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光学遷移の量子論:半古典論的アプローチ

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Academic year: 2021

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(1)

半導体量子井戸構造・超格子の物理(基礎理論編)

大阪市立大学大学院工学研究科 電子情報系専攻電子・物理工学講座 中山正昭 1.量子井戸構造・超格子のバンド構造 1-1. 半導体ヘテロ接合の概念 1-2. 量子井戸におけるサブバンド構造 1-3. 超格子におけるミニバンド構造 1-4. 任意の多重量子井戸系のサブバンド状態に関する計算方法 1-5. 正孔サブバンドに対する厳密な解析(Luttinger ハミルトニアン) 1-6. 格子歪み効果(歪み量子井戸・超格子) 1-7. 電場効果:量子閉じ込め Stark 効果と Wannier-Stark 局在 1-8. 励起子状態 2.光学遷移の量子論 2-1. 光と物質の相互作用の量子論 2-2. 量子井戸構造におけるバンド間遷移 2-3. 量子井戸構造におけるサブバンド間遷移

(2)

1 1-1. 半導体ヘテロ接合(semiconductor heterojunction)の概念 点近傍のバンド構造 (立方晶系) バンド不連続性の形態 量子井戸構造:超格子は理想的には無限積層繰り返し系(実際は有限系) k E 伝導帯 Conduction Band 価電子帯

Valence Band 重い正孔 Heavy Hole

軽い正孔 Light Hole スプリットオフ正孔 Split-Off Hole EgType-II C.B. C.B. V.B. V.B. Type-I C.B. V.B. Type-II Type-II Type-I

(3)

バンド不連続性(band discontinuity)を決定する要因 (a) 電子親和力(electron affinity): 物質固有の物理量

電子親和力の差だけでは、バンド不連続性を解釈できない。

(b) 界面双極子(interface dipole)の形成

ヘテロ接合によって、界面を介して電荷移動が生じて界面双極子が形成され、 それによってバンド接続(band lineup)の再構成が生じる。

最初の理論的指摘: J. Tersoff, Phys. Rev. B 30, 4874 (1984).

系統的な第一原理計算: N.E. Christensen, Phys. Rev. B 37, 4528 (1988).

(c) 格子不整合歪みによるバンド構造の変化(1-6 で述べる)

Vacuum

A

B

CB

A

CB

B

VB

A

VB

B

E

g,A

E

g,B ++ + -

-CB

A

VB

A

CB

B

VB

B

(4)

3 1-2. 量子井戸におけるサブバンド(subband)構造 (有効質量近似) Schrödinger 方程式

p2 /2m0V(r)VQW(z)

j,k,n(r)  Ej,k,nj,k,n(r) 0

m

:自由電子質量,

p

(

/

i

)

:運動量演算子, V(r):結晶ポテンシャル

)

(z

V

QW :量子井戸ポテンシャル, j:バンド指標, k:波数ベクトル, n;サブバンド量子数

0

)

(

z

V

QW の場合(バルク結晶):

j,k

(

r

)

u

j,k

(

r

)

exp(

i

k

r

)

)

(

,k

r

j

u

:基底関数,

u

j,k

(

r

R

)

u

j,k

(

r

)

R:格子ベクトル GaAs などの閃亜鉛鉱(zincblende)構造の k=0(点)における基底関数 電子: s 型波動関数

s

, s  , ↑Up スピン ↓Down スピン 正孔: p 型波動関数 重い正孔(heavy hole, HH) J , mJ = 3/2,3/2 2 / 3 , 2 / 3  =

1

/

2

(

X

iY

)

, 3/2,3/2 =1/ 2 (XiY) 軽い正孔(light hole, LH) J , mJ = 3/2, 1/2 2 / 1 , 2 / 3  =1/ 6 2Z (XiY)  2 / 1 , 2 / 3  =1/ 6 2Z  (XiY) 

スプリットオフ正孔(split-off hole, SO) J , mJ = 1/2, 1/2 2 / 1 , 2 / 1  =1/ 3 Z  (XiY)  2 / 1 , 2 / 1  =1/ 3 Z  (XiY)

(5)

0

)

(

z

V

QW の場合(量子井戸構造): (x,y)面内は平面波伝播、z 方向は

V

QW

(z

)

の束縛を受ける。

)

(

)

exp(

)

(

)

(

, , , n

u

j

i

n

z

j

k

r

k

r

k

r

,

)

(z

n

: 包絡関数(envelope function),

k

(

k

x

,

k

y

)

