平成２０年度
特許出願技術動向調査報告書
フォトマスク
（要約版）
＜目次＞
第１章
フォトマスクの俯瞰 . . . 1第２章
フォトマスクに関する特許動向分析 . . . 6第３章
フォトマスクに関する研究開発動向分析 . . . 35第４章
フォトマスクの政策動向分析 . . . 40第５章
フォトマスクの市場環境分析 . . . 43第６章
総合分析. . . 44平成２１年４月
特 許 庁
問い合わせ先
特許庁総務部企画調査課 技術動向班
電話：０３−３５８１−１１０１（内線２１５５）
第 1 章 フ ォ ト マ ス ク の 俯 瞰
第 １ 節 フ ォ ト マ ス ク の 概 要
１ ． フ ォ ト マ ス ク に 関 す る 技 術 の 俯 瞰
半 導 体 素 子 の 驚 異 的 発 展 を 支 え て き た の は フ ォ ト リ ソ グ ラ フ ィ に よ る パ タ ー ン 微 細 化 技 術 の 進 歩 で あ り 、 そ の リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 の 中 核 技 術 の １ つ に フ ォ ト マ ス ク 技 術 が あ る 。
フ ォ ト マ ス ク 技 術 は 、 フ ォ ト マ ス ク 構 成 要 素 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 製 造 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 用 途 技 術 に 大 別 さ れ る 。 フ ォ ト マ ス ク 構 成 要 素 技 術 は 原 材 料 技 術 と 層 構 成 技 術 、 位 相 シ フ ト な ど の パ タ ー ン 構 成 技 術 か ら な る 。 近 年 重 要 性 が 増 し て き て い る DF M（ Des i gn F or Manuf ac t ur abi l i t y）技 術 は 主 に パ タ ー ン 構 成 技 術 に 含 ま れ る 。フ ォ ト マ ス ク 製 造 技 術 は ブ ラ ン ク ス 工 程 に 関 す る 製 造 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 工 程 に 関 す る 製 造 技 術 に 分 類 さ れ る 。 フ ォ ト マ ス ク 用 途 技 術 に は 、 保 管 技 術 、 運 搬 技 術 、 位 置 決 め ・ 固 定 技 術 、 半 導 体 や 液 晶 パ ネ ル 用 な ど の 応 用 分 野 対 応 技 術 が あ り 、さ ら に 、露 光 機 対 応 技 術 と し て 、光 露 光（ 光 マ ス ク ）、EUV 露 光
（ EUV マ ス ク ）、X 線 露 光（ X 線 マ ス ク ）、粒 子 線 露 光（ 粒 子 線（ 電 子 ビ ー ム 線 ）マ ス ク ）な ど へ の 対 応 技 術 が あ る 。
フ ォ ト マ ス ク に お け る 主 な 技 術 的 な 課 題 と し て 、 パ タ ー ン 精 度 の 向 上 、 マ ス ク 製 造 コ ス ト の 低 減 、 品 質 ・ 信 頼 性 の 向 上 、 納 期 の 短 縮 、 大 面 積 化 な ど が あ げ ら れ る 。
フ ォ ト マ ス ク の 応 用 産 業 と し て 、 半 導 体 、 フ ラ ッ ト パ ネ ル デ ィ ス プ レ イ （ 以 下 F PD（ 特 に 液 晶 パ ネ ル ））、そ の 他（ プ リ ン ト 配 線 板 他 ）、さ ら に 、新 し い 用 途 と し て 、MEMS な ど が あ り 、 半 導 体 、 F PD が 主 体 で あ る 。
フ ォ ト マ ス ク の 技 術 俯 瞰 図 を 図 1- 1 に 示 す 。
図 1- 1 フ ォ ト マ ス ク の 技 術 俯 瞰 図
関連技術
用途技術製造技術構成技術 その他(プリント基板他) ＦＰＤ(液晶他)
半導体
応用分野対応
化学増幅型レジスト (フォトレジスト) 層構成
（バイナリー、多層反射膜等） ブランクス
成膜 レジスト塗布 描画 現像 エッチング ペリクル装着 フォトマスク
今回の調査範囲
課題
RET/OPC 位相シフト DFM
現像液 (エッチング液)
プラズマガス ペリクル 原材料
位置精度検査
寸法検査
欠陥検査 検査
運搬技術
保管技術
パターン精度の向上 マスク製造コストの低減納期の短縮大面積化
品質・信頼性の向上
フォトマスク技術 半導体
F P D (液晶、PDP、有機ＥＬ)
その他
(プリント基板他) MEMS 他 新 しい用途
露光機対応技術
エキシマレーザ
(ArF/KF)
紫外光
( ｉ線、ｇ線)
可視光
光露光
光マスク(OPC マスク、 位相シフトマスク他)
ＥＵＶ露光
EUVマスク (反射光)
遮光膜(Cr他)
基板研磨
● フォトマスクの技術俯瞰図
フォトマスク の応用 産業
位置決め・固定技術
フィルム
低膨張ガラス
ソーダ石灰ガラス
合成石英ガラス
基板
ゼラチン膜
パターン構成
修正
(ナノマシーン法) 荷電粒子法 レーザーCDV法 レーザー法
白／黒修正
Ｘ線露光 粒子線露光(ＥＢ他)
・ステンシルマスク
・メンブレンマスク
ペリクルホルダー
設計微修正
その他
２ ． フ ォ ト マ ス ク 技 術
フ ォ ト マ ス ク 技 術 は 、 フ ォ ト マ ス ク 構 成 要 素 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 製 造 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 用 途 技 術 に 大 別 さ れ る 。 各 技 術 に つ い て 以 下 で 説 明 す る 。
