ファイバ集積型マイクロ光スイッチの作製とメカニズムの解明

ファイバ集積型マイクロ光スイッチの作製とメカニ

ズムの解明

著者

花泉 修

ファイバ集積型マイクロ光スイッチの

作製とメカニズムの解明

課題番号 09650339

平成9年度∼平成10年度科学研究費補助金

[基盤研究(C)(2)一般]研究成果報告書

平成11年3月

研究代表者 花泉修

(東北大学大学院工学研究科助教授)

目一次

はしがき

研究組織及び研究経費

研究発表リスト

‥研究成果の概要

発表論文一覧

はしがき

光デバイスが加入者系光通信ネットワーク内で多用されるためには,ファイ

バとの結合が容易で安価であることが必要である｡小型･薄型化が達成されれ

ば,光ファイバ直接集積化が可能である｡この技術はヴァ-テイカルフォトニ

クスとして我々のグループによって確立されている｡

媒質の屈折率,吸収係数,あるいはゲインを制御することによる光波の変調

を光スイッチ応用することができる｡高性能なインライン型光スイッチを実現

するには,フォトンの閉じ込めと導波路との結合の高効率化が必須の条件であ

るム このために,我々はフォトニック結晶を利用するという着想に至った｡フォ

トニック結晶とは屈折率の異なる2種類の透明材料が媒質内波長の1/2程度の

スケールで3次元的に周期配列した構造体で,光波の伝搬が遮断される波長領 域と,強い異方性･分散性を持っ伝搬域で特徴付けられる光学特性を有する0

特にあらゆる立体角方向にPBGが開く様に格子構造･屈折率分布が設計され

た3次元フォトニック結晶は､内部に導波路や活性層を埋め込むことにより､

急峻な屈曲や不連続部においても放射損失の生じない光立体回路や､発振闇値

ゼロのレ-ザなど-の応用の可能性を秘めている｡すなわち,ファイバ集積型

マイクロ光スイッチの構成要素として最適であると考えられる｡

この構造は10年来理論的に知られていながら実際的な実現方法がなかった｡ 近年,我々の研究グループはrfバイアススパッタリング法によってサブミクロ

ン3次元周期構造を実現する作製プロセスを考案･実証した｡

本研究は,フォトニック結晶を応用したファイバ集積型マイクロ光スイッチ

の作製とメカニズムの解明を目的として始められた｡

本研究助成を受け2年間研究を進めた結果,いくつかの学術的知見を得ると

ともに,スイッチ素子及びそれを囲む媒体としての3次元フォトニック結晶の

作製技術の確立,その物理的メカニズムの解明,及びフォトニック結晶中-の 導波路作製技術の開発を行い,当初の目標をほぼ達成した｡本冊子は研究の開 始から期間の終了までの経緯と,関連する研究成果を要約したものである｡

研究課題名 ｢ファイバ集積型マイクロ光スイッチの作製とメカニズムの解明｣ 研究組織 研究経費

研究代表者: 花泉 修(東北大学大学院工学研究科助教授)

研究分担者

平成9年度:川上彰二郎(東北大学電気通信研究所教授)

佐藤 尚(東北大学電気通信研究所助手)

平成10年度:川上彰二郎(東北大学電気通信研究所教授)

佐藤 尚(東北大学電気通信研究所助手)

平成9年度    2,100千円 平成10年度   1,100千円 計     3,200千円

研究発表リスト

rl)学会誌等

Y･ G･Lee, T･ Kawashima; 0･Hanaizumi, Ⅰ･Thkahashi, J.Murota, and

S･Kawaknmi, "Low loss laminated polarization splitters for wavelengths

longer than l･3 umprepared by plasma enhances chemiCalvapor

deposition," ThinSolid Films, vol･ 292, pp. 1791183, 1997.

