+α

Comparison of adhesion by scratch test

Relation of substrate hardness and adhesion

100ショット加工後のポンチ R 部の状態（キズ深さ）の観察結果を示します。

Observation result of surface conditions after 100 shots (depth of damaged groove caused by galling) is shown in the following graph.

Surface modification technology has been demanded to have the function which can provide high performance or high durability under severe conditions with the diversification of application. Jcoat+α is the excellent process combining ion plating process with Carburizing process, Nitriding process, Shot peening process and so on in order to improve the function still better and complement the weak point of traditional processes under high temperature such as CVD process.

金属やセラミックス、サーメットなどの1000 種類にも及ぶ材料をさまざまな熱源を用い溶融噴射 し、基材表面に材料を噴きつけて機能被膜を形成する表面改質技術です。 他の表面改質法とは異なり、極めて高いフレキシビリティーを持っています。 ドライフィルムは耐摩耗性、安定摩耗、初期なじみなど 潤滑性が要求される機械部品の表面に MoS2や PTFE を ベースとした潤滑剤を塗装し、200℃以下の温度で乾燥・ 固化させた乾性潤滑膜です。あらゆる分野での潤滑剤が 不可欠な機械部品において、油脂類による汚染や油脂類 の使用を避けたいというご要望に最適な潤滑膜です。 高温の溶融塩浴中に目的の加工物を浸漬し、基材表面にバ ナジウム、ニオブ、クロムなどの炭化物を拡散浸透させる ことによって優れた機能被膜を形成する表面改質法です。 複雑な形状の加工物でも均一で極めて硬い被膜（断面硬度 3200 ～ 3800Hv）を作ることができ、金型業界ではなく てはならない表面改質技術として高い評価を得ています。

TD Process is a surface modification process to form excellent coatings consisting of carbide of Vanadium, Niobium, or Chromium, using one of the high temperature salt bath. It’s possible to form hardened layer with cross-sectional hardness as high as 3,200 to 3,800Hv. on a complex shaped substrate, that is highly appreciated as an indispensable surface modification technology especially in forming tools.

Thermal Spraying is surface modification technology to form functional coatings with the technology which is to melt with various kinds of heat sources and spray more than 1,000 kinds of metals, alloys, ceramics, cermets and so on and spray them onto surface of various kinds of substrate. This process has very high flexibility, which is differ from other surface modification processes.

Dry Film is a solid lubricant film using MoS2 or PTFE as materials painted or sprayed, dried and solidified at the temperature of less than 200 ℃, which can be applied to various kinds of substrates such as machine parts demanding wear resistance, stable wear, lubricity in pre-running and so on. This film is the most suitable lubricant which can satisfy the demand that is to avoid the contamination of lubricant oil or grease and the use of them.

Thermal Spraying

溶射

Dry Film

ドライ

フィルム

TD process

TD

処理

①　ほとんどあらゆる材質の基材に形成が可能。

Possible to spray the coatings onto substrate made of all kinds of materials.

②　加工物の寸法に制限が無く、大型基材の一部分に形成が可能。

Possible to spray the coatings onto a limited part of large sized substrate without a size limit.

③　溶射加工時による熱の歪みが少ない。

The dimensional change by heat while spraying is a little.

④　成膜速度が速い。

Possible to spray the coating onto substrate with high speed.

溶射の特徴

Features of Thermal Spraying

表面分析受託試験業務　

Surface analysis business

項　　目 Items 内　　容 Contents 膜厚 Thickness of coating カロテスター、蛍光 X 線膜厚計　

CALOTEST (thickness meter), X-Ray Fluorescence thickness meter 表面粗さ

Surface roughness

表面粗さ Ra,Rz など　 surface roughness Ra, Rz 密着性評価

Adhesion of coating

スクラッチ試験、ロックウェル圧痕による簡易密着性評価　

scratch test, simple adhesion test with Rockwell hardness tester 摩擦摩耗

Friction and abrasion

ボールオンディスク試験（各種材料、各種雰囲気（水・油））　

ball on disk type friction and abrasion test (various materials, under various atmospheres (water, oil etc.)) 硬さ

Hardness

マイクロビッカース硬さ　ロックウェル硬さ　ナノインデンター　

Micro Vickers hardness, Rockwell hardness, Nano indenter 表面観察

Surface observation

表面、断面の組織観察　

observations of surface or cross section structure

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商 号 日本コーティングセンター株式会社

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設 立 1985年（昭和60年）4月1日

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代表者 代表取締役社長　山根省三

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資本金 5,OOO 万円

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株 主 トーカロ株式会社

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所在地 

Address

工場 

Factory

本社・工場

 

Head offi ce・Main factory

〒 252-OO02　神奈川県座間市 小松原 1-43-34

1-43-34, Komatsubara, Zama, Kanagawa pref., Japan TEL：046-266-5800 FAX：046-266-5850 一宮工場

 

Ichinomiya factory 〒 491-0822　愛知県一宮市 丹陽町伝法寺3201

3201, Denpoji, Tanyo-cho, Ichinomiya, Aichi pref., Japan

TEL：0586-75-0760 FAX：0586-75-0761

営業部

 

