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西内資料

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Academic year: 2021

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(1)

アジア特許情報の最新動向

アジア特許情報の最新動向

中国実用新案の活用状況

中国実用新案の活用状況

中国実用新案の活用状況

中国実用新案の活用状況

北京北翔知識産権代理有限公司

西内盛二

(2)

2,000,000 2,500,000 3,000,000 163万件 250万件?

激増する中国専利出願

激増する中国専利出願

中国専利出願件数の推移

0 500,000 1,000,000 1,500,000 意匠 実案 発明

(3)

400,000 500,000 600,000 700,000 発明(中) 発明(外)

99.3%

97.3%

中国出願人及び外国出願人の内訳

中国出願人及び外国出願人の内訳

0 100,000 200,000 300,000 400,000 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 発明(外) 実案(中) 実案(外) 意匠(中) 意匠(外)

79.0%

(4)

3.6% 2.4% 0.7%

企業

個人

2010

2010年有効実用新案権における

年有効実用新案権における

実用新案権者の内訳

実用新案権者の内訳

52.4%

40.9%

個人

大学等

科学研究機関

機関団体

専利統計簡報 2011年第7期

日本と異なり、

個人

大学・研究機関

の出願がかなり多い!

(5)

有効実用新案権ランキング

有効実用新案権ランキング

(中国企業)

(中国企業)

2009年 2010年 権利者 件数 権利者 件数 変動 Foxconn (Kunshan) Computer Connector 3,371 Foxconn (Kunshan) Computer Connector 3,791 - BYD 2,395 BYD 2,870 -

Baoshan Iron and Steel 1,924 Baoshan Iron and Steel 2,511 - Hong Fu Jin Precision

Industry (Shenzhen) 1,538

Hong Fu Jin Precision

Industry (Shenzhen) 1,451 - Inventec 1,101 Konka Group 1,449 ↑↑

Haier Group 1,076 PetroChina 1,403 ↑↑

ZTE 991 Chery Automobile 1,390 ↑↑

PetroChina 971 Inventec 1,322 ↓↓

Konka Group 954 Midea Group 1,313 ↑↑

Midea Group 881 ZTE 1,270 ↓↓

(6)

<

<鴻

鴻海+

海+鴻

鴻富

富錦

錦>

>の出願の概要

の出願の概要

1000 1200 1400 1600 1800 2000 18.5% 9.3% 0 200 400 600 800 1000 発明 実案 意匠 72.2% 18.5% 発明 実案 意匠

(7)

500 600 700 800 900 14.2% 10.9%

<

<鴻

鴻海+

海+富士康

富士康>

>の出願の概要

の出願の概要

0 100 200 300 400 500 1 9 9 7 1 9 9 8 1 9 9 9 2 0 0 0 2 0 0 1 2 0 0 2 2 0 0 3 2 0 0 4 2 0 0 5 2 0 0 6 2 0 0 7 2 0 0 8 2 0 0 9 発明 実案 意匠 75.0% 発明 実案 意匠

(8)

有効実用新案権ランキング

有効実用新案権ランキング

(外国企業)

(外国企業)

2009年 2010年

権利者 件数 権利者 件数

MOLEX INC [US] 440 MOLEX INC [US] 344 パナソニック [JP] 323 パナソニック [JP] 328 INTERDIGITAL TECH CORP [US] 170 BLACK & DECKER INC [US] 176 宇系科技有限公司 [?] 155 INTERDIGITAL TECH CORP [US] 169 宇系科技有限公司 [?] 155 INTERDIGITAL TECH CORP [US] 169 ブラザー工業 [JP] 154 ブラザー工業 [JP] 159 パナソニック電工 [JP] 138 MOLEX INC [US] 122

ヤマハ [JP] 130 パナソニック電工 [JP] 120

BLACK & DECKER INC [US] 129 ヤマハ [JP] 120

ダイキン工業 [JP] 117 フジノン [JP] 105

INTERDIGITAL TECH CORP [US] 98 INTERDIGITAL TECH CORP [US] 98

・Appleは81件(12位)

・シュナイダーは36件(30位)

(9)

実用新案出願件数の推移(日米韓独)

実用新案出願件数の推移(日米韓独)

600

800

1,000

603

566

478

352

362

548

0

200

400

2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年

352

362

328

日本

米国

韓国

ドイツ

(10)

