高繰り返しパルスパワーモジュレーターの開発
著者名(日) 李 孜
雑誌名 工業技術 : 東洋大学工業技術研究所報告
号 31
ページ 72‑73
発行年 2009
URL http://id.nii.ac.jp/1060/00002041/
Creative Commons : 表示 ‑ 非営利 ‑ 改変禁止 http://creativecommons.org/licenses/by‑nc‑nd/3.0/deed.ja
◇◇技術報告◇◇
高繰り返しパルスパワーモジュレータの開発
李孜*
1.はじめに
近年,パルスパワーを用いた大気圧ストリーマ放電に 関する産業応用を目指した研究は進展しており,排ガス 処理,オゾン生成,ダイオキシン分解,殺菌等への応用が ある.高繰り返し・長寿命化が要求される産業用途には 半導体スイッチや磁気スイッチ等の固体素子で構成した パルスパワー発生回路が利用されている.また,パワー エレクトロニクスの発展に伴い,サイリスタやトランジ スタなどのパワーデバイスの高速・大容量化が進んでい る.しかし,現状ではサイラトロンなどの放電スイッチ に比べ高耐圧と高速性の両方を満たしている半導体スイ ソチは見あたらない.そのため数10kVの高電圧を数 100ns以下で立ち上がるパルスパワーの発生には半導 体スイソチを用いるにはパルスパワー特有技術やパルス 圧縮などの回路技術が必要になる.本研究では、基板上 の半導体スイッチと磁気スイッチを用いてパルスパワー 発生装置を開発する.
2.システムの構成
図1に装置のシステム構成を示す.システムはコント ローラ,充電器,サイリスタスイッチ,磁気パルス圧縮回 路(MPC),放電管から構成される。充電器から供給され たエネルギーはパルスパワーモジュール(PPM)によって 圧縮・昇圧され,放電管で出力される.またパルス発生 のタイミングはコントローラからのトリガ信号で行う.
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図1 パルスパワー発生装置の構成
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MPCの概略を図2に示す.回路動作はまず,充電器を 用いてCoを所定の電圧で充電する.プリント基板上に 実装された2直列・6並列のサイリスタスイッチをON
して初期パルスを発生する.SIoは磁気アシスト用の・∫
飽和インダクタである。パルストランスPTにより昇圧 された電圧はClに転送され,・∫飽和インダクタSli, SI2 によって順次パルス圧縮され,CrC2−Cpへとエネル ギー転送が行われる.その後,負荷に高電圧パルスが印加 される.ここでSI3は印加電圧パルス幅を調節するため に用いる.負荷にギャップ長9.5mmのワイヤー対平板
電極を用いた.
3.出力波形
図3に各部電圧波形,図4に負荷電圧・電流波形を示 す.Coを750Vで充電した時の各コンデンサの充電電 圧であり,圧縮が行われていることが確認できる,また,
放電時の負荷出力電圧の立ち上がり時間は100ns以下 であり,放電エネルギーは約0.28Jである.
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図3 各部電圧波形
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図2 MPCの概略図
図4 負荷の電圧と電流波形
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東洋大学工業技術研究所報告李孜
4.まとめ
小型パルスパワー発生装置を製作し,出ノJ電圧20kV 以上,立ち上がり時間100ns以下を得られた.また,繰 り返し周波250ppsで大気圧ストリーマ放電を発生する
ことができた,
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参考文献
T.Sakugawa, D.Wang,K.Shinozaki, T.Namihira,S.Katsuki and H.Akiyama, Repetitive Short・Pulsed Generator Using MPC
and B}umlein Line Proc. Pulsed Power Conference,
pp.657・660, 2003.
E斗艶,浪平隆男,勝木淳,秋山秀典, ハルスハワー方式排ガス 処理に関する基礎研究・NO初期濃度による影響 ,電気学会論文誌,
Vo1.124・A, No.8, pp.741・746,(2004)
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