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2―プロパノール/アセトン/水素系ケミカルヒートポンプの研究―炭素担持貴金属嘱媒による2プロパノール液相脱水素反応―:山下勝、伊藤えり、斉藤秦和

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Academic year: 2021

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(1)

2

ープロパノール/アセト

γ /

水素系ケミカルヒートポ

γ

プの研究

一炭素担持貴金属触媒による 2ープロパノール液相脱水素反応一 (東京大学・工学部) ※山下勝、伊藤えり、斉藤泰和 1 . 緒 言 本研究が取り上げるケミカルヒートポンプは、

2-

プロパノーノレ液相脱水素反応により利用しに くい低温廃熱を反応熱を蒸発熱として吸い上げ、生成物分離のために冷却しつつアセトン水素化熱 を高温度で回収する、低品位熱改質型熱機関である九液相吸熱反応器

R

L、気相発熱反応器

R

H

'

蒸留塔D、および熱交換器Eから構成される (Fig.1)0 システム全体ヲ通して庄力は共通であっ て、圧縮仕事でなく分離仕事が昇温駆動力となる点は、既往のヒートポンプと著しく異なるヘ

8

0

℃程度の熱を200C C程度に昇温できるため、工場廃熱の回収再利用や、地熱・太陽熱の活用が主な ターゲットとなる九太陽エネルギーのよ うに、季節や天候の変動の影響を受け易く、 しかも希薄という欠点をもつものに対して は、重達光ばかりでなく散乱光をも集熱し 化学エネルギーに変換できる本システムは、 特に適合性が高いヘ 本システムで最も重要な過程は、低温吸 熱プ田セスである。熱力学的に不利な温度 領域でも、沸騰・還流条件を課せば、

2-プロパノ-)レ液相脱水素反応は進行可能で あ る ( 式 (1) ) 5)このシステムを効率よ く稼働させるには、優れた触媒が必要であ るo R. R~ : Endothermic reactor for2-propano! dehydrogenation under the sun in the daytime RM : Exolhermic reactor for acetone hYdrogenation10 recover heat at any lime needed o : Disl~lIalion column10 separate2・propanol. acetone alld hydrogen S : ~eservoirs . t~_~tore hydrogen(1). acetone(2) and 2・propanol(3) Fig.l 2-Propanol/Acetone/IIydrogen Chemical Heat Pump System (GHa)2CHOH (1)→(C

H

a

)2CO (1)

+

H2 (g) ( 1 ) 本研究では、良好な懸濁分散性を示す炭素粉末担持jレテニウム、ロジウム、白金説媒と重水素置 換2ープロパノールおよびアセトンを用いて、脱水素触媒の作用機構を明らかにするとともに、よ り優れた触媒を得るの設計指針を得ょうと試みた。 2. 実験方法 炭素担持貴金属 (5wt%-Ru

RhおよびPt、NEケムキャット(械製、 BET表面積:685.5

748.9および 946. 4m2・g-l)の所定量 (200mg)を反応容器 (20m1ーシュレンク管)に取り、重水素置換2ープ ロノてノーjレ((C

H

a

)2CHOD、(3)2CDOHCanada Merck および(CH3)2CHOH)あるいは(CD3)2

C0(10vo1%)含 有2ープロパノーjレノ5mlを加えてから、超音波分散処理(水温、 1分)により、 触媒を液相中に啓、濁させた。また、操作はすべてアルゴンふ雰囲気下で行なった。 反応速度は、反応容器を油浴中で加熱・沸騰(反応温度:82.4.C、油浴温度:1

.C)させ、水 冷式還流冷却器から出てくる気体を250mlガスピュレットで経時的に追跡して求めた。気相および 液相生成物の組成はガスクロマトグラフ(気相:Active Carbon、液相:PEG-20M)で分析し、

(2)

-14-重水素分布は、四重極質量分析計 (NECアネノレパ、AQA360)および官-NMR(JEOL、GX-400) を用いて、それぞれ経時的に追跡した。 7 6 5 4 3 2 1 40EE¥ZO 吋 H コ 同 O ﹀ @ 認 。 国 O ﹄司 h 点 3.結果と考察

3

.