InterDigital

InterDigitalの出願概要

の出願概要

150 200 250 24.0% 0 50 100 1 9 9 5 1 9 9 6 1 9 9 7 1 9 9 8 1 9 9 9 2 0 0 0 2 0 0 1 2 0 0 2 2 0 0 3 2 0 0 4 2 0 0 5 2 0 0 6 2 0 0 7 2 0 0 8 2 0 0 9 2 0 1 0 発明 実案 76.0% 発明 実案

(11)

60 70 80 90 100 32.2%

Apple

Appleの出願概要

の出願概要

0 10 20 30 40 50 2 0 0 1 2 0 0 2 2 0 0 3 2 0 0 4 2 0 0 5 2 0 0 6 2 0 0 7 2 0 0 8 2 0 0 9 2 0 1 0 2 0 1 1 発明 実案 意匠 58.0% 9.9% 発明 実案 意匠

(12)

特に実用新案対策が必要となる技術分野

特に実用新案対策が必要となる技術分野

順位

IPC

件数

1

F21Y101/02

13,626

2

F21V23/00

8,337

3

F21V19/00

5,151

実案出願件数上位10分野(IPCサブグループ)

3

F21V19/00

5,151

4

F21V29/00

4,855

5

F21V33/00

4,344

6

H02J7/00

4,129

7

H05K7/20

4,033

8

F21S2/00

3,953

9

H05B37/02

3,572

10

G06F1/16

3,064

(13)

セクション

セクションF

F

3,000 4,000 5,000 6,000

セクションFのサブグループの実案出願件数上位10

分野

0 1,000 2,000 3,000 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 F21Y101/02 F21V23/00 F21V19/00 F21V29/00 F21V33/00 F21S2/00 F21V17/00 F21S8/00 F21V15/02 F24J2/46

(14)

セクションAのサブクラスの実案出願件数上位10

分野

記号 タイトル 合計 A61M 人体の中へ,または表面に媒体を導入する装置;人体用の媒体を交換する,または人 体から媒体を除去するための装置;眠りまたは無感覚を生起または終らせるための装 置 14,282 A61B 診断;手術;個人識別 12,901 A47J 台所用具;コーヒーひき器;香辛料ひき器;飲料を作る装置 11,131 物理的な治療装置,例.人体のつぼの位置を検出または刺激する装置;人工呼吸;

セクション

セクションA

A

A61H 物理的な治療装置,例.人体のつぼの位置を検出または刺激する装置;人工呼吸;マッサージ;特別な治療または人体の特定の部分のための入浴装置 9,676 A47G 家庭用具または食卓用具 9,031 A47B テーブル;机;事務用家具;キャビネット;たんす;家具の一般的細部 8,510 A61F 血管へ埋め込み可能なフィルター;補綴;人体の管状構造を開存させるまたは虚脱を 防ぐ装置,例.ステント;整形外科用具,看護用具または避妊用具;温湿布;目または 耳の治療または保護;包帯;被覆用品または吸収性パッド;救急箱 8,458 A47C いす;ソファー;寝台 7,964 A61L 材料またはものを殺菌するための方法または装置一般;空気の消毒,殺菌または脱 臭;包帯,被覆用品,吸収性パッド,または手術用物品の化学的事項;包帯,被覆用品, 吸収性パッド,または手術用物品のための材料 6,528 A61N 電気治療;磁気治療;放射線治療;超音波治療 5,576

(15)

1,500 2,000 2,500

セクションCのサブクラスの実案出願件数上位10分野

セクション

セクションC

C

0 500 1,000 1,500 2001 2002 2003 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 C02F C21D C23C C12M C01B C10B C10J C03B C07C C22B

(16)

「技術的な示唆」の存在を判断する基準

従来技術の分野

従来技術の数

当該発明特許が属する技術分野を考慮する 1件、2件又は

多数

の従来技術を

発明:

際立った実質的特徴

顕著な進歩

実用新案:

実質的特徴

進歩

中国実用新案制度の特徴

中国実用新案制度の特徴

進歩性の判断基準

進歩性の判断基準

当該発明特許が属する技術分野を考慮する

だけでなく、それに近い分野又は関連する技

術分野、及び当該発明が解決しようとする技

術的課題により当業者が技術的手段を調べ

得るその他の技術分野についても考慮

1件、2件又は

多数

の従来技術を

引用できる。

当該実用新案特許の属する技術分野を

考慮することを重視

1件又は2件

の従来技術を引用可

従来技術において明確な示唆が与えら

れている場合、それに近い分野又は関連

する技術分野を考慮

従来技術の「簡単な組合せ」から

なる場合は状況に応じて多数の

従来技術を引用可能

(17)