H･ Yoda･ Y･ Ohtera･ 0･ Hanaizumi, and S･ Kawakami, ･'Analysis of

pblarization-insensitive tunable opticalfilter u$lng liquid crystal: connection formula and apparent paradox,'1 0ptiCaland QuantumElectromics, vol. 29,

no. 2, pp. 285-299, 1997.

K T･ Jeong, 0･ Hanaizumi, Ⅰ. Syuaib, K Kashiwada, K KawaSe,and S.

Kawaknmi, "Analysisand assessment Of gain of optically pumped surface･

normalopticalanplifiers," Optics. Conmun., vol. 135, pp. 227-232, 1997.

千葉貴史,大寺康夫,川上彰二郎,

r事夜晶回転波長板を用いた偏波スタビライザと半導体光増幅器-の応用｣ ,

電子情報通信学会論文誌C-Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 5, pp. 292･293, 1997年6月.

T. Sato, R. Kasahara, J. Sun, and S. Kawakami,

"In･1ine opticalisolators integrated into afiber arraywithoutalignment,"

IEEE Photon. Tbclmol.Lett., vol. 9, no. 7, pp. 943-945, 1997.

S. Kawaknmi, "Fabrication of submicrometre 3D periodic structures

composed of Si/SiO2,-- ElectromicsLetters, vol･ 33, no･ 14, pp･ 126011261, July

3,1997.

川上彰二郎,花泉健,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之, ｢Si/SiO2系サブミクロン周 期3Dフォトニック結晶の作製と観察｣ ,電子情報通信学会論文誌C-2, vol.

佐藤尚,星野泰隆,杉山典三,李傭基,川嶋貴之,花泉修,川上彰二郎,

｢積層形福光分離素子の2次元光回路-のハイブリッド集積｣ ,

電子情報通信学会論文誌C-Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 2, pp. 107-108, 1998年2月.

T･ Sato, N･ Sugiyana, J･ Ohno, and S･ Kawakami, ''Fabrication of high

performance laminated polarization splitters consisting of thick

a-Si:H/SiOx:H mdtilayers,一一Appl･ Opt･, vol･ 37, no･ 12, pp･ 2424･2428, April

1998. 川上彰二郎,佐藤尚,川嶋貴之, ｢バイアススバッタ法で作製される3D周期ナ ノ構造の形成機構｣ ,電子情報通信学会論文誌C-Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 2, pp. 108･109, 1998年2月. 川上彰二郎,大寺康夫, ｢フォトニック結晶とその応用光デバイス｣ ,セラミッ クス,1998年7月. 川上彰二郎,花泉健,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之,安田納章,竹井良彦,三 浦健太, ｢自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用｣,電 子情報通信学会論文誌C･Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 10, pp. 573･581, 1998年10月

H. Kosaka, T. Kawashima, A. Tomita, M. Notomi, T. Tamamura, T. Sato and

S･ Kawakami, 〃Superpnsm phenomena in photonic crystals,〟 Physical Review B, γol. 58, No. 16, pp.RIO 096-099, 15 October 1998.

川上彰二郎, ｢3次元フォトニック結晶の作製と応用｣,電子情報通信学会論文

読,学生のページ, γol. 81, m0. 10,pp. 1063-1066, 1998年10月

千葉貴史､大寺康夫､川上彰二郎､一層晶回転波長板-I, OplusE,vol. 20, No. 10, pp. 1145-1150, 1998年10月

0･ Hanaizumi, Y･ Ohtera, T. Sato, and S. Kawakami, "Propagation of light

beams along line defects formed in a-Si/SiO2 three-dimensional photonic

crystals: Fabrication and obseⅣation,一一Opt. & Photonics News, γol. 10, no. 1,

S･ Kawakami, T･ Kawashina, and T. Sato, f'Mechanism of shape･formation of

3D periodic nanostructures by bias sputtering,-I Appl. Phys. Lett., Jam. 1999,

γol. 74, m0. 3, pp. 463-465, Jam. 1999.

花泉健,川上彰二郎, ｢フォトニック結晶とその応用｣,化学工業, γol.50,m0.1,

pp. 47-52, 1999年1月.

