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化学プラントにおける計算機制御システム

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U.D.C.ムる.012-52:占81.323/.324.022.0る

化学プラントにおける計算機制御システム

Computer

ControISYStemin

ChemicalP】ant

利手卸用計算機の適用分野として古い歴史を持つ化学プラントは,初期のデータ ロ ガー システム,最適化制御システムから放近のDDCシステム,シーケンス制御 システムとその適用方法,及びソフトウェア ア【キテクチャも比較的定形化してき ている。したがって,拉近のソフトウェア頸fHの呵大に対する手段としての問題向 き言語化も進んでいる。更に,CRTを利用したマン マシン インタフェースによ るプラント運転の安全化,マイクロ コンビュ【タの利用による分散化制御システ ムなどが注目されてし、る。 本稿は,主に上記のソフトウェア アーキテクチャ,FHj題向き言語を中心に具体例 により解i子施するとともに,化学プラントの今後の動向について触れる。 11

言 1960年代の前半より実用化が始まった化学プラントでの制 御用計算機ほ,当初,連続プロセスでのプロセス監視,デー タ ロギング,最適化制御など,主にスーパバイザリ コント ロールに用いられた。その後の一半導体技術革新による計算機 ハードウェアの性能向上とともに,その用途も広がり,DDC (Direct DigitalControl),シーケンス制御などダイレクト コントロ【ルにも伴われている。 -一方,このような制御用計算機の応用が進む中で,ソフト ウェアの製作に要する費用も年々J ̄丁・7大L,拉近では,計算機 システムのコストに占めるソフトウェアの1刊でナは,30∼40% になってきている。このソフトウェア費用の叩大に対する手 段として,ソフトウェア作業の標準化,省力化を行ない,ソ フトウェアの生産性向上を図ることが急務となってきている。 本稿は化学プラントでの計算機システムにつき,ソフトウ ェアを中心に述べる。なお,新電子式制御装置∑シリーズと HIDIC 80のリンケージ及び化学プラントでの制御用計算機 の役割については,本誌昭和51年3月号の小特集,新しい工 業計測・制御の中で「計測制御における電子計算機の役糊+ と是重し述べてし、るので参照されたい。 B

化学プラントにおける計算1幾システム

制御用計算機の適用が歴史的に古い化学プラントでの計算 機システムの構成は,比較的定形化しているといえる。図1 に示すように, (1)本社などで各工場からのプラント運転情報の収集や工場 への生産指令をつかさどるMIS(ManagementInformation SysteIⅥ)レベルの事務用大形計算機システム (2)MISからの生産指令により各工場で(3)のDDCレベル の計算機群,あるいは計器群をスーパバイザリ コントロール

するSCC(Supervisory

Computer Control)レベルの制御 用計算機システム

(3)SCCからの指令によりプロセスをダイレクト

コントロ ールするDDCレベルの制御用計算機 の3レベルに階層化が行なわれ,各レベル間は種々のデータ 通信方式により接続されるシステム構成が定着している。 S CC及びDDCがHIDIC 80の利用される分野である ̄。 長谷川邦夫* 肋5叩α仇∬umJo 四元 弘志* γ0デぶ址爪OJo仇roざんf 三井 善夫** 肌′5"f m5んfo SCCはプロセス入出力装置のほかに磁妄毛ドラムや磁∼もディ スク,ライン プリンタやカードリーダなどを備えた比較打J 大形システムとなる。DDCは高速処〕哩件や高仁細り空を要求 されるため,コア オンリm システムとすることが多い。 二拉近は安価なマイクロ コンピュータを利用Lたディジタル 計抑制御システムが巾_呪し,DDCの採用がますます多くな ってきている。8ループから30ループ程度に危険分J枚を行な い,プラント全体のコントロール ループとしての危険分J牧を 図りイ言相性を向上させている。-一方,HIDIC 80などの制御 用計算機によるDDCシステムはCPU(CemtralProcessor Unit),コア メモリなどの二重化を図り信鰍托を向上させて いる。前部の危険分散システムではシステムとして安価なも のを其朋寺できるが,分才孜化ル【プ数がプラント運転上の安全 惟を考寝して,効果的にブ央められるかどうかが問題となり, 後弟はより高い信締性を期待できるが,小規模のプラントで は従来のアナログ計装に比べてコスト的なメリ、ノトを出せる かどうかに問題があり,現状では ′-長一一一触があるといえる。 HIDIC 80の適用例と して,そのモジュール構成を生かし たDDCレベルのハードウェア構成例を図2に示す。同図で は,対象プラントは大別して,プロセスA,Bに分かれ将来 はプロセスCが士■ごり設される予定である。GM(GlobalMemory) は各CPUから共通的にアクセスできるコア メモリであり, ∴垂化などの高信綿度化を図l),プロセスとの人出力情報, コントロール バラメータなどのほかに,後述するPOL

