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JAIST Repository: 反応性スパッタ法によるエピタキシャル YSZ / Si 界面における SiOx 層形成の抑制

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Academic year: 2021

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(1)JAIST Repository https://dspace.jaist.ac.jp/. Title. 反応性スパッタ法によるエピタキシャル YSZ / Si 界 面における SiOx 層形成の抑制. Author(s). 国谷, 卓司. Citation Issue Date. 2000-03. Type. Thesis or Dissertation. Text version. none. URL. http://hdl.handle.net/10119/2677. Rights Description. Supervisor:堀 秀信, 材料科学研究科, 修士. Japan Advanced Institute of Science and Technology.

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