1

炭素担持jレテニウム、ロジウムおよび白金触 媒による 2ープロパノ-)レ液相脱水素反応 炭素担持ノレテニウム、, ロジウムおよび白金触媒 による

2

ープロパノール脱水素反応の経時変化を

F

i

g.2に示す。反応開始後15分経った時点での2ープ ロパノール脱水素反応速度(四

m

o

l

.

h

-

1

g

-

引立、 jレ テニウム (4580)>ロジウム (1780)>白金 (390) の序列を与え、いずれも時間経過とともに緩やかに 低下した。また、反応速度式 (2) でよく整理され 2 3 Time/h Pt 3 2 Time/h Rh

Liquid-phase dehydrogenation of (α[lhCHOH (0). (CHI) 2CI!OD(・)and (CHI)2CDOH(ム)with

carbon-supported noble metal catalysts. Fig.Z るアセトン阻害定数

(mmol-dm-

3 ) は、ルテニウ ム (0.017)>ロジウム (0.014)>白金 (0.004) と、白金触媒で著しく小さいことがわかった5)o v=k/(l+K[アセトン]) (2 )

A

100 7 5 4 6 ﹃ d O 骨 材 団 H 白 ¥ Z 80 20 O 40 60 ( 柑 ) H A H 句 ロ 唱 。 z ・ N2 Pt Rh Ru P七 Rh Ru 2 D2 HD 園

H2 5 4 3 2 (CH 3 ) 2 CHOD (5 m1)

Cata1yst: S",'t%・Ru,Rh and Pt/carbon(200 mg)

Conditions: reflux(82.4 OC) for 15 min (CH 3 ) 2 CDOH (5 ml)

Time I h

Fig.4

l{/D ra tio in hydrogen ne'.ly-evol ved from 2・propanol・0・d with carbon-supported Ru( 0). Rh(ム)and Pt (口) catalysts.

Deuterium distribution in molecular hydrogen evo1ved from deuterium-substituted 2・propanol

with carbon-supported noble metal catalysts. Fig.3 重水素置換 2ープロパノーjレから求められた反応同位体効果は、 jレテニウム、ロジウム、白金触 媒でそれぞれ、

2-d

(1.57)

<

0

-d

(1.69)、

O-d

(1.11)

<2-d (

2

.

50)および

O

-d

(1.13)

<

2 -

d

(1.18)となったことから、律速段階はロジウムと白金でメチン基水素の開 裂過程、 jレテニウムでは水素分子の生成脱離過程と結論された5}o

(

C

I1)

2COOH

から生成する水素は、

l

レテニウムが

HD>H2>D2

の混合物なのに、 -15-ロジウムと白

(3)

After 511 ( -o g 喝 且 。 ﹂ 且 4N}UC22ω 邑 -F o e -a o ﹂ 且 S N ) ︻h k o ﹂ - u h z After 1 h ( ー。 c 侭' 0. O !.. 0. '" } ' "c

-

m

-

.

d

.

冨 { 戸 O Z 4 a o ' M 且 N) 戸 h t o ﹂ 可 否 -Before reactエロn 金は反応初期にはほと んど

H

2のみを与えた

(

F

i

g

.

3

A

)

0 一方、

(

C

H

a

)

CHOD

から生成する水素は、 反応初期

1

5

分後にjレテ ニウムおよびロジウム PPH ,.,....〒吋 -1 寸 寸 s

Cata1yst so1ution: Ru (5的/C(200mg)/2・pr口pano1(4_Sm1)

品acetone-d

(0.5冊1)

Reaction condi tiロロ5:boiling and refluxing (77 . 0

C)

!'P円 rr〒 守 〒T -1 r守 4 r〒守 5 PI'同 1""""守守守1 由 -1

Hydrogen transfer from 2-propanol to acetone-d6 in the catalyst solution during dehydrogenation.

Reactant (CH1) 2CDOH では

HD

、自金では

D

2 が最も多く含まれてい た

(

F

i

g.

3

B

)

0 また、 ロジウムは反応初期の

H/D

比が

1以下なの に、反~5 時間後に 7. 08に達するという、ルテニウムオおよび自金と は対照的な経時変化を示した

(

F

i

g

.4).

(

C

D

3)

2

C

O

(10vol事)を加えた

(

C

s

)2CHOH

から は、ロジウム触媒が特に重水素含有率の高い水 Fig.5 素を発生した。 物中に2ープロパニールーメチjレ-d3が多く 含まれていた

(

F

i

g

.