,

r

(

x

,

y

)

バンド間の基底関数混成が無視できると仮定する。価電子バンドでは、厳密 には正しくない(後述)。 包絡関数に対する Schrödinger 方程式:有効質量近似

)

(

)

(

)

(

2

2 2 * 2

z

E

z

z

V

dz

d

m

j QW

n

n

n

,

E

n:量子化エネルギー

)]

(

exp[

)]

(

exp[

2

2 2 2 2 * 2

y

k

x

k

i

E

y

k

x

k

i

dy

d

dx

d

m

j x y x y

k バルク結晶のバンド構造の特性(基底関数項)は、有効質量 mj*に繰り込まれ る(有効質量近似 effective-mass approximation)。 サブバンドエネルギー: En(kx,ky)  En 2(kx2  ky2)/2m* 無限深さ量子井戸の場合: 量子井戸内での定在波

)

/

sin(

/

2

)

(

z

L

n

z

L

n

,

E

n

(

n

)

2

/

2

m

*

L

2 価電子帯:立方晶では、点における HH と LH バンドの縮退が有効質量 (

m

HH

m

LH)の違いにより解ける(HH、LH サブバンドの形成) 2 * 2

2

/

)

(

n

m

L

E

n

HH ,

E

n

(

n

)

2

/

2

m

LH*

L

2 :

E

n,HH

E

n,LH

(6)

5 有限深さ量子井戸構造におけるサブバンド状態 Schödinger 方程式

)

(

)

(

2

2 2 * 2

z

E

z

V

dz

d

m

j

n

n

n

z  L/2, z  L/2

)

(

)

(

2

2 2 * 2

z

E

z

dz

d

m

j

n

n

n

L

/

2

z

L

/

2

包絡関数

2

/

:

)

exp(

)

(

z

B

q

B

z

z

L

B n

,

nB

(

z

)

B

exp(

q

B

z

)

:

z

L

/

2

n=odd

nA

(

z

)

A

cos(

q

A

z

)

:

L

/

2

z

L

/

2

n=even

nA

(

z

)

A

sin(

q

A

z

)

:

L

/

2

z

L

/

2

 2qB2 /2mB* VEqB  2mB*(VE)/  2qA2 /2mA*  EqA  2mA*E / 境界条件: A/B 界面(

z

z

i)での包絡関数接続条件

)

(

)

(

, , i B k n i A k n z

z

z

z

, i z i z z z B k n B z z A k n A

z

dz

d

m

z

dz

d

m

(

)

1

)

(

1

, * , *

微分接続における有効質量補正:G.Bastard, Phys. Rev. B 24, 5693 (1981)

B z -L/2 0 L/2 E V A B

(7)

n=odd:

z

L

/

2

界面での波動関数接続

)

2

/

exp(

)

2

/

cos(

q

A

L

B

q

B

L

A

)

2

/

exp(

)

/

(

)

2

/

sin(

)

/

(

A

q

A

m

*A

q

A

L

B

q

B

m

*B

q

B

L

n=odd の固有値方程式

0

)

/

(

)

2

/

tan(

)

/

(

q

A

m

*A

q

A

L

q

B

m

*B

n=even の固有値方程式

0

)

/

(

)

2

/

cot(

)

/

(

q

A

m

*A

q

A

L

q

B

m

*B

L=20.0nm、V=100 meV における GaAs 量子井戸の固有状態の計算結果 (

m

*A

m

*B

0

.

067

m

0

(8)

有効質量不整合(effective-mass mismatch)の効果

GaAs(10.0nm)単一量子井戸の計算結果(

m

*A

0

.

067

m

0

(9)

8 サブバンド構造の状態密度(2次元状態密度) 長さ L の正方形における2次元状態 電子(正孔)波数ベクトルの最小値:

k

min

2

/

L

波数(運動量)空間における最小面積:

S

min

(

2

/

L

)

2 波数ベクトルの大きさが 0~k までの状態数

2

2

/(

2

/

)

/

2

)

(

2 2 2 0

k

dk

L

L

k

k

N

k 電子の面内運動エネルギー:

E

2

k

2

/

2

m

*

k

2

2

m

*

E

/

2 エネルギー単位での状態総数:

N

E

L

m

E

2 * 2

)

(

状態密度(L→1): 2 *

)

(

)

(

m

dE

E

N

d

E

D

エネルギーに対して一定

L

L

E1

E2

E

k

xy

E

E

D(E)

(10)