Sales department

〒 252-0002　神奈川県座間市小松原 1-43-34

1-43-34, Komatsubara, Zama, Kanagawa pref., Japan

TEL：046-266-5800　FAX：046-266-5850

営業所 

Sales branches

北関東営業所

 

Kitakanto branch

〒 323-0807　栃木県小山市城東 1-12-25 ヤエスビル 1F

1F, 1-12-25, Joto, Oyama, Tochigi pref., Japan

TEL：0285-20-3910　FAX：0285-20-3911

名古屋営業所

 

Nagoya branch

〒 491-0822　愛知県一宮市丹陽町伝法寺 3201

3201, Denpoji, Tanyo-cho, Ichinomiya, Aichi pref., Japan

TEL：0586-75-0760　FAX：0586-75-0761

関西営業所

 

Kansai branch

〒 658-O013　兵庫県神戸市東灘区深江北町 4-13-4

4-13-4, Fukae-kitamachi, Higashinada ward, Kobe, Hyogo pref., Japan

TEL：078-435-6375　FAX：078-452-8185

西日本営業所

 

Nishinihon branch

〒 800-0304　福岡県京都郡苅田町鳥越町 1-48

1-48, Torigoe-cho, Kandamachi, Miyako-gun, Fukuoka pref., Japan

TEL：093-436-1331　FAX：093-436-1414

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取引銀行

三井住友銀行町田支店 三菱東京UFJ銀行大阪駅前支店

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ホームページ URL

http://www.jcc-coating.co.jp 1985年 住友金属鉱山（株）と住友商事（株）の合弁会社として 設立。米国マルチアーク社より PVD（物理蒸着）法 の技術導入。カソードアーク（以下：CA）式イオンプ レーティング装置を設置。 1987年 CVD（化学蒸着）法の技術導入。熱 CVD 装置、真空 熱処理装置、イオン窒化装置を設置。表面改質の総合 メーカーを目指す。大阪市中央区に大阪営業所開設。 1989年 CrN、ACT、ACC 等セラミックコーティング膜を市 場に投入開始。 1990年 ホローカソード（以下：HCD）式イオンプレーティン グ装置を導入設置。イオンプレーティング分野での多 様化を図る。TiAIN セラミックコーティング膜を市場 に投入開始。名古屋市東区に名古屋営業所を開設。 1991年 増産対応に伴い本社・工場社屋を新築する。それに伴 い HCD 式及び CA 式イオンプレーティング装置を増 設。TiCNセラミックコーティング膜を市場に投入開始。 1992年 住友金属鉱山（株）100％の子会社となる。HCD 式大 型イオンプレーティング装置を設置。ラジカル窒化の 市場投入開始。 1995年 CA 式イオンプレーティング装置を増設。エレクトロ ンビーム式イオンプレーティング装置を住友金属鉱山 （株）中央研究所より移管。 1996年 増産対応のために本社・工場社屋の拡張。併せて世 界最大級の CA 式イオンプレーティング装置の設置、 DLC（ダイヤモンドライクカーボン）膜の開発に着手。 1997年 埼玉県川口市に北関東営業所を開設。 1998年 CA 式イオンプレーティング装置の増設。 1999年 福岡市中央区に西日本営業所を開設。DLC 膜の市場 投入開始。 2000年 新型 CA 式イオンプレーティング装置の導入設置。 IS09002 認証取得。 2001年 増産、短納期対応のため愛知県一宮市に一宮工場新設。 それに伴い CA 式イオンプレーティング装置を増設。 DLC 大型装置の増設。名古屋営業所を一宮工場に移 設、販製に一体化を図る。 2002年 IS014001 認証取得。 2003年 一宮工場に CA 式イオンプレーティング装置を増設。 新高機能膜（プライムコート T、C）の市場投入開始。 2004年 プラズマ技術への特化をめざし CVD 受託加工業務の 終了。住友金属鉱山（株）からトーカロ（株）へ 100％ 株式譲渡。プライムコートの増産対応として CA 式イ オンプレーティング装置を増設。スリックコート -S の市場投入開始。 2005年 一宮工場に CA 式イオンプレーティング装置を増設。 本社工場にて Jcoat ＋α（複合処理）増産体制の確立。 2006年 本社工場・関東営業所の移転により新本社工場生産体 制の増強。HCD 及び CA 式イオンプレーティング装 置を増設。 2007年 本社工場に CA 式イオンプレーティング装置を増設。 DLC 処理大型装置の増設。 2009年 本社工場に CA 式イオンプレーティング装置を増設。 2010年 一宮工場に CA 式イオンプレーティング装置を増設。 2012年 一宮工場を拡張し CA 式イオンプレーティング装置を 増設。

会 社 概 要

会 社 の 沿 革

本社・工場 一宮工場

Trade Name; Japan Coating Center Co.,Ltd. Foundation; April 1, 1985

Representative; President, Shozo Yamane Capital; 50 million Yen

Stockholder; Tocalo Co.,Ltd.

日本コーティングセンター株式会社