0･ Hanaizumi, Y･ Ohtera, T･ Sato, and S. Kawakami, "Optical waveguides in

a･Si/SiO2 Submicrometer 3D photomic crystals: Fabrication and observation,''

Optics & Photonics News, γol. 10, m0. 1, pp. 50-51, Jam. 1999.

0･ Hanaizumi, Y･ Ohtera, T･ Sato, and S. Kawakami,一一Propagation of light

beamsalong line defects formed in a-Si/SiO2 three･dimensional photonic

crystals: Fabrication and observation,一一Appl･ Phys･ Lett･, vol･ 74, no･ 6, pp. 777･779, Feb. 1999.

(2)口頭発表

S. Kawakami, 0. HanaiZmi,and T. Sato, "lD, 2D,and 3D Photomic Periodic

Dielectric Microstructwes: Fabrication Processes and propagation

Characteristics," 2nd Optoelectromics & Commun. Cone (OECC -97), Seoul,

Korea, 8Cl･2(1997)44.

S. Kawaknmi, "Fabrication processes for 3D periodic nanostructures and

photonic crystals," Integ. Photon. Res. qPR ■98), Victoria, Canada,

IM3-1(1998).

Y. Ohtera and S. Kawakami, "Semi-analytical and Numerical

Characterization of Photomic Bragg Waveguides," InternationalWorkshop on

OpticalWaveguide Theoryand NumeriCalModeuing, Hagen, Germany,

(1998).

a-Si/SiO2 Submicrometer 3D photonic crystals: Fabrication and observation,"

Conference on Lasers and Electr0-Optics-Europe (CLEO侶urope -98),

Glasgow, UK, CPD2.5(1998).

T･ Sato, T･ Kawashima, 0. Hanaizumi, Y. Ohtera, and S. Kawakami,

"Fabrication of Si/SiO2 Submicron photonic crystals and its applications,"

29th Winter Couoquium on the Physics of Quantum Electronics, Snowbird, USA, (1999).

SL･一Kawakami, 〃Autocloming: a new concept of fabricating three-dlmensional

photonic crystals,''Wbrkshop on Electromagnetic Crystal Structures, Design, Synthesis, and Applications (WECS), Laguna Beach, USA, (1999).

T. Sato, T. Kawashima, Y. Ohtera, T. Tamamura, M. Notomi, M. Naganuma,

and S. Kawakami, "High-contrastultrathin polarizers/polarization-splitters

utilizing 2D photomic crystal," Workshop on Electromagnetic Crystal

Structures, Design, Synthesis, and Applications (WECS), Laguna Beach,

USA, (1999).

S. Kawakami, "Fabrication and future application of photonic crystals," InternationalTopical Workshops on Contemporary Photonic Technologies

(CPT'99), Sendai, Japan, Pl･2(1999)31.

川上彰二郎,花泉健,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之,

"S〟SiO2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察," 電子情報通信学会ソサイエティ大会, C-3-64, 1997年9月. 土岐和啓,川瀬賢司,花泉健,瀬高隆裕,川上彰二郎, "光励起MQW面型光増幅器の作製と評価," 秋季応用物理学関係連合講演会, 3a･ZC･7, 1997年9月.

川嶋貴之,花泉修,吉田浩幸,室田淳一,川上彰二郎,

"a-Sic:H/SiO2積層形偏光分離素子界面の平坦化," 春季応用物理学関係連合講演会, 29a-NE-9, 1997年9月.

佐藤尚,孫鈎,笠原亮一,川上彰二郎, "高アイソレーション無調整ファイバ集積型アイソレータの作製," 電子情報通信学会ソサイエティ大会, C-3-94, 1997年9月(招待講演). 瀬高隆裕,花泉修,川瀬賢司,土岐和啓,川上彰二郎, "半導体面型光増幅器の加工と評価,'' 電気関係学会東北支部大会, lD-3, 1997年8月. 吉田浩幸,川嶋貴之,花泉修,室田淳一,川上彰二郎, CF｡導入による積層形偏光分離素子用SiO2膜の低屈折率化," 電気関係学会東北支部大会, lD-4, 1997年8月. 孫鈎,佐藤尚,笠原亮一,川上彰二郎, "多並列無調整一括集積ファイバ形光アイソレータの作製,'' 電気関係学会東北支部大会, lD･5, 1997年8月.