1-3. 超格子のミニバンド構造:ABAB---という z 方向への周期積層構造 包絡関数が z 方向へ伝播する→

k

zが良い量子数(good quantum number)

包絡関数に対する Schrödinger 方程式

)

(

)

(

)

(

2

2 , , 2 * 2

z

E

z

z

V

dz

d

m

j SL

n kz

n

n kz

A 層(層厚

d

A):有効質量

m

A*,

V

SL

(

z

)

0

(量子井戸層)

)

exp(

)

exp(

) ( , A

iq

A

z

A

iq

A

z

A z k n z

 2qA2 /2mA*  EqA  2mA*E / B 層(層厚

d

B):有効質量

m

B*,

V

SL

(

z

)

V

(障壁層) ) exp( ) exp( ) ( , z B qBz B qBz B k n z      2qB2 /2mB* VEqB  2mB*(VE)/ 境界条件:1.A/B 界面(

z

z

i)での包絡関数接続条件:

)

(

)

(

, , i B k n i A k n z

z

z

z

, i z i z z z B k n B z z A k n A

z

dz

d

m

z

dz

d

m

(

)

1

)

(

1

, * , * 境界条件:2.超格子周期 D に対する周期境界条件: Bloch 条件

),

exp(

)

(

)

(

,, , ,

z

D

z

i

ik

z

D

B A k n i B A k n z

z

ミニバンド分散関係:

)

sinh(

)

sin(

2

1

)

cosh(

)

cos(

)

cos(

* * * * B B A A B A A B A B B A B B A A z

d

q

d

q

q

m

q

m

q

m

q

m

d

q

d

q

D

k

(11)

10

(12)

11 1-4. 任意の多重量子井戸系のサブバンド状態に関する計算方法 伝達マトリックス(Transfer-Matrix)法 上図の2重量子井戸を対象に説明する。尚、数式表現の煩雑さを防ぐために、 井戸層と障壁層の有効質量をそれぞれ

m

w*と

m

b*、ポテンシャルを 0 と V とす るが、各層で有効質量、ポテンシャルが変わっても取り扱いは同じ。 井戸層の包絡関数:

j

(

z

)

a

j

sin(

q

w

z

)

b

j

cos(

q

w

z

)

障壁層の包絡関数:

j

(

z

)

a

j

exp(

q

b

z

)

b

j

exp(

q

b

z

)

井戸層の波数ベクトル:qw  2m*wE / 障壁層の波数ベクトル:qb  2mb*(VE)/ 界面での包絡関数接続条件:

j

(z

)

と(1/m*j)dj(z)/dzの連続性 z=0 界面: j=0 層と j=1 層の接続 1 0 0

b

b

a

1 * 0 0 *

)

/

(

)

(

)

/

(

q

b

m

b

a

b

q

w

m

w

a

















1 1 * 0 0 * *

0

/

1

0

/

/

1

1

b

a

m

q

b

a

m

q

m

q

b b b b w w









1 1 1 0 0 0

]

[

]

[

b

a

M

b

a

M









 1 1 1 1 0 0 0

]

[

]

[

b

a

M

M

b

a

z=0 z1 z2 z3 0 1 2 3 4

(13)

12 z=z1界面: j=1 層と j=2 層の接続

)

exp(

)

exp(

)

cos(

)

sin(

1 1 1 2 1 2 1 1

q

z

b

q

z

a

q

z

b

q

z

a

w

w

b

b

)

exp(

)

exp(

)[

/

(

)

cos(

)

cos(

)[

/

(

q

w

m

w*

a

1

q

w

z

1

b

1

q

w

z

1

q

b

m

b*

a

2

q

b

z

1

b

2

q

b

z

1

















2 2 1 * 1 * 1 1 1 1 1 * 1 * 1 1

)

exp(

)

/

(

)

exp(

)

/

(

)

exp(

)

exp(

)

cos(

)

/

(

)

cos(

)

/

(

)

cos(

)

sin(

b

a

z

q

m

q

z

q

m

q

z

q

z

q

b

a

z

q

m

q

z

q

m

q

z

q

z

q

b b b b b b b b w w w w w w w w









2 2 3 1 1 2

]

[

]

[

b

a

M

b

a

M









 2 2 3 1 2 1 1

]

[

]

[

b

a

M

M

b

a

z=z2界面: j=2 層と j=3 層の接続 同様に









3 3 5 2 2 4

]

[

]

[

b

a

M

b

a

M









 3 3 5 1 4 2 2

]

[

]