な お 、半 導 体 の 高 集 積 化 、パ タ ー ン の 微 細 化 が 進 む に つ れ て 製 造 の 困 難 性 が 増 加 し て お り 、 設 計 段 階 か ら 製 造 容 易 性 を 考 慮 す る DF M（ Des i gn F or Manuf ac t ur abi l i t y）技 術 、LF D（ L i t ho F r i endl y Des i gn）技 術 の 重 要 性 が 増 し て き て い る が 、半 導 体 製 造 全 体 に 関 係 す る 技 術 な の で 、 フ ォ ト マ ス ク に 調 査 範 囲 を 限 定 し た 今 回 調 査 で は 、 該 当 特 許 出 願 は あ ま り 多 く な か っ た 。 ま た 同 様 に 、 近 年 開 発 が 進 ん で い る テ ン プ レ ー ト マ ス ク に 関 し て も 、 フ ォ ト マ ス ク に 調 査 範 囲 を 限 定 し た 今 回 調 査 で は 大 部 分 が 調 査 範 囲 外 と な っ て し ま い 、 該 当 特 許 出 願 は あ ま り な か っ た 。
（ １ ） フ ォ ト マ ス ク 構 成 要 素 技 術
フ ォ ト マ ス ク 構 成 要 素 技 術 は 原 材 料 技 術 と 層 構 成 技 術 、 パ タ ー ン 構 成 技 術 か ら な る 。 原 材 料 と し て は ブ ラ ン ク ス 基 板 、遮 光 膜・ハ ー フ ト ー ン 膜 、レ ジ ス ト 、ペ リ ク ル 等 が あ る 。 ブ ラ ン ク ス 基 板 は フ ィ ル ム 基 板 と ガ ラ ス 基 板 に 大 別 さ れ 、 半 導 体 用 、 F PD 用 は ほ と ん ど ガ ラ ス 基 板 で あ る 。ガ ラ ス 基 板 で は ほ と ん ど Cr 系 遮 光 膜 が 使 わ れ 、フ ィ ル ム 基 板 で は ハ ロ ゲ ン 化 銀 エ マ ル ジ ョ ン 膜 が レ ジ ス ト 、 遮 光 膜 兼 用 で 用 い ら れ る 。 ハ ー フ ト ー ン 膜 に は 主 に MoSi 、 MoSi N 等 の ス パ ッ タ 膜 が 用 い ら れ て い る 。 レ ジ ス ト は 多 様 で あ る が 、 半 導 体 用 フ ォ ト マ ス ク で は 化 学 増 幅 型 レ ジ ス ト が 主 流 で あ る 。 フ ォ ト マ ス ク の 表 面 保 護 膜 で あ る ペ リ ク ル は 、 セ ル ロ ー ス 系 樹 脂 や フ ッ 素 系 樹 脂 が 通 常 用 い ら れ る 。
フ ォ ト マ ス ク の 層 構 成 、 パ タ ー ン 構 成 に は マ ス ク が 使 わ れ る リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 に よ っ て 多 く の 種 類 が あ る 。 主 な も の に 、 基 本 的 な 遮 光 部 と 光 透 過 部 と か ら な る 2 階 調 の バ イ ナ リ ー マ ス ク 、 隣 接 す る パ タ ー ン の 回 折 光 に よ る 干 渉 （ 光 近 接 効 果 ） を 打 ち 消 す た め に パ タ ー ン 部 と 非 パ タ ー ン 部 の 光 位 相 を 反 転 さ せ る 位 相 シ フ ト マ ス ク 、 有 力 な 次 世 代 リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 候 補 と し て 検 討 が 進 ん で い る EUV リ ソ グ ラ フ ィ 用 マ ス ク 、 電 子 線 リ ソ グ ラ フ ィ 用 の ス テ ン シ ル マ ス ク 、メ ン ブ レ ン マ ス ク 等 が あ る 。EUV 用 マ ス ク は 反 射 型 マ ス ク で 、Mo と Si の 多 層 膜 に よ る 反 射 層 に パ タ ー ン を 描 い た EUV 吸 収 層 を 載 せ た 構 造 で あ る 。 ス テ ン シ ル マ ス ク は 電 子 線 透 過 用 に 開 口 部 を 開 け た マ ス ク で あ り 、 支 持 薄 膜 を 残 し た （ ま た は 付 け た ） マ ス ク が メ ン ブ レ ン マ ス ク で あ る 。ま た 光 近 接 効 果 補 正（ OPC）技 術（ 希 望 す る パ タ ー ン が 転 写 さ れ る よ う に マ ス ク パ タ ー ン を 変 形 す る ） も パ タ ー ン 構 成 技 術 で あ り 、 現 在 の 先 端 リ ソ グ ラ フ ィ に あ っ て は 不 可 欠 な 技 術 と な っ て い る 。
主 な フ ォ ト マ ス ク の 模 式 図 を 図 1- 2 に 、 OPC 技 術 に よ る パ タ ー ン 変 形 の 模 式 図 を 図 1- 3 に 示 す 。
図 1- 2 主 な フ ォ ト マ ス ク の 模 式 図
図 1- 3 OPC 技 術 に よ る パ タ ー ン 変 形 の 模 式 図
（ ２ ） フ ォ ト マ ス ク 製 造 技 術
フ ォ ト マ ス ク 製 造 技 術 は ブ ラ ン ク ス 工 程 に 関 す る 製 造 技 術 、 フ ォ ト マ ス ク 工 程 に 関 す る 製 造 技 術 に 分 類 さ れ る 。 ブ ラ ン ク ス 工 程 は 基 板 研 磨 、 成 膜 、 レ ジ ス ト 塗 布 か ら な り 、 フ ォ ト マ ス ク 工 程 は 描 画 、 現 像 ・ エ ッ チ ン グ 、 検 査 、 修 正 、 ペ リ ク ル 装 着 か ら な る 。
基 板 の 欠 陥 は 修 正 が 困 難 で 、 転 写 へ の 影 響 が 大 き い た め 、 低 い 表 面 粗 さ と 高 平 坦 度 が 求 め ら れ る 。 現 在 は 半 導 体 の CMP 技 術 に 近 い 研 磨 方 法 も 使 わ れ て い る 。 遮 光 膜 、 ハ ー フ ト ー ン 膜 等 は ス ッ パ タ リ ン グ に よ り 成 膜 さ れ て い る 。 描 画 は 微 細 加 工 性 に 優 れ た 電 子 ビ ー ム 描 画 と 、 微 細 加 工 性 は 劣 る が 、 真 空 系 が 不 要 で 生 産 性 に 優 れ 、 ス ル ー プ ッ ト も 高 い レ ー ザ ー 描 画 の 2 つ の 方 法 が あ り 、 パ タ ー ン サ イ ズ 等 で 使 い 分 け ら れ る 。
バイナリーマスク 位相シフト（ハーフトーン） 位相シフト（レベンソン）
EUVマスク
ステンシルマスク
電子線
EUV 光
光 光
←遮光膜
←遮光膜 基板