川嶋貴之,安田納章,佐藤尚,川上彰二郎,

``バイアス･スパッタリング法によるサブミクロン3D周期構造作製のメカニズ ム,"電子情報通信学会総合大会, C-3-122, 1998年3月(招待講演). 千葉貴史,大寺康夫,川上彰二郎, "液晶を用いた偏波制御による半導体光増幅器の偏波無依存化,'' 電子情報通信学会総合大会, C-3-145, 1998年3月. 佐藤尚,星野泰隆,川上彰二郎, "波長1.55pm用積層形偏光分離素子の2次元光回路-のハイブリッド集積,"電 子情報通信学会総合大会, C-3-96, 1998年3月. 孫鈎,佐藤尚,川上彰二郎,

"大口径TECファイバによる高性能な無調整ファイバ集積型光アイソレータの

作製,"電子情報通信学会総合大会, C･3-97, 1998年3月.

三浦健太,佐藤尚,川上彰二郎, "3次元フォトニック結晶-の利用を目的としたa･SもGel.X:H単層膜のスパッタ リング法による成膜と評価,"電気関係学会東北支部大会, 2C13, 1998年8月.

佐藤尚,川嶋貴之,安田納章,川上彰二郎,

"自己クローニングによる3Dフォトニック結晶の作製メカニズムと形状の制 御,"秋季応用物理学関係連合講演会, 15p-T-ll, 1998年9月.

花泉修,大寺康夫,佐藤尚,川上彰二郎,

"或･Si/SiO2系3Dフォトニック結晶中の面垂直光導波路:作製と観察," 秋季応用物理学関係連合講演会, 15p-T-12, 1998年9月.

川上彰二郎,花泉修,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之,

"Si/SiO2系サブミクロン周期3Dフォトニック結晶の作製と観察," 電子情報通信学会ソサイエティ大会, SC･5-8, 1998年9月.

川嶋貴之,佐藤尚,花泉修,大寺康夫,安田納章,竹井良彦,川上彰二郎,

"自己クローニングによる3Dフォトニック結晶のプロセス･導波技術," 電子情報通信学会ソサイエティ大会, C-3-89, 1998年9月.

大寺康夫,竹井良彦,川上彰二郎,

"Si/SiO2系フォトニック結晶導波路の導波解析,'' 電子情報通信学会ソサイエティ大会, C-1･10, 1998年9月. 星野泰隆,佐藤尚,川上彰二郎, "積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータ-の応用,'' 電子情報通信学会ソサイエティ大会, C･3･90, 1998年9月. 大寺康夫,佐藤尚,玉村敏昭,川嶋貴之,千葉貴史,本間洋,川上彰二郎, "Si/SiO2系フォトニック結晶偏光分離素子," 電子情報通信学会全国大会, C-3-117, 1999年3月 星野泰隆,佐藤尚,花泉修,川上彰二郎, "PLC集積アイソレータにおける回折損失の低減化構造,"