5

)

0 吸着アセトン種と表 面水素種から2-プロパローjレを再生する水素 移動反応(式 (3) )が併発し、水素移動は水 Reactant 素生成の

7

.

1

5

倍速やかに進行することがわかっ(吋HOD DR ~ D RD U R R D :]: vacant site Pt catalyst from (CH3)zCDOH

A: (CH,)2COads (CH1) 2CDO ads Fig.6 R なお、 jレテニウム触媒においては、液相生成 Initial products (CHl)

CO HD>D

>H2 た。

(

C

H

a

)

2

C

H

O

H

+

(

C

D

CO

(CH

CO+

(

C

}1)

2CHOH

(

3 ) E ; CH 1 (CH 2 = ) C 局 O~Àaas

:

'lacant site Ru catalyst from (CH3)ZCDOH Rh catalyst from (C1l3)zCHOD

Reactant (CH3)2CDOH

¥

-

-

-

.

/ _ R ¥ {" RH'_ー ー ム 1 ....

-"RH H / R: (CHd 2CDOads A: (CHd 2COads A (Clh) 2COads R: (CH3hCHOads 2ーブロパノーノレ脱水素反応とアセト ン吸着阻害の機構 炭素担持白金、ロジウムおよびルテニウム触 媒による2ープロパノ-)レ液相脱水素反応機構 の概念図を

F

i

g

.

6

"

-

'

8

に示す。 反応同位効果より、白金およびロジウム触媒 の律速段階はメチン水素裂過程である。表面が 水酸基解離吸着種で覆われているとすると、 2 -プロポキシド

(

C

H

a

)

2COO

メチン基から供 給される重水素種は低く抑えられる。白金触媒 で初期生成水素のほとんどが

H

2

であったこと、 Fig.8

-16-Fig.7

2

.

3

.

(4)

アセトン吸着阻害が低く抑えられたことは、そのためと理解される (Fig.6)。 ロジウム触媒では、 (αも)2侃 ODから生成する水素のH/D原子比が時間経過に伴い著しく増 大した。生成アセトンのエノール体への異性化が容易で、表面の

D

種が次々と

H

種に置き換えられ るためと考えられる (Fig.7)0 一方 (CDa)2COを添加すると、表面には多量のD種が供給される ので(式

(

4

)

および

(

5

)

)、

D

含有率の高い水素を生成する。エノーjレ体はケト体よりも配位 力が強いので、それだけロジウムのアセトン吸着阻害は白金よりも顕著となる。 (Cna) 2COad3

CD3 (C

Th=)

COad3十Dad3 (4)

cna (CD2=) COad3十九4

(

3)(,冊2)

ad3(5)

水酸基解離により生じるノレテニウム表面の2ープロポキシド種を水素種は白金やロジウムより少 なく、引き続いて起こるメチン基解離は容易なため、表面は

H

種も

D

種も吸着しているo吸着水素 種が表面移動し、水素分子を形成し、脱離する過程がjレテニウム触媒の律速段階である (Fig.9)

4

.

結言 2ープロパノーjレ脱水素活性向上には、/レテニウムのメチン水素開裂能と白金の水素脱離能を併 せもたせるのが良い。実際、ルテニウム一白金複合触媒は高い2 -プロハノール液相脱水素活性を 示した30 アセトン阻害を抑制するためには、自金触媒でみられたような、アセトン吸着させ難く、 脱離させ易い表面を構築することが望まれる。 〔文献〕 1) Y .Saito,et al. ,Int.J. Energy

Re

search,1l,594(1987). 2)山下勝,斉藤泰和, “高性能ケ ミカノレヒートポンプ応用事例集サイエンスフォーラム(1991), 206-211頁. 3)亀山秀雄 他,触媒, 31,お5(1990). 4) NEOO業務概要,第11回事業報告会,平成3年10月. 5)斉藤泰和, 最近の化学工学42,“21世 紀 を 目 指 し た 触 媒 開 発 と 化 学 工 学 化 学 工 業 社 (1991), 105-121頁. 6)山下勝他,触媒, 33,368-371(1991). 7) M. Yamashita,et al. , Bull.Chem.Soc. Jpn.,64,6 28(1991).8) E

.

I

to,et al.,Chem,Le

t

t

.

,351-354(1991). ウ ー

参照

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