無効審決の内訳

無効審決の内訳

40% 60% 80% 100% 10.0% 11.9% 11.3% 10.1% 9.6% 12.8% 29.4% 31.4% 32.9% 30.4% 36.6% 31.2% 33.9% 35.8% 維持 部分無効 全部無効 0% 20% 40% 2000年 2001年 2002年 2003年 2004年 2005年 2006年 2007年 43.9% 38.7% 28.4% 28.7% 24.6% 30.0% 25.5% 30.2% 11.3% 10.1% 9.3% 9.6% 11.5% 12.8%

2008.8.31までの審決の平均比率

【実案】 維持:部無:全無 = 31.8% : 11.5% : 33.3%

【発明】 維持:部無:全無 = 30%:16%:25%

(18)

①権利行使の際の評価書の提示義務

・検索報告の提出は訴訟提起の条件ではない

(最高人民法院、北京市高級人民法院宛の「検索報告の提出は実用新案

特許権の訴訟条件であるか否かの照会」に対する回答)

②「より高度な注意義務」

中国実用新案制度の特徴

中国実用新案制度の特徴

エンフォースメント段階

エンフォースメント段階

②「より高度な注意義務」

・「

より高度な注意義務」は課されない!

③過失の推定

・実用新案特許に基づく権利行使においても侵害者の過失が推定される

④訴訟の中止

・無効審判が提起された場合、侵害訴訟は原則中止

(19)

激増する中国知財訴訟

激増する中国知財訴訟

42,931 59,612 4,000 5,000 6,000 7,000 40,000 50,000 60,000 70,000

渉外知的財産権民事事件

渉外知的財産権民事事件一審の受理件数の推移

13,424 14,219 17,877 24,406 30,626 268 353 668 1,139 1,361 1,369 1,321 -1,000 2,000 3,000 4,000 -10,000 20,000 30,000 40,000 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 全体 渉外 台・香・マカオ

(20)

知的財産権民事事件一審における

知的財産権民事事件一審における

知的財産権の種別

知的財産権の種別

2010年

2011年

受理件数

前年比

受理件数

前年比

特・実・意

5,785

+30.8%

7,819

35.2%

特・実・意

5,785

+30.8%

7,819

35.2%

商標

8,460

+22.5%

12,991

53.6%

著作権

24,719

+61.5%

35,185

42.3%

技術契約

670

-10.3%

557

-16.9%

不正競争

1,131

-11.8%

1,137

+0.5%

その他知財関連

1,966

+14.2%

2,193

+11.5%

(21)

1,286 2,143 1,565 2,485 1,500 2,000 2,500 3,000 69 111 120 56 65 136 80 100 120 140 160 2010年

上海市の法院が受理した知的財産権民事事件一審

上海市の法院が受理した知的財産権民事事件一審

発明侵害:実案侵害:意匠侵害=21.8%:25.3%:52.9% (2011年)

327 294 101 1 44 65 25 321 293 94 2 55 125 30 0 500 1,000 56 0 20 40 60 2011年 2011年上海法院知識産権審判白皮書

(22)

原告-被告 2009年 2010年 2011年 2012年 合計 件数 比率 件数 比率 件数 比率 件数 比率 件数 比率 中国個人-中国個人 52 19.0% 61 21.2% 7 20.0% 0.0% 120 20.1% 中国個人-中国法人 127 46.5% 101 35.1% 15 42.9% 1 50.0% 244 40.8%

中国実用新案権訴訟の分析

中国実用新案権訴訟の分析

中国個人-外国法人 0 0.0% 0 0.0% 0 0.0% 1 50.0% 1 0.2% 中国法人-中国個人 19 7.0% 31 10.8% 2 5.7% 1 50.0% 53 8.9% 中国法人-中国法人 106 38.8% 135 46.9% 14 40.0% 0.0% 255 42.6% 中国法人-外国法人 0 0.0% 0 0.0% 0 0.0% 0.0% 0 0.0% 事件数 273 288 35 2 598

北大法宝(

http://vip.chinalawinfo.com/

)収録データに基づく

(23)

15.0%

20.0%

25.0%

発明専利権の維持率

発明専利権の維持率

0.0%

5.0%

10.0%

1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20

中国権利者

外国権利者

専利統計簡報 2011年第7期

(24)