ノ 電子情報通信学会全国大会, C-3-138, 1999年3月 依田秀彦,川上彰二郎, "ポリマー導波路と液晶セルの複合集積プロセスの検証," 電子情報通信学会全国大会, C-3･97, 1999年3月 川嶋貴之,大寺康夫,佐藤尚,玉村敏昭,千葉貴史,本間洋,川上彰二郎, "SiノSiO2系2Dフォトニック結晶偏光分離素子," 応用物理学会全国大会, 29サE-4, 1999年3月 川上彰二郎,榊裕之,白石和男,花泉修,佐藤尚,大寺康夫, "Si/SiO2 3次元サブミクロン周期構造 -作製と応用について-,"電子情報通信 学会光エレクトロニクス研究会, OPE97-39, 1997年7月(招待講演). 星野泰隆,佐藤尚,川上彰二郎, "積層形偏光分離素子の平面光導波路型アイソレータ-の応用," 電子情報通信学会光エレクトロニクス研究会, OPE98-74, 1998年8月. 土岐和啓,瀬高隆裕,花泉修,川上彰二郎, "光励起MQW面型光増幅器," 電子情報通信学会レ-ザ･量子エレクトロニクス研究会, LQE 97-145, 1998年 2月. 川上彰二郎,花泉修,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之, "Si/SiO2系サブミクロン3次元フォトニック結晶の作製,評価と伝搬特性の解 析,"電子情報通信学会光エレクトロニクス研究会, OPE97-52, 1997年8月(招 待講漢). 花泉修, "S〟SiO2系3次元フォトニック結晶の作製と評価," ニューガラスフォーラム第三回機能材料研究部会, 1997年11月(招待講演). 川上 彰二郎, "オートクローニングによるフォトニック結晶の作製と応用技術,"

光産業技術振興協会,第2回技術動向調査委員会講演会, 1998年10月(招待

講演).

川上彰二郎,大寺康夫,川嶋貴之,佐藤尚,花泉健,

"フォトニック結晶の作製･伝搬実験と解析について," 電気学会電磁界理論研究会, EMT-98-153, 1998年11月(招待講演). 佐藤尚,孫鈎,星野泰隆,川上彰二郎, "光アイソレータの小型･低価格化," 第2回集積光デバイス技術研究会, IPD98-15, pp. 49-54, 1998年12月.