[

b

a

M

M

b

a

z=z3界面: j=3 層と j=4 層の接続 同様に









4 4 7 3 3 6

]

[

]

[

b

a

M

b

a

M









 4 4 7 1 6 3 3

]

[

]

[

b

a

M

M

b

a

全ての界面でのマトリックスをつなぐ(伝達マトリックス)。













4 4 4 4 7 1 6 5 1 4 3 1 2 1 1 0 0 0

]

[

]

[

]

][

[

]

][

[

]

][

[

]

[

b

a

M

b

a

M

M

M

M

M

M

M

M

b

a

4 22 4 21 0 4 12 4 11 0

)

(

)

(

)

(

)

(

b

E

M

a

E

M

b

b

E

M

a

E

M

a

境界条件: 包絡関数の発散を防ぐ→

b

0

0

,

a

4

0

固有値の決定条件:

M

22

(

E

)

0

を満足するエネルギーE 包絡関数: 固有値を伝達マトリックスに代入して各層の(aj, bj)を計算する。

(14)

13 2重量子井戸構造の計算例

Al0.2Ga0.8As/GaAs(6.0 nm)/ Al0.2Ga0.8As(db nm)/ GaAs(6.0 nm)/ Al0.2Ga0.8As

サブバンドエネルギーの障壁層厚(db)依存性

(15)

14 1-5. 正孔サブバンドに対する厳密な解析:(Luttinger ハミルトニアン) HH J, mJ  3/2, 3/2 , LH 3/2,1/2 , SO 1/2, 1/2 HH+ LH+ LH- HH- SO+ SO- ' , 

H

=

P

S

Q

S

R

P

R

S

Q

S

S

R

Q

P

S

R

Q

S

S

Q

P

R

S

Q

R

Q

P

S

R

S

R

S

Q

P

0

2

/

2

2

/

3

2

0

2

2

/

3

2

2

/

2

/

2

0

2

2

/

3

0

2

/

3

2

0

2

2

/

0

* * * * * * * * * * * *

)

(

2

2 2 2 1 0 2 z y x

k

k

k

m

P

,

(

2

)

2

2 2 2 2 0 2 z y x

k

k

k

m

Q

]

2

)

(

[

2

3

3 2 2 2 0 2 y x y x

k

i

k

k

k

m

R

,

k

x

ik

y

k

z

m

S

3

3

(

)

0 2

有効質量の逆転(effective-mass reversal) z 方向(量子化方向):

m

HH,z

m

0

/(

1

2

2

)

,

m

LH,z

m

0

/(

1

2

2

)

xy 方向(量子面内):

m

HH,

m

0

/(

1

2

)

,

m

LH,

m

0

/(

1

2

)

GaAs の場合:

1

=6.85,

2

=2.01,

3

=2.90

(, Luttinger パラメータ) z 方向(量子化方向):

m

HH,z

=0.35 m

0

, m

LH,z

=0.092 m

0 xy 方向(量子井戸面内):

m

HH,⊥

=0.10 m

0

, m

LH,⊥

=0.21 m

0 HH LH E k z kxy HH LH E

(16)

15 正孔サブバンドの面内(kx,y)分散関係

GaAs(7.8 nm)/Al0.2Ga0.8As 量子井戸の計算結果:

L.C. Andreani et al., Phys. Rev. B 36, 5887 (1987)

HH と LH バンドの混成により、非常に複雑な分散関係となる。 * HH と LH バンドの反交差(anticrossing)

(17)

16

1-6. 格子歪み効果: 歪みヘテロ接合(Strained heterojunctions)

GaAs/AlxGA1-xAs 系以外のほとんどのヘテロ接合系では、格子定数の差に

より格子不整合歪みが生じる。

→ 積極的な応用→ 歪み量子井戸・超格子(strained QW, strained SL) 概念の提案: G.C. Osbourn, Phys. Rev. B 24, 5126 (1983)

弾性歪み:立方晶系における歪みテンソル(Strain tensor)





xy zx yz zz yy xx xy zx yz zz yy xx

C

C

C

C

C

C

C

C

C

C

C

C

44 44 44 11 12 12 12 11 12 12 12 11

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

0

成長方向 z=[001], 面内方向 x=[100], y=[010] 等方的な面内2軸性応力:

xx

yy

||,

zz

xy

yz

zx

0

歪み成分:

xx

yy

||,

zz

(

2

C

12

/

C

11

)

||

基板

エピタキシャル層の 正方晶変形

(18)

17

歪みへテロ接合における臨界膜厚 (Critical layer thickness)