(Problem Oriemted Language:問題向き言語)で記述する

プログラムを収納しておく。PM(Private Memory)はCPU のシステム プログラムやパッケージ プログラムを収納し, 各CPU刷で同・一のメモリ内容とすることにより,万・-, CPUあるいはPMが故障した場合に,他のCPUによりバ ックアップすることが容易にできる。プロセスA,あるいはB の制御機能の変更のためには,GMの内容を佗正することに よr)可能である。大規模な拡張としてのプロセスCの追加の場 合には,破線で示す部分を追加することにより,実線で示す 既に稼動している部分には影響のない形で拡張が可能となる。 一方,このハードウェアを駆動するソフトウェアは,図3 に示すように標準化された標準パッケージと,この標準バッ * 日立製作所大みか工場 ** 日立製作所計算制御技術本部

(2)

i孟J賀王 ll ≡訂 誘引 MIS 計算横 磁気テープ磁気ディスク SCC

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プロセス入出力秦荘 DDC 計算機

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コンソールプ咄ス入出力耕 計 器 リ ガ 信  ̄号 シ l 、、ヶ サ .▲.ゝ ナ「 開 閉 測 定 値 調節計 .▲▲ 升 開 度 弁弁 関状 00閉態 ホールド ステーション ム測

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SCC=Supe「visory Computer ControI DDC=D什eCt DlgitalConlrOl 図l イヒ学プラントにおけるハイアラーキ計算1幾制御システム プラントでの検出器やパルプから,計器.更にDDC,SCC,MIS用の計算寸幾が 有機的に1婁轟売され,ハイアラーキ構成をなしている。 ケージを使用するための仕様とに分離し,前者はPMに,後 者はPOLで記述し,対象プラントとの入出力情報などのデ ータと同一の考え方でGMに収納する。 このように,HIDIC 80の特長を生かしたハードウェア及 びソフトウェア構成により,信頼性,拡張性及び保守性に優 れたDDCシステムを作りあげることができる。 日 ソフトウェア アーキテクチャ 3.1 アーキテクチャ SCCとDDCを対象としたソフトウェア アーキテクチャ につき述べる。 GM System A

System B

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プロセス 〓) P一8 ハレ ー M、 P 王/0 Ⅰ/0 1 平

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I/0=Input Output Device

PI/0=ProcessInput Output Device

図2 DDCレベルのハードウェア構成例 GMを中心としたマルチ コンピュータ構成により,信頼性,拡張性に優れたシステムとなっている。

必要とされる 機 能

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PM プログラム 機 能 処 理 ジェネレーション 注:POL=Problem Ori帥edJanguage(問題向き言語) ハードウェア 区13 DDCのソフトウェア構成例 図2で示したハードウェア構成を 有効に;舌用L,信頼性,拡張性及び保守性に優れたシステムとするためのソフ トウェア構成を示す。 制御用計算機システムの機能は,一般的に次の五つの機能 に分類することができる。 (1)入出力処理機能

(2)データ処理機能

(3)コントロール処理機能

(4)ファイル処王里機能

(5)マン

マシン インタフェース機能 一方,プラント全体の情報管理とプロセス制御のスーパバイズ

(3)

化学プラントにおける計算機制御システム 453 S P C 処 理 特 殊 演算処理 最適化 演算処理 プロセス 変数処理 コントロール 演算処理 アナログ 出力処理 コントロール モニタ処理 ロジカル 変数処理 データ ロギング 処 理 間 接 計算処理 マンマシン インタフェース 処 理 シーケンス 制御処理

注:PCS=Process Cont「OISoftwa「e System DAS=Data Acq山Sition System

DDC=Direct DigitalControI SEC=Seque【Ce Cont「oI SPC=Set Point Control

図4 イヒ学プラントにおけるソフトウェア アーキテクチャ DAS.DDC,SECの三つのシステム を中心とLて,化学プラント用計算機制御システムのソフトウェア アーキテクチャが構成されている。 を巨=】勺としたSCC用計算機は次のような特徴を持っている。 (1)工場あるいはプラント全体の情報を扱うため,比較的シ ステム規模が大きい。 (2)拉適化計算,特殊演算などの高級演算機能を必要とする。 (3)情報制御が主体となるため,大容量ファイルが必要であ り,ファイル処理機能が充実している必要がある。 また,ユニット プロセス単位のプロセ補Ij御を目的とした DDC用計算機は次のような特徴を持っている。 (1)ユニ、ソト プロセス単イ立のプロセス制御を扱うため,比 較的システム規模が′トさい。 (2)DDC,シーケンス制御などの直接プロセスを制御する 機能を必要とする。