研究成果の概要

以下に,本研究の概要と得られた知見をまとめる｡ 1.はじめに 光デバイスが加入者系光通信ネットワーク内で多用されるためには,ファイ

バとの結合が容易で安価であることが必要である｡小型･薄型化が達成されれ

ば,光ファイバ直接集積化が可能である｡この技術はヴァ-テイカルフォトニ

クスとして我々のグループによって確立されている｡

媒質の屈折率,吸収係数,あるいはゲインを制御することによる光波の変調

を光スイッチ応用することができる｡高性能なインライン型光スイッチを実現

するには,フォトンの閉じ込めと導波路との結合の高効率化が必須の条件であ る｡ このために,我々はフォトニック結晶を利用するという着想に至った｡フォ

トニック結晶とは屈折率の異なる2種類の透明材料が媒質内波長の1/2程度の

スケールで3次元的に周期配列した構造体で,光波の伝搬が遮断される波長領 域と,強い異方性･分散性を持つ伝搬域で特徴付けられる光学特性を有する0

特にあらゆる立体角方向にPBGが開く様に格子構造･屈折率分布が設計され

た3次元フォトニック結晶は､内部に導波路や活性層を埋め込むことにより､

急峻な屈曲や不連続部においても放射損失の生じない光立体回路や､発振闇値

ゼロのレ-ザなど-の応用の可能性を秘めている｡すなわち,ファイバ集積型

マイクロ光スイッチの構成要素として最適であると考えられる｡

この構造は10年来理論的に知られていながら実際的な実現方法がなかった｡ 近年,我々の研究グループはrfバイアススパッタリング法によってサブミクロ

ン3次元周期構造を実現する作製プロセスを考案･実証した｡

本研究は,フォトニック結晶を応用したファイバ集積型マイクロ光スイッチ

の作製とメカニズムの解明を目的として始められた｡

主な項目は次の2点である｡

(1)スイッチ素子としてのゲイン制御素子の作製と評価

(2)スイッチ素子を囲む媒体としての3次元フォトニック結晶の作製技術の確

立,その物理的メカニズムの解明,及びフォトニック結晶中-の導波路作

製技術の開発

2.ゲイン制御素子

我々が提案している光励起面型光増幅器の概念図を図1に示す｡

まず,シングルパス型として,図2に示すような歪み格子MQWをMBE装

置によって作製した｡ MQW 'の周期数を変えた場合のサンプルの分光透過特性

の測定結果を図3に示す｡室温においても励起子の吸収ピークが明瞭に確認で

き,総数が多いにもかかわらず再現性の良いエピタキシャル成長が行われてい ることが分る｡

波長1.48pmのLDを励起光として用いた場合の信号光のゲインの測定結果

を図3に示す｡波長特性はブロードであり,最大で3.1dBのゲインが得られた｡ これは,面型光増幅器におけるシングルパスゲインとしては最高の値である｡ また,ミラーによる弱い共振を利用することで,帯域を損なわずに10dB以

上のゲインが得られることも数値計算によって明らかになった｡

DBR mirror TEC fiber MQW 一ayer Buried layer lnP substrate 吟 ntlf

一等設た8

6 Heat sink Tuning 一ayer

図1.光励起面型光増幅器

60 亘40 弥 増 相20 0 l■l 80周期rJノ '7,7,..53_.圭,A..≡. -､一LJ .∫ ..紡-Jj. 白 r 8ﾂ ﾃS ﾈｯ｢ X ﾈｯ｢ ﾂ 4 2 0 .2 4 【qp]U!cD 1520  1540  1560 Wavclength 【nm】 L580   1 600 図3.シングルパスゲインの測定結果 L 000 J.100       2000 WavclengLh lnn)

図2.サンプルの分光透過特性

3.フォトニック結晶 我々のグループでは, rfバイアススバッタ及びスバッタエッチングの持つ堆

積膜表面の整形作用(オートクローニング)を利用して,図4の模式図に示す

構造のSi/SiO2系サブミクロン周期3次元フォトニック結晶を作製する技術を

開発した｡このメカニズムは,中性粒子の角度広がりを持った入射,バイアス

による電界で加速され垂直に入射するイオンによるスバッタエッチ,そして材

料粒子の再付着の3つの効果が適切な割合で共存することにより実現されてい

ると理解できる｡

面に垂直な方向に格子欠陥を設けることにより形成した導波路表面のAFM

像を図5に示す｡波長1.15p血において,図6に示すように導波光が観測され

た｡コアに対応する1次元周期構造部分と,クラッディングに対応する3次元

周期構造部分の透過スペクトルの測定結果を図7に示す｡ 1.05-1.2pmの波長 域は, lD領域ではパスバンド, 3D領域ではストップバンドとなっており,図 6の結果と良く対応している｡また, FDTD法による計算値とも良く合ってい ることが分る｡ 図4. a-Si/SiO23次元フォトニック結晶  図5.面垂直導波路表面のAFM像 ≡:王==二コ 10トIm 0 o o o o o 12345 【gp】aDut2u!LUSUt2]ト I.-芸.-与lD---,-甘一一一､.∴＼ Aノ田 ロ白日83Dtt.. ∫田 I I l lt f▲＼ .,I,.''--二捕二1､､､､ Il-'L

J'｣.polarization

1.0       1.5 Wavelength lHm] 図6.導波光の観察結果(波長1.15pm) 図7.透過スペクトルの測定と計算

結果

4.まとめ 以上のように,本研究では,スイッチ素子としてのゲイン制御素子の作製と

評価,及び,スイッチ素子を囲む媒体としての3次元フォトニック結晶の作製

技術の確立,その物理的メカニズムの解明,及びフォトニック結晶中-の導波 路作製技術の開発を行い,多くの知見を得た｡ 巻末には,本研究において発表された論文の写しを掲載した｡

ゲイン制御素子

K･ T･ Jeong, 0. Hanaizumi,- I. Syuaib, K. Kashiwada, K Kawase, and S.

Kawakami, I-Analysis and assessment of gain of optically pumped

suぬce-normal optical ampli丘ers,-'Optics. Commun., γol. 135, pp. 227-232, 1997.