層厚が臨界膜厚よりも薄い場合、格子不整合は均一な弾性歪みにより緩和 され(Preudomorphic 成長)、格子不整合転移の無い高品位のエピタキシーが 可能となる。臨界膜厚よりも厚い場合は、転移が界面に発生し、結晶性が著 しく低下する。

InGaAs/GaAs 系と SiGe/Si 系の臨界膜厚:

(19)

18 点価電子バンドに対する格子歪み効果

kp 摂動論(バルク結晶):F. H. Pollak, Surf. Sci. 37, 836 (1973) M. Chandrasekhar & F.H. Pollak, Phys. Rev. B 15, 2127(1977) 歪みハミルトニアン:

H

st

H

1

H

2

]

c.p

)

[(

3

]

c.p.

)

3

/

[(

3

)

(

1 2 2 1 1 1

xy x y y x xx x zz yy xx

L

L

L

L

d

L

b

a

H

L

]

c.p

)

[(

3

]

c.p.

)

3

/

[(

3

)

)(

(

2 2 2 2

xy x y y x xx x x zz yy xx

L

L

d

L

b

a

H

L

σ

a:静水圧変形ポテンシャル(hydrostatic deformation potential)

b:正方晶(tetragonal)変形ポテンシャル, d:斜方晶(trigonal)変形ポテンシャル

L: 角軌道運動量演算子(angular momentum operator) : スピン演算子(spin operator) (x,y)面内の等方的2軸性歪みにおける歪みハミルトニアンの固有値  HH |3/2,±3/2> LH |3/2,±1/2> SO |1/2,±1/2>

0

'

2

/

'

0

2

/

'

2

/

0

0

0

2

/

H T T T H T H

E

E

E

E

E

E

E

)

)(

(

1 2 xx yy zz H

a

a

E

,

E

H

'

(

a

1

a

2

)(

xx

yy

zz

)

)

)(

2

(

2

1 2 zz xx T

b

b

E

,

E

T

'

2

(

b

1

2

b

2

)(

zz

xx

)

2 1 , 2 1 a a b b b av    →

E

H

E

H

'

,

E

T

E

T

'

(20)

19 || 11 12 11

)

/

]

[(

2

)

(

E

H

a

v xx yy zz

a

v

C

C

C

|| 11 12 11

2

)

/

]

[(

2

)

(

E

T

b

zz xx

b

C

C

C

各正孔バンドの歪みエネルギーシフト:HH と LH バンドの分裂

2

/

T H HH

E

E

E

4

/

9

4

4

2

/

4

/

2 T T2 T H LH

E

E

E

E

E

E

H

E

T

/

2

E

T2

/(

2

)

4

/

9

4

4

2

/

4

/

2 T T2 T H SO

E

E

E

E

E

E

H

E

T2

/(

2

)

点伝導バンドに対する格子歪み効果 s 型基底関数(L=0) → 静水圧変形ポテンシャル項のみの寄与

)

(

,H c xx yy zz c

a

E

点 Eg に対する格子歪み効果 HH バンドギャップ:

E

g,HH

E

c,H

E

H

E

T

/

2

LH バンドギャップ:Eg,LH  Ec,H EH ET /2ET2 /2 実験的には、

E

H項に関しては、伝導バンドと価電子バンドの寄与の和が観 測され、一般に、

a

a

c

a

vが静水圧変形ポテンシャルと呼ばれる。 第一原理計算によって、

a

c



a

vが示されている。

C.G. Van de Walle and R.M. Martin, Phys. Rev. B 35, 8154 (1987) GaAs の場合:a= 8.9eV, b= 1.7eV, =0.34 eV a, b の誤差は±20%程度 C11=11.9x1011 dyn/cm2, C12=5.38x1011 dyn/cm2

(21)

20 伝導バンド端(点)と価電子バンド端(点)に対する歪み効果の概略 z 方向が量子化質量、xy 方向が状態密度質量

Compressive strain

LH

HH

CB

VB(HH & LH)

Unstrained

LH |3/2, +1/2>

HH |3/2, +3/2>

HH |3/2, +3/2>

LH |3/2, +1/2>

E

H

Tensile strain

E

H

E

T

E

E

k

z

k

xy

E

k

z

k

xy

HH

LH

HH

LH

(22)

21 量子井戸ポテンシャルに対する歪み効果の概略 VB(HH & LH) VB(HH & LH) CB Tensile strain inQW LH HH CB Compressive strain inQW HH LH VB(HH & LH) CB Compressive strain in QW LH(type-II) HH(type-I) Shallow VB

(23)

22

量子井戸の正孔サブバンド分散に対する歪み効果 (a) GaAs(8.0nm)/Al0.2Ga0.8As 量子井戸(無歪み)

(b) In0.2Ga0.8As(8.0nm)/Al0.2Ga0.8A 量子井戸(InGaAs 層に 1.4%の圧縮歪み)

J.P. Loehr, “Physics of Strained QW Lasers” (Kluwer, 1998) Chap.3.