(3)プロセス制御が主体となるため,信鰍性向上のためのソ

フトウェアを持っている必要がある。 このような背景のもとに,HIDIC 80では図4に示すよう に,S CCを対象とするPCS/DAS(Process ControI

Software System/Data Acquisition System)とDDCを

対象とするPCS/DDC(Process ControISoftware

Sys-tem/Direct DigitalControl),PCS/SEC(Process

Con-troISoftware System/Sequence Control)の_丁二つのシステ

ムを中心に化学プラント用計算機制御システムのソフトウェ ア アーキテクチャを構成している。 3.2 プログラミング言語 以上に述べたソフトウェア アーキテクチャを実現する手段 としては,大別して手続向き言語とPOLの∴つがある。 POLは,個々の問題ごとの処理のために開発される言語で あー),図5に示すように容易にシステムをジェネレーション する手段として利用される。一方,手続向き言語は,容易に プログラミングする手段であり,システムをジェネレーショ ンする手段ではない。したがって,ソフトウェアの生産性を 向上するためには,PCL(Process ControILanguage)な どの高級手続向き言語により標準化されたパッケージをPOL ディジタル 出力処理 シーケンス モニタ処理 の記述によりシステムとして構成することが有効である。 このような考え方から,PC SはPOLにより利用するこ とを前提としている。 【l PO+とその応用 これまで述べたように,PC SはPOLにより答易に,か つ高度なシステムを枯成できることを目的とする。 次にPOLとその応用例を紹介する。 4.1 記述方式 POLの記述方式は,目的によって「空欄穴埋方式+と「ス テートメント記述方式+に付い分∵けられる。 空欄穴埋方式は,記入すべき必要情報が,記入シⅦトに網 羅されてし-るので検めて安易に記述できるなどの紆艮を持っ ているが,反面,

(1)不必要な情報が多すぎることになりやすい。

(2)特殊処理の追加がやりにくい。 (3)完全に標準化されないと記入シートの設計ができない。 プロ 牝 にプ す.考手段 図5 エ業用計算機における言語体系 ソフトウェアの生産手段とし ての手続向き言語と問題向き言語の位置づけを明確にしている。

(4)

ステートメント記述方式は,シーケンス コントロールやマ ン マシン システムなどのように,ユーザーごとに全く異な った問題を処理するのに適し, (1)必要な情報だけを記述すればよい。

(2)特殊処理に有利で手続き向き言語との併用が容易。

(3)標準化されたものから順次機能を拡張できる。 などの特長を有するが,反面, ̄文法上の規則を覚える必要が あるなどの欠点がある。 PCSでのPOLは目的によってこれらを使い分け,その 中で特長を生かし欠点を補う記述方式を選択している。 4.2 PCS/DAS PCS/DASは,SCCレベルの大容量ファイルを持って いるシステムでのオンライン プロセスデータ処理,及びSPC

(Set

Point Control)などの制御に応用する空欄穴埋方式の

ソフトウエア システムである。 PCS/DASの持つ主な機能は次のとおりである。 PeS/DAS SPE()SHEET 牧婁 (2)プロセス変数モニタリング

(3)制御及び出力

(4)特殊処理リンケージ

PCSノDASの特長は,データ ベースを統一することによ りメッセージ処理,レポート処理,及びユーザーの各種処理 などとのリンケージを容易にし,S CC計算機ソフトウェア システムの中枢としての役割を果たすところにある。 図6にPCS/DASのSPEC SHEET例を示す。 ヰ.3 PCS/DDC PCS/DDCはDDCレ〈りレのコア オンリー システムに 適用するDDC用ステートメント記述方式のソフトウェア シ ステムである。このDDCは次項に述べるPCS/SECと密 接に連係し,アナログ計器などでは実現できない高度な制御 を可能にする。最近では,従来のアナログ計器の置き香えだ けでなく,プロセスからは直接計測できない間接演算値によ る制御,プログラム制御,その他技術的,又は経済的に実現困

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30 32 33 図6 PCS/DAS SPEC SHEET例 空欄穴埋方式に より,プロセス変数ごとにSPEC SHEETに記入する。

(5)