基板
←ﾊ ｰ ﾌ ﾄｰ ﾝ 膜
反射
←吸収層
←反射層
メンブレンマスク
電子線
←メンブレン (支持膜)
（ハーフトーン膜の上には周辺遮光 用等の遮光膜が付いているが省略）
マスクパターン 露光パターン
露光
露光
光近接効果で変形してしまう！
希望に近いパターンが得られる
マスクパターン 露光パターン
露光
露光
光近接効果で変形してしまう！
希望に近いパターンが得られる
検 査 に は 、 欠 陥 検 査 、 寸 法 検 査 、 位 置 精 度 検 査 等 が あ る 。 フ ォ ト マ ス ク を 使 用 し て 製 造 し た 全 て の 製 品 品 質 に 直 結 す る た め 、 全 て の マ ス ク パ タ ー ン が 仕 様 を 満 足 し て い る こ と を 保 証 す る 必 要 が あ り 、 非 常 に 重 要 で あ る 。 修 正 に は 黒 欠 陥 修 正 と 白 欠 陥 修 正 が あ る 。 黒 欠 陥 修 正 に は レ ー ザ ー 法 や 荷 電 粒 子 法 、 ナ ノ マ シ ー ン 法 な ど が あ り 、 白 欠 陥 修 正 は F I B 装 置 で 有 機 ガ ス を 使 用 し て 欠 陥 部 分 に カ ー ボ ン を 堆 積 さ せ る 方 法 が 主 流 で あ る 。
（ ３ ） フ ォ ト マ ス ク 用 途 技 術
フ ォ ト マ ス ク 用 途 技 術 に は 、 保 管 技 術 、 運 搬 技 術 、 位 置 決 め ・ 固 定 技 術 が あ り 、 傷 つ け た り 塵 埃 が 付 着 す る こ と の な い よ う な 収 納 、 運 搬 ケ ー ス や 保 管 条 件 が 開 発 さ れ て い る 。 露 光 時 の 位 置 決 め や 固 定 の 工 夫 も 多 い 。
ま た 、 半 導 体 や 液 晶 パ ネ ル 用 な ど の 応 用 分 野 に 対 応 し た 技 術 や 、 露 光 機 対 応 技 術 と し て 、 光 露 光 、EUV 露 光 、X 線 露 光 、粒 子 線 露 光 な ど に 対 応 し た 技 術 も 含 ま れ る 。半 導 体 用 途 で は 微 細 化 の 進 展 と と も に 現 行 リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 の 延 命 と EUV 等 次 世 代 リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 の 開 発 が 進 め ら れ て い る 。 FPD 用 途 で は 、 先 端 技 術 の 半 導 体 と 比 べ る と パ タ ー ン サ イ ズ は 大 き い が 、 デ ィ ス プ レ イ の 大 型 化 と 低 価 格 化 に 対 応 し て 、 フ ォ ト マ ス ク の 大 面 積 化 が 強 く 要 求 さ れ て い る 。
第 ２ 節 フ ォ ト マ ス ク の 応 用 産 業 の 概 要
フ ォ ト マ ス ク 技 術 は 、 リ ソ グ ラ フ ィ 技 術 の 主 要 な 一 部 で あ り 、 半 導 体 、 各 種 電 子 部 品 の 製 造 に 使 用 さ れ る 。 フ ォ ト マ ス ク を 使 用 す る 主 な 用 途 は 、 半 導 体 と FPD（ 液 晶 、 プ ラ ズ マ 、 有 機 EL 等 ） が 主 体 で あ り 、 そ の 他 に プ リ ン ト 配 線 板 、 MEMS 等 が あ る 。
フ ォ ト マ ス ク の 応 用 産 業 と し て は 半 導 体 産 業 が 大 半 を 占 め て お り 、 次 い で F PD で 、 プ リ ン ト 配 線 板 、 MEMS 等 の 用 途 は あ ま り 大 き く な い 。
半 導 体 産 業 は 、 WSTS（ WORL D SEMI CONDUCTOR TRADE STATI STI CS： 世 界 半 導 体 市 場 統 計 ） に よ る 世 界 地 域 別 半 導 体 市 場 予 測（ 2008 年 11 月 ）で は 、2009 年 の 半 導 体 の 世 界 市 場 が 2. 2％ の マ イ ナ ス 成 長 で 、 約 2, 561 億 ド ル と な る 見 込 み と 発 表 さ れ て い る 。 2008 年 春 の 予 測 で は 5. 8％ の 成 長 が 見 込 ま れ て い た 。前 年 割 れ は I T バ ブ ル 崩 壊 が 影 響 し た 2001 年 以 来 8 年 ぶ り で あ る 。な お 、2010 年 は 一 転 し て 6. 5％ の 伸 び が 予 測 さ れ て い る 。但 し 、現 状（ 2009 年 2 月 時 点 ） は こ の 予 測 よ り も 更 に 悪 化 し て い る と の 意 見 が 出 て い る （ 半 導 体 メ ー カ ー ）。
主 な 半 導 体 メ ー カ ー に は 、 米 国 の イ ン テ ル 、 テ キ サ ス イ ン ス ツ ル メ ン ツ 、 韓 国 の 三 星 電 子 、 ハ イ ニ ッ ク ス セ ミ コ ン ダ ク タ ー 、 欧 州 の エ ス テ ー マ イ ク ロ エ レ ク ト ロ ニ ク ス 、 イ ン フ ィ ニ オ ン テ ク ノ ロ ジ ー ズ 、 エ ヌ エ ッ ク ス ピ ー セ ミ コ ン ダ ク タ ー ズ 、 日 本 の 東 芝 、 エ ヌ イ ー シ ー エ レ ク ト ロ ニ ク ス 、 ル ネ サ ス テ ク ノ ロ ジ （ 日 立 と 三 菱 電 機 の J V）、 な ど が あ る 。
F PD と し て は 、液 晶 、プ ラ ズ マ（ PDP）、有 機 EL 等 の デ ィ ス プ レ イ が あ る が 、現 在 の と こ ろ 液 晶 パ ネ ル 市 場 が 大 部 分 を 占 め て い る 。 液 晶 パ ネ ル の 主 要 メ ー カ ー は 、 韓 国 の 三 星 電 子 、 エ ル ジ ー デ ィ ス プ レ イ 、 台 湾 の エ ー ユ ー オ プ ト ロ ニ ク ス （ AUO）、 チ メ イ オ プ ト エ レ ク ト ロ ニ ク ス （ CMO）、 日 本 の シ ャ ー プ 等 で あ る 。 液 晶 パ ネ ル に 次 ぐ プ ラ ズ マ パ ネ ル は 急 激 な 価 格 低 下 が 進 ん で 激 し い 業 界 再 編 が 行 わ れ て お り 、 パ ナ ソ ニ ッ ク 、 韓 国 の 三 星 電 子 、 エ ル ジ ー デ ィ ス プ レ イ の 3 社 に 集 約 が 進 ん で い る 。