(24)

23 1-7.電場効果

量子閉じ込めシュタルク効果(quantum-confined Stark effects: QCSE)

Schrödinger 方程式

)

(

)

(

)

(

2

2 2 * 2

z

E

z

qFz

z

V

dz

d

m

j QW

n

n

n

q: 電荷(電子の場合e, 正孔の場合+e)、F: 電場強度 2次の摂動計算から解が得られる。 1次摂動

E

1(1)



1

|

qFz

|

1



0

摂動の条件(弱電場条件):

eFL



2

2

/(

2

m

*

L

2

)

) ( (0) (0) 2 ) 2 (

|

|

n m n m n m n

E

E

qFz

E

m*e2F 2L4 Stark シフトの重要な特徴: 有効質量に比例、 電場強度の2乗に比例 層厚の4乗に比例 Electro-optic 素子(光変調器、光スイッチング)への応用 無限深さ量子井戸のサブバンドエネルギーに関する解析解

T. Lukes et al., Physica 84A, 421 (1976).

2 4 2 2 * 4 4 2 2

/

]

24

/

)

15

[(

n

n

m

e

F

L

E

n

L

(25)

24 電場効果の厳密な計算方法

D.C. Hutchings, Appl. Phys. Lett. 55, 1082 (1989).

I. Tanaka, M. Nakayama et al., Phys. Rev. B 46, 7656 (1992).

Schrödinger 方程式の z 座標を無次元座標系(Zj)へ変数変換

)

(

]

)

/(

2

[

m

*

e

F

2 1/3

V

qFz

E

Z

j

j

j

Schrödinger 方程式は次式(Airy 方程式)に変換される。

0

)

(

)

(

2 2

n j j n j j

Z

Z

Z

Z

d

d

一般解:

n

(

Z

j

)

a

j

Ai

(

Z

j

)

b

j

Bi

(

Z

j

)

, Ai, Bi は Airy 関数 界面での包絡関数接続条件(

j

(z

)

と(1/m*j)dj(z)/dzの連続性)から、1-4 で述べた伝達マトリックス法に基づいて計算を行う。









            1 1 1 3 / 2 * 1 1 3 / 2 * 1 1 1 3 / 2 * 3 / 2 *

)

(

Bi'

)

(

Ai'

)

(

Bi

)

(

Ai

)

(

Bi'

)

(

Ai'

)

(

Bi

)

(

Ai

j j j j j j j j j j j j j j j j

b

a

Z

m

Z

m

Z

Z

b

a

Z

m

Z

m

Z

Z

境界条件:z での発散を防ぐ。 最終層での Bi 振幅(Bi は発散関数)を ゼロとする。

(

a

f

,

b

f

)

(

1

,

0

)

固有値の決定条件:上記の境界条件より、第1層の振幅を伝達マトリックスに より計算し、次式の透過率のエネルギー依存性を求める。 ) /( 1 ) /( ) ( ) (E a 2 b 2 a02 b02 a02 b02 Tff    T(E)のピークエネルギーが束縛状態固有値に相当する。

(26)

25

QCSE の計算例: GaAs(10 nm)/AlAs 単一量子井戸構造のサブバンド状態

30 kV/cm

100 kV/cm

200 kV/cm

E

n

er

g

y

(

m

eV

)

Electric Field (kV/cm)

n=1

n=2

GaAs(10 nm)/AlAs SQW

0

50

100

150

200

50

100

150

200

(27)

26

超格子におけるワニエ・シュタルク局在 (Wannier-Stark localization)

ミニバンド状態の包絡関数は、各量子井戸間の波動関数共鳴によって超格 子空間全体に広がっている (extended envelope function)。

超格子(周期 D)に電場 F が印加される → 量子井戸間に eFD のポテンシャル差 → 波動関数共鳴条件を破綻する → 波動関数の局在化 (Wannier-Stark localization) ミニバンドの分裂: eFD のエネルギー間隔を有するシュタルク階段状態 (Stark-ladder state) バルク結晶の Bloch 電子を対象として予言された。

G.H. Wannier, Phys. Rev. 117, 432 (1960).