FORMAT EXAMPLE 1 2345 6 781011 16 20 30 40 C

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岳 図了 PCS/DDC SPEC SHEET例 ステートメント記述方式である が,大半のものが本例を参考にLて記述できる。 雉であった各校の高級制御方式の実現に広く利用されるように なってきており,POLによる自由な記述が効果を挙げている。 また,PCS/DDCはモジュール方式で計器イメージを実 _呪しているため,調節計の機能を付加しなければ一般のデー タ処理のためのプロセス変数処理,モニタリング処理,特殊 演算処理などにも適し,デmタ ロかl-としても大いに利用価 仲▲がある。 図7にPC S/DDCのSPEC SHEET例を示す。 4.4 PCS/SEC PC S/SECは,DDCレベルのコア オンリー システム に適用するシーケンス制御用ステートメント記述方式のソフ トウェア システムである。このSECは,先に述べたように PCS/DDCとの連係により,ユーザ【のエンジニアが容易 に,かつフレキシブルな制御システムを構成することを可能 にしたソフトウェア システムである。 図8はON-OFF弁の操作のためのVALVE命令の機能を リレー シmケンスで表現した例である。同図のようにSEC のマクロ命令は,あるまとまった単位のシⅥケンス動作を日 常言語で表現し,これをつなぎナナわせることによって一辿の シーケンス制御を可能にする。バッチ プロセスや連希う■己プロセ スでのスタート アップ,シャ、ソト ダウンのシーケンス処理 にDDCと組み合わせて,よ り効果的に利用することがで きる。 VA+∨巨(VlOOl,OPEN)

1

VALVE(VlOOl,CJOSE) 注:MgV=マグネット ′りレフ

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__+ 図8 PCS/SECの機能例 リレー回路によるユニット シーケンスが駆 動され,バルブの開閉が行なわれるがプログラミングとしては.簡単なマクロ 命令の記述でよいことを示している。 化学プラントにおける計算機制御システム 455 表I PCS/MMCの機能例 poc,CRT及びタイプライタのフォーマッ ト作成をサポートするシステムである。 言言吾名 目 的 POC/POL 標準ハードウェアと種々に異なるユーザーズオペレーショ ンとを結びつけ,オペレーターズ コンソールの機能を自由 に構成させるための言語 CFT/POし カラーCRTディスプレイによる文字表示,図形表示ソフト ウェアを.容易に作成できるようにLたCRTのためのフオ -マット トランスレータ 二れにより,パアーチャルパネル,パアーチャル ブラン トなどの新しい発想が】見実化される。 TFT/POL メッセージ印字やロギングなと-の印字ソフトウェアを,自 由に作成できるようにしたタイプライタのためのフォーマ ット トランスレ一夕 4.5 PCS/MMC

PCS/MMC(Process

ControISoftware System/Man

Machime Communication)はカラーCRTディスプレイを仙 川するPOC(Process Operator'sConsole)を[トL、とした マン マシン コミュニケーションのためのソフトウェア肘で, これには表1にホすような各柁のバリエーションがある。 ̄拉 近のマン マシン コミュニケーション システムは,安全制御 という面からもその果たす役州は極めて重安で,分かりやす い表J札 簡単なオペレ”ション,誤操作の防止,オペレーシ ョン ガイドなど,オペレータと直接会;活する部分について は,人l言与】二「学的な考察によ-)違和感のない仙いやすいシステ ムを楠成する必要がある。ニれらの中心となるカラーCRT ディスプレイは,よI)高密度化するにつれてそのソフトウェ アも袴雉,かつ大岩になる方r ̄己小二あり,より似いやすいPOL が必要とされている。 かつて,日本電一丁工業振興協会でPOCのハ耶ドゥェアの 設計鵜準を定めたが,今まさに,カラーCRTを含んだソフ トウェア システムの標準化が急務となっており,椎々改 ̄拝さ れつつ発展するものと考`える。 4.6 プロセス制御における応用例 以上述べてきたPOLの応用例として,図9に加熱炉の制 御システム例を示す。この加熱炉のスタート アップを行なうた めのPCS/DDC,PCS/SECによる記述例を図10にホす。

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V202 V201 図9 加熱炉の制御フロー例 計算機によるDDC及びシーケンス制御 を行ない,スタート アップなども自動化する例である。

(6)

STP

欝汀宣監鰐璽㌫

(US500〉(DIT+0,XXXXOlO柑101()10†,STP8) (P鮒2十MS,GE,5∝氾,STP6) (FlOl十SV,EO,500) (F201十SV,EO,50) (T101+SV,EO,500) (Fl()1;POUT,2,WAIT) (F201.POUT,2,WAIT) (VlOl,OPEN) (FlOl,S=S,WAIT) (F10けMS,GE.ヰき0,STP2) (V201,OPEN) (V30l,OPEN) 行元訂て弼有「  ̄ (F如,S=S,WAエT) US50011昏 US500120 けS5∝〉12も US即氾13g US5(和135 ■-■l■■ll●1-US5001ヰ5 US500185 USら08180 USさ00185 US500200 US剖)0205 US与帥300 USき∝)38さ

