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高繰り返しパルスパワーモジュレーターの開発

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Academic year: 2022

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高繰り返しパルスパワーモジュレーターの開発

著者名(日) 李 孜

雑誌名 工業技術 : 東洋大学工業技術研究所報告

号 31

ページ 72‑73

発行年 2009

URL http://id.nii.ac.jp/1060/00002041/

Creative Commons : 表示 ‑ 非営利 ‑ 改変禁止 http://creativecommons.org/licenses/by‑nc‑nd/3.0/deed.ja

(2)

◇◇技術報告◇◇

高繰り返しパルスパワーモジュレータの開発

李孜*

1.はじめに

 近年,パルスパワーを用いた大気圧ストリーマ放電に 関する産業応用を目指した研究は進展しており,排ガス 処理,オゾン生成,ダイオキシン分解,殺菌等への応用が ある.高繰り返し・長寿命化が要求される産業用途には 半導体スイッチや磁気スイッチ等の固体素子で構成した パルスパワー発生回路が利用されている.また,パワー エレクトロニクスの発展に伴い,サイリスタやトランジ スタなどのパワーデバイスの高速・大容量化が進んでい る.しかし,現状ではサイラトロンなどの放電スイッチ に比べ高耐圧と高速性の両方を満たしている半導体スイ ソチは見あたらない.そのため数10kVの高電圧を数 100ns以下で立ち上がるパルスパワーの発生には半導 体スイソチを用いるにはパルスパワー特有技術やパルス 圧縮などの回路技術が必要になる.本研究では、基板上 の半導体スイッチと磁気スイッチを用いてパルスパワー 発生装置を開発する.

2.システムの構成

 図1に装置のシステム構成を示す.システムはコント ローラ,充電器,サイリスタスイッチ,磁気パルス圧縮回 路(MPC),放電管から構成される。充電器から供給され たエネルギーはパルスパワーモジュール(PPM)によって 圧縮・昇圧され,放電管で出力される.またパルス発生 のタイミングはコントローラからのトリガ信号で行う.

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図1 パルスパワー発生装置の構成

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 MPCの概略を図2に示す.回路動作はまず,充電器を 用いてCoを所定の電圧で充電する.プリント基板上に 実装された2直列・6並列のサイリスタスイッチをON

して初期パルスを発生する.SIoは磁気アシスト用の・∫

飽和インダクタである。パルストランスPTにより昇圧 された電圧はClに転送され,・∫飽和インダクタSli, SI2 によって順次パルス圧縮され,CrC2−Cpへとエネル ギー転送が行われる.その後,負荷に高電圧パルスが印加 される.ここでSI3は印加電圧パルス幅を調節するため に用いる.負荷にギャップ長9.5mmのワイヤー対平板

電極を用いた.

3.出力波形

 図3に各部電圧波形,図4に負荷電圧・電流波形を示 す.Coを750Vで充電した時の各コンデンサの充電電 圧であり,圧縮が行われていることが確認できる,また,

放電時の負荷出力電圧の立ち上がり時間は100ns以下 であり,放電エネルギーは約0.28Jである.

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図3 各部電圧波形

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図2 MPCの概略図

図4 負荷の電圧と電流波形

*東洋大学  τ:学部

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東洋大学工業技術研究所報告

(3)

李孜

4.まとめ

 小型パルスパワー発生装置を製作し,出ノJ電圧20kV 以上,立ち上がり時間100ns以下を得られた.また,繰 り返し周波250ppsで大気圧ストリーマ放電を発生する

ことができた,

1

︶2

参考文献

T.Sakugawa, D.Wang,K.Shinozaki, T.Namihira,S.Katsuki and H.Akiyama, Repetitive Short・Pulsed Generator Using MPC

and B}umlein Line Proc. Pulsed Power Conference,

pp.657・660, 2003.

E斗艶,浪平隆男,勝木淳,秋山秀典, ハルスハワー方式排ガス 処理に関する基礎研究・NO初期濃度による影響 ,電気学会論文誌,

Vo1.124・A, No.8, pp.741・746,(2004)

工業技術No.31(2009) 一 73一

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