超格子において実験的に初めて検証された。

(28)

27

GaAs(3.2 nm)/AlAs(0.9 nm)超格子における包絡関数形状の電場強度依存 性に関する計算結果(TM 法)

M. Nakayama, “Optical Properties of Low-Dimensional Materials” (World Scientific, 1995) Chap.3.

(29)

28

GaAs(3.2 nm)/AlAs(0.9 nm)超格子における固有エネルギーの電場強度依存 性に関する計算結果(TM 法)

(30)

29 Wannier-Stark 局在状態の近似解析: P. Feuer, Phys. Rev. 88, 92 (1952)

J. Bleuse et al., Phys. Rev. Lett. 60, 220 (1988).

最近接強結合近似(first-nearest neighbor tight-binding model) 周期数(2N+1)の超格子(周期 D) 超格子の包絡関数

(z

)

z k

を孤立量子井戸の包絡関数

(z

)

の重ね合わせで 表現する。

mN N m nk kz

z

c

z

z

mD

)

(

)

(

, m: QW index 無電場条件:F=0 ミニバンドの形成

)

1

2

0

(

1

2

),

cos(

2

)

(

0

m

N

N

m

D

k

D

k

E

k

E

z z z

: ミニバンド幅 強電場条件 :

NeFD



ミニバンドが Stark-ladder 状態に分裂する。

N

N

eFD

E

E

0

,

包絡関数振幅:Bessel 関数で表現される。

)

/

(

)

2

/

(

)

2

/

(

eFD

J

eFD

J

L

D

J

c

n

n

m

m

L

/( eF

2

)

:局在長 ある量子井戸(局在中心)から m 周期離れた井戸での波動関数存在確率 2 ) 2 / ( eFD Jm m   

(31)

30 Wannier-Stark 局在状態における波動関数存在確率の計算結果 完全局在状態:

J

02

1

,

J

m20

0

局在化の大まかな条件:

eFD

/

1

超格子周期 D=5.0 nm、ミニバンド幅 =50 meV → F=100 kV/cm バルク結晶の場合 格子定数 a=0.5 nm、バンド幅 2 eV → F=40 MV/cm (非現実的) WS 局在の意義 * 電場による波動関数の局在性の制御 ⇒次元性の制御: ミニバンド(3次元)⇔量子井戸局在(2次元) * 電場による固有エネルギーの制御:

E

E

0

m

eFD

,

m

0

,

1

,

2

,

m=0 m=+1 m=+2

2eFD/

J

m

(

/2

eF

D

)

2 0 0.5 1 1.5 2 0.2 0.4 0.6 0.8 1

(32)

31 1-8.励起子状態 (Exciton states) 伝導帯の電子と価電子帯の正孔がクーロン引力によって束縛された準粒子。 物質の光励起状態の代表的なもので、多様な光機能性の主要因。 [Wannier 励起子] 電子と正孔が格子定数に比して十分離れている(半導体の場合)。 [Frenkel 励起子] 電子と正孔が同一の単位胞に存在する(分子性結晶の場合) バルク結晶における Wannier 励起子 伝導帯エネルギー: 2 2 e c 2 ) ( E m Ec k   k , me:電子有効質量 価電子帯エネルギー: 2 2 h v v( ) E 2m E k   k , mh:正孔有効質量 バンドギャップエネルギー:EgEcEv 電子-正孔相対座標:rrerh 電子-正孔重心座標: h e h h e e m m m m    r r R 重心質量:Mmemh、換算質量:1/ 1/me 1/mh 励起子有効質量 Schrödinger 方程式: は物質の背景誘電率 ) , ( ) , ( 4 2 2 0 2 2 2 2 2 g R r F R r EF R r r e M E                 

包絡関数(envelope function): (R,r)  1 exp(iKR)(r)

N F

(33)