第 ２ 章 フ ォ ト マ ス ク に 関 す る 特 許 動 向 分 析
第 １ 節 調 査 方 法 と 対 象 と し た 特 許 １ ． 調 査 方 法
フ ォ ト マ ス ク に 関 す る 特 許 出 願 動 向 に つ い て 、 全 体 出 願 ・ 登 録 動 向 分 析 、 技 術 区 分 別 動 向 分 析 、 出 願 人 （ 発 明 者 ） 別 動 向 分 析 を 行 っ た 。
特 許 検 索 に お け る デ ー タ ベ ー ス は 、 日 本 へ の 出 願 に つ い て は PATOLI S（ 株 式 会 社 パ ト リ ス の 登 録 商 標 ）、 外 国 へ の 出 願 に つ い て は Der went Wor l d Pat ent s I ndex（ WPI NDEX（ STN）） を 用 い た 。検 索 日 は 日 本 特 許：2008 年 7 月 16 日 、海 外 特 許：2008 年 7 月 23 日 で あ る 。調 査 対 象 と し て は 、優 先 権 主 張 日 2001 年 1 月 1 日 か ら 2006 年 12 月 31 日 の 特 許 出 願 と し た 。な お 、 デ ー タ ベ ー ス 収 録 ま で の 時 間 差 に よ り 全 デ ー タ が 収 録 さ れ て い る 年 が 各 国 で 異 な っ て お り 、 特 に 2005 年 以 降 は 全 デ ー タ が 取 得 さ れ て い な い 場 合 が あ る こ と を 念 頭 に お い て お く 必 要 が あ る 。 さ ら に PCT 出 願 で は 国 内 移 行 ま で の 時 間 が 長 く 、 公 表 公 報 発 行 時 期 が 国 内 出 願 の 公 開
（ 1 年 6 ヵ 月 ） よ り 遅 く な る 事 情 も あ る 。
ま た 、 登 録 件 数 の 推 移 に つ い て は 、 特 許 出 願 か ら 審 査 請 求 ま で の 期 間 と 審 査 に か か る 期 間 が 個 別 に 異 な る こ と 及 び 日 本 に お い て は 、 従 来 、 出 願 か ら 7 年 間 で あ っ た 審 査 請 求 ま で の 期 間 が 2001 年 10 月 以 降 の 出 願 か ら 3 年 に 短 縮 さ れ て お り 、 現 在 こ れ ら が 混 在 し た 移 行 期 間 で あ る こ と も 念 頭 に お く 必 要 が あ る 。 す な わ ち 、 今 後 審 査 が 進 む に つ れ て 登 録 件 数 は 増 加 す る 可 能 性 が あ る 。
特 許 動 向 分 析 は 、 検 索 さ れ た 公 開 公 報 及 び 登 録 公 報 （ 韓 国 、 中 国 、 台 湾 に つ い て は 抄 録 ） の 内 容 か ら 、 用 途 軸 、 課 題 軸 及 び 解 決 手 段 軸 と い う 分 析 軸 を 設 け て 分 類 し た 。
表 2- 1 に 分 析 軸 （ 小 分 類 ま で ） を 示 す 。
大 分 類：用 途 軸 は 、露 光 対 象（ 応 用 分 野 ）、光 源 の 種 別 、マ ス ク の 種 別 及 び 露 光 シ ス テ ム の 種 別 を 中 分 類 と し た 。
大 分 類 ： 課 題 軸 は パ タ ー ン 精 度 の 向 上 、 パ タ ー ン 精 度 の 維 持 、 微 細 化 、 大 面 積 化 、 品 質 ・ 信 頼 性 の 向 上 、マ ス ク 製 造 コ ス ト の 低 減 、納 期 の 短 縮 、環 境 問 題 対 応 、ア ラ イ メ ン ト 性 向 上 、 互 換 性 、 デ バ イ ス 等 応 用 分 野 の 課 題 及 び そ の 他 の 課 題 を 中 分 類 と し た 。
解 決 手 段 軸 は 、大 分 類 と し て 構 成 要 素 技 術 、製 造 技 術 、検 査・修 正 技 術 及 び 周 辺 技 術 と し 、 こ れ ら を さ ら に 中 分 類 以 下 に 分 類 し た 。
構 成 要 素 技 術 は 材 料 、構 造（ 層 構 成 等 ）、パ タ ー ン 構 成 及 び そ の 他 に 中 分 類 し た 。製 造 技 術 は ブ ラ ン ク ス 製 造 技 術 、 マ ス ク 製 造 技 術 、 ペ リ ク ル 装 着 技 術 、 マ ス ク 再 生 技 術 、 異 物 洗 浄 及 び そ の 他 に 中 分 類 し た 。 検 査 ・ 修 正 技 術 は 検 査 、 修 正 、 洗 浄 及 び そ の 他 に 中 分 類 し た 。 周 辺 技 術 は 保 管 、 運 搬 、 使 用 管 理 、 位 置 き め ・ 固 定 及 び そ の 他 に 中 分 類 し た 。
用 途 、課 題 及 び 解 決 手 段 が そ れ ぞ れ 複 数 個 記 載 さ れ て い る 場 合 は 複 数 の 分 類 を 付 与 し た が 、 分 析 の 際 に は 用 途 以 外 は 主 た る 課 題 、 主 た る 解 決 手 段 に つ い て の み 分 析 を お こ な っ た 。
分 類 ・ 分 析 す る に あ た っ て は 、 同 一 発 明 を 複 数 の 出 願 先 に 出 願 し て い る 特 許 出 願 、 す な わ ち フ ァ ミ リ ー 特 許 出 願 が あ る 場 合 は 、 日 本 、 米 国 、 欧 州 、 韓 国 、 中 国 、 台 湾 及 び そ の 他 の 出 願 先 の 順 に 優 先 し て 読 み 込 み 、対 応 す る 他 の 特 許 出 願 に も 同 一 の 分 類 結 果 を 付 与 し た 。但 し 、 日 本 へ の 特 許 出 願 に つ い て は 全 公 報 を 読 み 込 ん で い る 。 な お 、 フ ァ ミ リ ー 特 許 出 願 の 情 報 は WPI の デ ー タ に 基 づ い て い る 。 ま た 、 出 願 件 数 及 び 登 録 件 数 の カ ウ ン ト は 、 特 記 の な い 場 合