20.0%

25.0%

30.0%

35.0%

実用新案専利権の維持率

実用新案専利権の維持率

専利統計簡報 2011年第7期

0.0%

5.0%

10.0%

15.0%

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

中国権利者

外国権利者

(25)

40.0%

50.0%

60.0%

70.0%

80.0%

中国権利者

意匠専利権の維持率

意匠専利権の維持率

専利統計簡報 2011年第7期

0.0%

10.0%

20.0%

30.0%

40.0%

1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

中国権利者

外国権利者

(26)

中国特許権者による特許権の

中国特許権者による特許権の

実施状況についての分析

実施状況についての分析

ライセンス登録の概要

ライセンス登録の概要

2009年 2010年 2011年 ライセンス登録件数 (前年比) 12,403 (+48.0%) 9,772 (-21.2%) 10,270 (+5.1%) ライセンス料の合計(億元) 121.1 77.2 60.8 ライセンスにかかる専利権 (全専利に占める割合) 発明 5,576 (30.6%) 5,108 (32.4%) 6,335 (29.0%) 実案 10,442 (57.2%) 8,336 (52.9%) 11,985 (54.9%) 意匠 2,226 (12.2%) 2,318 (14.7%) 3,526 (16.1%) 合計 18,244 15,762 21,846 専利統計簡報 2010年第12期,2011年第9期,2012年第4期

(27)

2009年

2010年

2011年

独占ライセンス

11,877

(95.7%)

9,248

(94.7%)

9,522

(92.7%)

排他的ライセンス

126

(1.0%)

121

(1.2%)

138

(1.3%)

通常ライセンス

370

(3.0%)

399

(4.1%)

604

(5.9%)

ライセンスの種別

ライセンスの種別

通常ライセンス

370

(3.0%)

399

(4.1%)

604

(5.9%)

クロスライセンス

0

(0.0%)

1

(0.0%)

0

(0.0%)

サブライセンス

34

(0.3%)

4

(0.0%)

10

(0.1%)

合計

12,407

9,769

10,274

専利統計簡報 2010年第12期,2011年第9期,2012年第4期

(28)

ライセンサーの種別

件数

比率

中国

個人

6,031

53.6%

企業

3,325

29.5%

科学研究機関

374

3.3%

大学等

1,212

10.8%

ライセンサーの種別

ライセンサーの種別

大学等

1,212

10.8%

事業単位

66

0.6%

中国合計

11,008

97.8%

外国

単位

223

2.0%

個人

25

0.2%

外国合計

248

2.2%

合計

11,256

専利統計簡報 2010年第12期,2011年第9期,2012年第4期

(29)

2009年

2010年

2011年

1億元以上

23

(0.2%)

19

(0.2%)

7

(0.1%)

1000万~1億元

35

(0.3%)

51

(0.5%)

81

(0.8%)

100万~1000万元

413

(3.3%)

316

(3.2%)

351

(3.4%)

10万~100万元

2,130

(17.2%)

1,466

(15.0%)

1,386

(13.5%)

ライセンス料の内訳

ライセンス料の内訳

10万~100万元

2,130

(17.2%)

1,466

(15.0%)

1,386

(13.5%)

1万~10万元

2,793

(22.5%)

2,156

(22.1%)

2,061

(20.1%)

0~1万元

982

(7.9%)

837

(8.6%)

566

(5.5%)

無償

6,027

(48.6%)

4,927

(50.4%)

5,818

(56.7%)

合計

12,403

9,772

10,270

専利統計簡報 2010年第12期,2011年第9期,2012年第4期

(30)

質権登録の概要

質権登録の概要

2008年 2009年 2010年 質権登録件数 (前年比) 93 168(+80.6%) 362(+115.5%) 質権にかかる専利権 (全特許に占める割合) 発明 - 279(41.6%) 446(41.4%) 実案 - 306(45.7%) 589(54.7%) 意匠 - 85(12.7%) 41(3.8%) 質権一件あたりの専利件数 2.4 4 2.97 質権一件あたりの専利件数 2.4 4 2.97 債権額の合計(億元) 13.84 74.59 70.66 質権一件あたりの債権額(万元) 1487.8 4439.7 1951.9 質権設定期間 (全体に占める割合) 1年未満 - 11(6.5%) 33(9.1%) 1年~2年未満 - 79(47.0%) 196(54.1%) 2年~3年未満 - 28(16.7%) 44(12.2%) 3年以上 - 50(29.8%) 89(24.6%) 専利統計簡報 2010年第12期,2011年第9期,2012年第4期

(31)

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