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FURNACE OUTLET TEMP COトITROL

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(ICMP)(VREV.F201,SV,END) LAG TIME()OMPENSATION .(XH刀刃,100∞,bp2,PCNT) TlOlOO40 TlOlOOう0 ×101α加)O XTOlOOlO XlOl(和20 IND (STOMS,TlOl+PN) ALM X†010030 OTL (LA()¢P) (.b)PC5/DDO記述例 B

今後の動向

化学プラントでの制御システムでは,かなり早い時期から アナログ技術が確立しており,制御システムの仝ディジタル 化は進んでいないのが現二状である。しかし, ̄最近マイクロ コ ンピュータの出現により,従来,アナログ ベースであったル ープ コントローラをディジタル化して行なおう とする気運が あり,各計器メーカーが巷望品化を始めている。このような背 景の下で,化学プラントの制御システムでの制御用計算機の 果たす役て判は大きくなっていくことは疑いない。 システム構成について言えば,S CC用の計算機は処理す べきデータ量も多くなり,より高信頼度の大型制御用計算機 のニーズが大きくなると思われるが,これを大型の計算機1 台で処理するのではなく,小さなマイクロ コンピュータ,あ るいはミニ コンピュータ預合体によるマルチ コンピュータ により処理する方向に向かうものと思われる。制御用計算機 の二役大の眼目である応答性,信頼性という観点からは,マル チ コンピュータによる分散処理形態が望ましいと考えられ る。DDC用の制御用計算機についても.図2で示したよう な二重化した共通コア メモリを持ったマルチ コンピュータ システムによる高信頼度システムと,マイクロ コンピュータ を利用して徹底した分散化を図ったシステムとの2方向が考 えられる。前者は今までのDDCの延長線上にあるが,後者 は現二伏でのアナログ計器の複数台を一つにまとめた形の発想 であり,その分散する機能,単位をどうとるかにより,従来 の1ループごとに独立し分散化していたアナログ計装との信 頼性比較ということが問題になると思われる。 次に制御用計算機の応用についていえば,経済の高度成長 下での大量生産の時代から低成長の時代へと変わり,より付 加価値の高い生産活動のための制御用計算機の利用がより盛 んになると考えられる。各種分析計の進歩と相まって,オン ラインでの成分分析をクローズド ループ化した製品品質の 計算機制御や,多品種小量生産でのバッチ シーケンス制御 XlOl0040 図10 POL記述例 図9に 示Lた加熱炉のスタート アップ を,計算機により実施する場合の PCS/DDC,PCS/SECによる記 述例の一部を示す。 の計算機制御などの応用が増えるであろう。プラント運転の 安全確保のための制御用計算機応用という面では,まだ模索 中の段階であるとはいえ,70ラントの異常の早期検知,カラ ーCRTディスプレイを駆イ吏したマン マシン インタフェー スによる安全運転のサポートなどが実現しつつあるが,今後 はこの方面への応用が盛んになることは疑いないものと考え られる。 最後にソフトウェアの生産手段についていえば,今後はよ り高級な言語の開発が進められなければならない。本稿でも 述べてきたように,より使いやすいPOLが開発されていく ことになり,更には,ユーザーが容易に自分自身のシステム に合ったPOLを作成できる言語が必要とされることになろ う。現在までにPOL化が進んでいる部分は,プロセスと計 算機のインタフェースに関する部分であり,最近の計算機制 御システムの7一口グラム量の大半を占めている運転員と計算 機のインタフェース,すなわちマン マシン インタフェース に関する部分はPOL化が進んでいない現状にあり,今後は この部分をいっそう推進させる+Z、要がある。 l司 結 言 以上,化学プラントでの計算機制御システムについて,特 にソフトウェアの標準化の観点から述べてきた。POLク)実 用化に当たっては,従来のメーカーの立場からの標準化から 一歩進んで,ユーザーの立場に立った標準化を志向すべく努 力してきたと確信している。この間,ユーザー各位より種々 の御指導をいただいたが,特に東京瓦斯株式会社工務部の子息 井係長,田首係長からは適切な御+功言をいただいた。厚く謝 意を表わす次第である。 参考文献 1)小宮山.山田ほか:「最近の化学プラントにおける計i則制御技 術+,日立評論,57,217(昭50-3) 2)長谷川ほか:「計測制御における電子計算機の役割+,日立評 論,58,185(昭51-3)

参照

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