は 、 各 国 ・ 地 域 へ の 出 願 の 公 報 一 つ 一 つ を 個 別 に カ ウ ン ト す る 「 公 報 単 位 」 に よ る カ ウ ン ト の 方 法 で 行 い 、分 析 し て い る 。な お 、技 術 分 類 作 業 に お い て ノ イ ズ と 判 断 さ れ た 特 許 出 願 は 、 分 析 対 象 か ら 除 外 し た 。
表 2- 1 分 析 軸
( a） 用 途 軸 （ 小 分 類 ま で ） ( b） 課 題 軸 （ 小 分 類 ま で ）
大 分 類 中 分 類 小 分 類 大 分 類 中 分 類 小 分 類
半 導 体 （微 細 ）
ＣＤ精 度 の 向 上
（線 幅 寸 法 精 度 ） フラットパネル
（微 細 大 型 ）
位 置 精 度 の 向 上
立 体 物
平 坦 度 向 上 、 反 り・応 力 の 補 正 磁 気 ヘッド（MR 素 子 ）
パターン精 度 の 向 上
その他
光 学 部 材 （レンズ） パターン精 度 の 維 持
カラーフィル ター 数 値 −線 幅 （nm）
印 刷 物 ラインアンドスペースパ ターン
プリント配 線 板 （P WB ) コンタクトホール パターン
汎 用 ゲートパターン
露 光 対 象
（応 用 分 野 ）
その他
微 細 化
その他
可 視 光 大 面 積 化
紫 外 光 （i 線 、g 線 等 ） 耐 久 性
エキシマレーザ 剛 性
ＥＵＶ
品 質 ・信 頼 性 の 向 上
その他
Ｘ線 歩 留 の向 上
粒 子 線 スループットの 向 上
光 源 の種 別
その他
マスク製 造 コスト の低 減
その他
ステンシルマスク 高 速 化
メンブレンマスク
納 期 の短 縮
その他
グレースケール マスク 環 境 問 題 対 応
テンプレートマスク アライメント性 向 上
反 射 型 マスク 互 換 性
マスクの 種 別
その他 品 質 向 上
ステッパ 歩 留 向 上
スキャナ スループットの 向 上
近 接
デバイス等 応 用 分 野 の 課 題
その他 近 接 場 光
課題
その他 密 着
特 殊 照 明
（輪 帯 、傾 斜 、偏 光 等 ） 液 浸
大 面 積 露 光 つなぎ合 わ せ（分 割 ） 多 重 露 光 、トリム露 光
用途
露 光 システムの 種 別
その他
( c ) 解 決 手 段 軸 （ 小 分 類 ま で ）
大 分 類 中 分 類 小 分 類 大 分 類 中 分 類 小 分 類
基 板 検 査 対 象
遮 光 膜 検 査 部 位
特 殊 な膜 検 査 項 目
位 相 シフト 検 査 方 法
ペリクル
検 査
その他 材 料
その他 修 正 部 位
基 板 修 正 項 目
遮 光 膜 修 正 方 法
特 殊 な膜
修 正
その他 構 造 （層 構 成 等 ）
その他 洗 浄
位 相 シフト
検査・修正技術
その他
ＯＰＣ マスクホルダー
位 相 シフト、OP C以 外 のパ ターン
保 管
その他
設 計 プロセスに特 徴 運 搬
DF M、L F D 使 用 管 理
パターン構 成
その他 位 置 きめ・固 定
構成要素技術
その他
周辺技術
その他 基 板 形 成 （洗 浄 ・研 磨 など）
成 膜 レジスト ブランクス製 造 技
術
その他
マスクパターン設 計
（パターン構 成 以 外 ） 描 画
現 像 エッチング レジスト除 去 ・洗 浄 マスク製 造 技 術
その他 ペリクル装 着 技 術
不 合 格 品 使 用 済 み 品 マスク再 生 技 術
その他 異 物 洗 浄
製造技術
その他
２ ． 調 査 対 象 と し た 特 許 出 願
今 回 の 調 査 で は 、 日 本 へ の 出 願 、 米 国 へ の 出 願 、 欧 州 へ の 出 願 、 中 国 へ の 出 願 、 韓 国 へ の 出 願 、 台 湾 へ の 出 願 を 対 象 に し て い る 。
欧 州 の 特 許 出 願 と し て は 、 欧 州 特 許 庁 へ の 出 願 （ EPC 出 願 ） だ け で な く 、 イ ギ リ ス 、 フ ラ ン ス 、ド イ ツ 、オ ラ ン ダ 、イ タ リ ア 、ス イ ス 、フ ィ ン ラ ン ド 、ス ウ ェ ー デ ン 、オ ー ス ト リ ア 、 ベ ル ギ ー 、 デ ン マ ー ク 、 ス ペ イ ン 、 ア イ ル ラ ン ド 、 ル ク セ ン ブ ル ク 、 ポ ル ト ガ ル 、 チ ェ コ 、 ハ ン ガ リ ー 、 ル ー マ ニ ア 、 ス ロ バ キ ア 、 ノ ル ウ ェ ー の 各 国 へ の 特 許 出 願 も 対 象 と し て い る 。 欧 州 国 籍 の 出 願 人 は 上 記 各 国 に ブ ル ガ リ ア 、 キ プ ロ ス 、 エ ス ト ニ ア 、 ギ リ シ ャ 、 ア イ ス ラ ン ド 、 リ ヒ テ ン シ ュ タ イ ン 、 リ ト ア ニ ア 、 ラ ト ビ ア 、 マ ル タ 、 モ ナ コ 、 ポ ー ラ ン ド 、 ス ロ ベ ニ ア 、 ト ル コ 、 ク ロ ア チ ア 国 籍 の 出 願 人 を 加 え た EPC 加 盟 国 と し て い る 。
本 調 査 に お い て 、 分 析 対 象 と し た 特 許 出 願 の 件 数 は 、 日 本 へ の 出 願 3, 611 件 、 米 国 へ の 出 願 2, 677 件 、 欧 州 へ の 出 願 764 件 、 中 国 へ の 出 願 583 件 、 韓 国 へ の 出 願 787 件 、 台 湾 で の 登 録 410 件 で あ っ た 。な お 台 湾 に つ い て は 、台 湾 の 公 開 特 許 が 2005 年 以 降 WPI に 収 録 さ れ て い な い た め 、 今 回 は 分 析 対 象 を 登 録 特 許 の み と し た 。
出 願・登 録 動 向 の 集 計 グ ラ フ に お い て 、特 に 優 先 権 主 張 年 2006 年 の 数 値 は 、デ ー タ ベ ー ス へ の 収 録 の 遅 れ な ど に 影 響 さ れ る こ と に 注 意 す る 必 要 が あ る 。 な お 、 登 録 特 許 は 、 検 索 日 時 点 で 公 報 が 発 行 さ れ デ ー タ ベ ー ス に 収 録 さ れ た も の を 対 象 に し て い る 。