32 R  項: ( ) ( ) 2 2 2 R R R            ER M  : (R) 1 exp(iKR) N   並進運動エネルギー M ER 2 2 2 K   r  項: ( ) ( ) 4 2 0 2 2 2 r r r                Er r e  ) , ( ) ( ) (    nlm r Rnl r Ylm , Rnl(r):動径波動関数,Ylm(,):球面調和関数 励起子状態(n, l, m): 1s, 2s, 2p, 3s, 3p, 3d, ---, ∞ 1光子励起の場合、s 励起子のみが光と相互作用する(量子論で述べる) 1s 励起子束縛エネルギー(有効 Rydberg エネルギー) 0 2 2 2 4 2 0 1 6 . 13 2 ) 4 ( 1 m e Ry         [eV] s 励起子の総エネルギー: M Ry n E En 2 1 2 2 g K      電子-正孔相対運動の固有関数(n=1, l=0):          B 3 B 1 ( ) exp a r a V r R s 有効 Bohr 半径:         0 2 0 2 B 0.053 4 m e a  [nm] Wannier 励起子の束縛エネルギーと Bohr 半径 Eg at 300K [eV] Ry [meV] aB [nm] ZnO 3.436 59 1.4 CdS 2.582 28 2.7 ZnSe 2.795 20 4.5 GaAs 1.428 4.5 13 GaSb 0.70 1.6 23

(34)

33 Wannier 励起子の実空間の概念図 Wannier 励起子のエネルギー分散関係

E

K

連続状態:解離した 電子・正孔状態 励起子束縛 エネルギー 基底状態 バンドギャップ エネルギー n=1 励起子 n=2 励起子 h e

(35)

34 量子井戸構造における励起子 2次元極限における励起子:束縛エネルギーはバルク結晶の4倍 励起子有効質量 Schrödinger 方程式(相対運動項)

)

,

(

)

,

(

4

)

,

(

)

,

(

2

0 2 2 2 2 2 2

y

x

E

y

x

r

e

y

y

x

x

y

x



2 2 y x r                    r r x x r r x 2 2 2 2 3 2 2 2 2 2 2

1

1

               





r

r

x

r

r

x

r

r

x

r

r

r

x

r

x

r

r

x

r

r

r

r

x

x

x

2 2 2 2 2 2 2 3 2 2 2 2 2 2

1

2

        

r

r

r

r

r

y

x

r

r

y

x

r

r

y

x

上記の励起子有効質量 Schrödinger 方程式の2次元極座標表示

0

)

(

4

2

)

(

)

(

1

0 2 2 2 2



      

r

r

e

E

r

r

r

r

r

水素原子型波動関数を仮定する:





D

a

r

r

2

exp

)

(

a2D: 2次元励起子 Bohr 半径

(36)

35

0

1

4

2

1

2

1

2 0 2 2 2 2 2



D D

a

e

r

E

a

rは任意の値をとりうる。したがって、r⊥→0 の極限において、上記の方程式 が発散しないためには、左辺第2項の括弧内がゼロでなければならない。

0

1

4

2

2 0 2 2



D

a

e

2次元励起子 Bohr 半径:

2

2

4

3 2 0 2 2D D

a

e

a

バルク(3D)結晶の Bohr 半径の 1/2 に収縮 2次元励起子束縛エネルギー: Ry2D

0

2

1

2 2 2 2

D D

Ry

a

D D

Ry

e

Ry

3 2 2 4 2 0 2

4

2

)

4

(

1

4



バルク(3D)結晶の励起子束縛エネルギーの4倍に増大 2次元化(低次元化)による励起子状態の安定化:量子井戸構造の物性と機 能性における大きな特徴 2次元励起子の総エネルギー:

M

Ry

n

E

E

n D

2

)

2

/

1

(

1

2 3 2 g

K

(37)

36 量子井戸構造における励起子(有限のポテンシャルと層厚) 電子と正孔に対する量子井戸ポテンシャル

[V

e

(z

e

), V

h

(z

h

)]

をハミルトニアンに 繰り込まなければならない。 位置座標の設定 閉じ込め方向の電子と正孔の座標:

z

e,

z

h 電子と正孔の相対座標:

r

r

e

r

h 電子と正孔の量子井戸(x,y)面内相対座標:

ρ

r

e

r

h 総ハミルトニアン

(

,

,

)

2

)

,

,

(

2 2 h e g h e eh h e

z

z

M

K

E

E

z

z

H

H

H

ρ

ρ

 

電子ハミルトニアン:

(

)

2

2 2 2 e e e e

z

V

z

m

正孔ハミルトニアン:

(

)

2

2 2 2 h h h h

z

V

z

m

励起子相互作用ハミルトニアン:

r

e

y x



0 2 2 2 2 2 2

4

2

励起子束縛エネルギー:

Ry

QW

H

e

H

h

H

eh

変分原理による数値計算を行い、束縛エネルギーを求める。

(38)

37

GaAs/AlxGa1-xAs 量子井戸構造における励起子束縛エネルギーと Bohr 半径

参照

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