土岐和啓,川瀬賢司,花泉修,瀬高隆裕,川上彰二郎, "光励起MQW面型光増幅器の作製と評価," 秋季応用物理学関係連合講演会, 3a･ZC-7, 1997年9月. 瀬高隆裕,花泉健,川瀬賢司,土岐和啓,川上彰二郎, "半導体面型光増幅器の加工と評価," 電気関係学会東北支部大会, lD-3, 1997年8月. 土岐和啓,瀬高隆裕,花泉修,川上彰二郎, "光励起MQW面型光増幅器," 電子情報通信学会レ-ザ･量子エレクトロニクス研究会, LQE 97-145, 1998年 2月.

フォトニック結晶

S･ Kawakami, -'Fabrication ofJ submicrometre 3D periodic structures

composed of Si/SiO2･一一Electronics Letters, vol･ 33, no･ 14, pp･ 1260-1261, July 3,1997. 川上彰二郎,花泉修,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之, ｢Si/SiO2系サブミクロン周 期3Dフォトニック結晶の作製と観察｣ ,電子情報通信学会論文誌C-2, vol. J80-C二2, m0. 6, pp. 222-223, 1997年. 川上彰二郎,佐藤尚,川嶋貴之, ｢バイアススバッタ法で作製される3D周期ナ ノ構造の形成機構｣ ,電子情報通信学会論文誌C-Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 2, pp. 108･109, 1998年2月. 川上彰二郎,大寺康夫, ｢フォトニック結晶とその応用光デバイス｣ ,セラミッ クス,1998年7月. 川上彰二郎,花泉健,佐藤尚,大寺康夫,川嶋貴之,安田納章,竹井良彦,三 浦健太, ｢自己クローニングによる3次元フォトニック結晶の作製と応用｣,電 子情報通信学会論文誌C-Ⅰ, γol. J81-C-Ⅰ, no. 10, pp. 573-581, 1998年10月

H･ Kosaka, T･ Kawashima, A･ Tomita, M･ Notomi, T. Tamamura, T. Sato and

S･ Kawakami, 〃Superprism phenomena in photonic crystals,〟 Physical Review B, γol. 58, No. 16, pp.R10 096-099, 15 October 1998.

川上彰二郎, ｢3次元フォトニック結晶の作製と応用｣,電子情報通信学会論文

請,学生のページ, γol. 81, m0. 10,pp. 1063-1066, 1998年10月

0･ Hanaizumi, Y･ Ohtera, T･ Sato, and S. Kawakami, "Propagation of light

beamsalong line defects formed in a-Si/SiO2 three-dimensional photonic

crystals: Fabrication and obSerVation,一一Opt･ & Photonics News, γol. 10, m0. 1, pp. 50-51, Jam. 1999

S･ Kawak?mi･ T･ Kawashima･ and T･ Sato, ･lMechamim of shape-formation of

3D periodic nanostructures by bias sputtering'.- Appl･ Phys･ Lett･, Jan. 1999,

γol. 74, m0. 3, pp. 463-465, Jam. 1999.

花泉修･川上彰二郎, ｢フォトニック結晶とその応用｣,化学工業, vol.50,m0.1,

pp. 47-52, 1999年1月.

0･ Hanaizumi, Y･ Ohtera, T･ Sato, and S･ Kawakami,一一Propagation of light

beams along line defects formed in a-Si/SiO2 three-dimensional photonic

crystaIS: Fabricatiop and observation,M Appl･ PhyS･ Lett･, vol･ 74, no. 6, pp.

777-779, Feゎ. 1999.

S･ Kawakami, 〃Fabrication processes for 3D periodic nanostructures and photomic crystals," Integ･ Photon. Res. qPR ■98), Ⅵctoria, Canada,

ITbA3-1(1998).

S･ Kawakami, 0. Hanaizumi, and T. Sato, "1D, 2D, and 3D Photonic Periodic

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