838 1,136 1,379
1,779 1,604
1,686
200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600 1,800 2,000
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 その他
58件 0.7% 中国籍
26件 0.3%
韓国籍 531件 6.3%
米国籍 1,358件 16.1% 欧州国籍
1,003件 11.9%
日本国籍 5,108件
60.7% 台湾籍
338件 4.0%
合計 8,422 件
第 ２ 節 全 体 動 向 分 析 １ ． 全 体 で の 出 願 動 向
今 回 の 調 査 で は 、日 本 へ の 出 願 、米 国 へ の 出 願 、欧 州 へ の 出 願 、中 国 へ の 出 願 、韓 国 へ の 出 願 、 台 湾 で の 登 録 を 分 析 対 象 に し て い る 。
日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 割 合 を 図 2- 1 に 示 す 。2001 年 か ら 2003 年 ま で 1600 件 ∼ 1800 件 で あ っ た が 、2004 年 は 減 少 し て い る 。出 願 人 国 籍 別 で は 、日 本 国 籍 に よ る 出 願 件 数 が 圧 倒 的 に 多 く 60. 7％ で 、 次 い で 米 国 籍 16. 1％ 、 欧 州 国 籍 11. 9％ 、 韓 国 籍 6. 3％ 、 台 湾 籍 4. 0％ で あ り 、 中 国 籍 は 1％ 以 下 で あ る 。
2001 年 ∼ 2003 年 と 比 べ て 2004 年 の 出 願 件 数 が 減 少 し て い る 原 因 と し て は 、今 回 の 調 査 で 出 願 人 別 出 願 件 数 ラ ン キ ン グ で 上 位 に ラ ン キ ン グ さ れ て い る ソ ニ ー 、 イ ン フ ィ ニ オ ン テ ク ノ ロ ジ ー ズ 等 の 半 導 体 メ ー カ ー が フ ォ ト マ ス ク の 研 究 開 発 か ら 撤 退 す る な ど 、 2001 年 ∼ 2003 年 は 多 量 に 特 許 出 願 し て い た 半 導 体 メ ー カ ー 数 が 近 年 、 減 少 し て い る こ と が 原 因 の 一 つ と 考 え ら れ る 。
図 2- 1 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト
２ ． 出 願 先 国 別 出 願 動 向
図 2- 2 に 出 願 先 国 別 の 出 願 件 数 推 移 と 出 願 先 国 の 割 合 を 示 す 。
各 国 、地 域 へ の 出 願 件 数 は 2003 年 ま で は 中 国 を 除 い て 横 ば い ま た は 微 増 で あ る 。中 国 の み は か な り 増 加 し て い る 。2004 年 は ど こ も 減 少 に 転 じ て お り 、特 に 欧 州 へ の 出 願 の 減 少 が 大 き い 。
出 願 先 国 別 の 件 数 割 合 は 日 本 へ の 出 願 が 42. 9％ と 最 も 多 く 、 次 い で 米 国 が 31. 8％ 、 韓 国 9. 3％ 、 欧 州 9. 1%、 中 国 が 6. 9％ と な っ て い る 。
1,686
1,604
1,779
1,379
1,136
838
200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600 1,800 2,000
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本 米国 欧州 中国 韓国 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願先国 韓国
787件 中国 9.3% 583件 6.9%
欧州 764件 9.1%
米国 2,677件
31.8%
日本 3,611件
42.9%
合計 8,422 件
図 2- 2 出 願 先 国 別 出 願 件 数 推 移 と 出 願 先 国 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト
３ ． 出 願 先 国 別 出 願 人 国 籍 別 出 願 動 向
図 2- 3( a) ∼ ( e) に 各 国・地 域 へ の 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 の 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 を 示 す 。 日 本 へ の 出 願 ( a) は 2003 年 ま で は ほ ぼ 一 定 で 推 移 し た が 、2004 年 は 減 少 し て い る 。出 願 人 国 籍 別 割 合 で は 、 日 本 国 籍 が 圧 倒 的 に 多 く 88. 1％ を 占 め る 。 次 い で 米 国 籍 4. 7％ 、 欧 州 国 籍 4. 3％ 、 韓 国 籍 が 2. 3％ と 続 い て い る 。
米 国 へ の 出 願 ( b) は 、2003 年 ま で ほ ぼ 一 定 し て い る が 2004 年 で 大 き く 減 少 し て い る 。出 願 人 国 籍 別 割 合 は 日 本 国 籍 が 36. 2％ 、米 国 籍 32. 1％ 、で こ の 2 国 で 大 半 を 占 め る 。そ の 後 、欧 州 国 籍 が 11. 8％ 、 台 湾 籍 が 10. 4％ 、 韓 国 籍 が 7. 8％ と 続 く 。
欧 州 へ の 出 願 ( c ) は 2001 年 か ら 2003 年 ま で は ほ ぼ 一 定 で あ る が 、2004 年 に 減 少 し て い る 。 出 願 人 国 籍 別 割 合 で は 欧 州 国 籍 が 43. 8％ 、 日 本 国 籍 が 33. 8％ 、 米 国 籍 が 18. 2％ 、 韓 国 籍 が 2. 6％ と 続 い て い る 。
中 国 へ の 出 願 ( d) は 2001 年 か ら 増 加 し 、2003 年 を ピ ー ク と し て 減 少 に 転 じ て い る 。出 願 人 国 籍 別 割 合 は 日 本 国 籍 46. 5％ 、 米 国 籍 18. 7％ 、 欧 州 国 籍 15. 1％ 、 韓 国 籍 9. 8％ 、 台 湾 籍 が 7. 2％ と 続 く が 、中 国 籍 の も の は 自 国 へ の 出 願 で あ る に も か か わ ら ず 2. 4％ の 出 願 件 数 に と ど ま っ て い る 。
韓 国 へ の 出 願 ( e) も 2004 年 は 減 少 し て い る 。出 願 人 国 籍 別 割 合 は 日 本 国 籍 54. 3％ 、韓 国 籍 20. 7％ 、欧 州 国 籍 14. 1％ 、米 国 籍 が 10. 2％ と 続 き 、台 湾 籍 、そ の 他 の 国 籍 は 1％ 以 下 で あ る 。
447 499
627 726
621 691
100 200 300 400 500 600 700 800
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
262 361
365 544
577 568
100 200 300 400 500 600 700
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
30 85
122 175
155 197
50 100 150 200 250
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 中国籍
0件 0.0%
韓国籍 82件 2.3%
台湾籍 12件
0.3% その他 9件 0.2%
米国籍 171件
4.7% 欧州国籍
154件 4.3%
日本国籍 3,183件
88.1%
合計 3,611 件
中国籍 12件 0.4%
韓国籍 209件 7.8%
台湾籍 278件 10.4%
その他 35件
1.3%
米国籍 859件 32.1% 欧州国籍
315件 11.8%
日本国籍 969件
36.2%
合計 2,677 件
中国籍 0件 0.0%
韓国籍 20件
2.6%
台湾籍 4件 0.5%
その他 8件 1.0%
米国籍 139件 18.2% 欧州国籍
335件 43.8%
日本国籍 258件
33.8%
合計 764 件
図 2- 3 出 願 先 国 別 − 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 注 ）公 報 単 位 で カ ウ ン ト ( a) 日 本 へ の 出 願
( b) 米 国 へ の 出 願
( c ) 欧 州 へ の 出 願
63 83
114 145
105
73
20 40 60 80 100 120 140 160
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
36 108
151 189
146 157
20 40 60 80 100 120 140 160 180 200
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 中国籍
14件 2.4%
韓国籍 57件
9.8%
台湾籍 42件
7.2%
その他 2件 0.3%
米国籍 109件 18.7% 欧州国籍
88件 15.1%
日本国籍 271件
46.5%
合計 583 件
中国籍 0件 0.0%
韓国籍 163件 20.7%
台湾籍 2件 0.3%
その他 4件 0.5%
米国籍 80件 10.2% 欧州国籍
111件 14.1%
日本国籍 427件
54.3%
合計 787 件
( d) 中 国 へ の 出 願
( e) 韓 国 へ の 出 願
４ ． 全 体 動 向 の ま と め
出 願 先 国 別 − 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 収 支
日 米 欧 中 韓 に お け る 出 願 先 国 別 − 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 収 支 を 図 2- 4 に 示 す 。
日 本 か ら 米 国 へ の 出 願 件 数 は 969 件 に 対 し 、 米 国 か ら 日 本 へ の 出 願 件 数 は 171 件 で あ る 。 日 本 か ら 欧 州 へ の 出 願 件 数 は 258 件 に 対 し 、 欧 州 か ら 日 本 へ の 出 願 件 数 は 154 件 で あ る 。 日 本 か ら 韓 国 へ の 出 願 件 数 は 427 件 に 対 し 、韓 国 か ら 日 本 へ の 出 願 件 数 は 82 件 で あ る 。日 本 か ら 中 国 へ の 出 願 件 数 は 271 件 に 対 し 、 中 国 か ら 日 本 へ の 出 願 は な い 。
米 国 か ら 欧 州 へ の 出 願 件 数 は 139 件 に 対 し 、 欧 州 か ら 米 国 へ の 出 願 件 数 は 315 件 で あ る 。 米 国 か ら 韓 国 へ の 出 願 件 数 は 80 件 に 対 し 、韓 国 か ら 米 国 へ の 出 願 件 数 は 209 件 で あ る 。米 国 か ら 中 国 へ の 出 願 件 数 は 109 件 に 対 し 、 中 国 か ら 米 国 へ の 出 願 件 数 は 12 件 で あ る 。
欧 州 か ら 韓 国 へ の 出 願 件 数 は 111 件 に 対 し 、 韓 国 か ら 欧 州 へ の 出 願 件 数 は 20 件 で あ る 。 欧 州 か ら 中 国 へ の 出 願 件 数 は 88 件 に 対 し 、 中 国 か ら 欧 州 へ の 出 願 は な い 。
韓 国 か ら 中 国 へ の 出 願 件 数 は 57 件 に 対 し 、 中 国 か ら 韓 国 へ の 出 願 は な い 。
日本国籍 969件 36.2%
米国籍 859件 32.1% 欧州国籍
315件 11.8% 中国籍 12件 0.4%
韓国籍 209件 7.8%
台湾籍 278件 10.4%
その他 35件 1.3%
その他 4件 0.5% 台湾籍
2件 0.3% 韓国籍
163件 20.7%
中国籍 0件 0.0%
欧州国籍 111件
14.1% 米国籍
80件 10.2%
日本国籍 427件 54.3% その他
2件 0.3% 台湾籍
42件 7.2% 韓国籍
57件 9.8% 中国籍
14件 2.4%
欧州国籍 88件 15.1%
米国籍 109件 18.7%
日本国籍 271件 46.5%
その他 9件 0.2% 台湾籍
12件 0.3% 韓国籍
82件 2.3% 中国籍
0件 0.0%
日本国籍 3,183件
88.1% 欧州国籍
154件 4.3%
米国籍 171件 4.7%
その他 8件 1.0% 台湾籍
4件 0.5% 韓国籍
20件 2.6% 中国籍
0件 0.0%
欧州国籍 335件 43.8%
米国籍 139件 18.2%
日本国籍 258件 33.8% 日本への出願
3,611件
韓国への出願 787件 欧州への出願
764件
中国への出願 583件 米国への出願
2,677件
315件
258件 969件
171件
154件
271件
139件
0件
20件
111件 427件
80件 12件
209件
57件 88件 109件
0件
82件
0件
出 願 件 数 収 支 に つ い て は 、日 本 は 他 の 全 て の 国 、地 域 に 対 し て 、日 本 か ら の 出 願 が 日 本 へ の 出 願 よ り も 多 い 。
図 2- 4 出 願 先 国 別 − 出 願 人 国 籍 別 出 願 件 数 収 支 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ） 2001 年 ∼ 2006 年 注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト
619 885
1,105 1,339
1,233 1,364
200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
半導体（微細） 6,545件
75.2% 光学部材（レンズ）
117件 1.3%
印刷物 13件 0.1% カラーフィルター
93件
1.1% プリント配線板（PWB ) 101件
1.2% 汎用 58件 0.7%
その他 408件 4.7% 磁気ヘッド（MR 素子）
188件 2.2%
立体物 50件
0.6%
フラットパネル（微細大型） 1,133件
13.0%
その他 49件
0.7% 中国籍
23件 0.4%
韓国籍 366件
5.6%
米国籍 1,153件 17.6% 欧州国籍
842件 12.9%
日本国籍 3,857件
58.9% 台湾籍
255件 3.9%
合計 6,545 件
第 ３ 節 技 術 区 分 別 動 向 分 析 １ ． 技 術 区 分 ： 用 途
（ １ ） 技 術 区 分 「 用 途 （ 露 光 対 象 ）」
技 術 区 分「 用 途（ 露 光 対 象 ）」の 内 訳 を 図 2- 5 に 示 す 。対 象 と し た 全 特 許 出 願 8, 422 件 の う ち 、 露 光 対 象 を 分 類 付 与 さ れ た 出 願 は 7, 333 件 で あ っ た 。
半 導 体 が 75. 2％ と 大 半 を 占 め て お り 、フ ラ ッ ト パ ネ ル が 13. 0％ で 、合 わ せ る と 9 割 弱 に 達 し て い る 。そ れ ぞ れ の 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 を 、図 2- 6( a) , ( b) に 示 し た 。半 導 体 用 の 出 願 件 数 は 2001 年 ∼ 2003 年 は ほ ぼ 横 ば い で 、 2004 年 は 減 少 し て い る 。 フ ラ ッ ト パ ネ ル は 凹 凸 は あ る も の の 、 出 願 件 数 は ほ ぼ 一 定 し て い る 。 フ ラ ッ ト パ ネ ル で は 日 本 国 籍 出 願 人 が 76. 0％ と 大 半 を 占 め て お り 、 日 本 国 籍 出 願 人 の 出 願 件 数 も 若 干 増 加 傾 向 で あ る 。
図 2- 5 露 光 対 象 別 の 分 類 付 与 件 数 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト 、 複 数 分 類 付 与 の 公 報 有
図 2- 6 露 光 対 象 に お け る 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト ( a) 露 光 対 象 ： 半 導 体
160 173
129 212
155 146
50 100 150 200 250
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 その他
1件 0.1% 中国籍
0件 0.0%
韓国籍 88件
9.0%
米国籍 13件
1.3% 欧州国籍
113件 11.6%
日本国籍 741件
76.0% 台湾籍
19件 1.9%
合計 975 件
( b) 露 光 対 象 ： フ ラ ッ ト パ ネ ル
（ ２ ） 技 術 区 分 「 用 途 （ 光 源 の 種 別 ）」
技 術 区 分「 用 途（ 光 源 の 種 別 ）」の 内 訳 を 図 2- 7 に 示 す 。対 象 と し た 全 特 許 出 願 8, 422 件 の う ち 、 光 源 の 種 別 を 分 類 付 与 さ れ た 出 願 は 2, 120 件 と 少 な く 、 光 源 を 明 記 し て い な い 出 願 の 方 が 多 い こ と に 留 意 す る 必 要 が あ る 。
粒 子 線 が 32. 4％ 、EUV が 29. 2％ 、エ キ シ マ レ ー ザ が 25. 9％ と 続 き こ の 3 者 で 大 半 を 占 め て い る 。 そ れ ぞ れ の 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 を 図 2- 8( a) ∼ ( c ) に 示 す 。 エ キ シ マ レ ー ザ に 関 す る 出 願 は 2001 年 ∼ 2003 年 に 向 け 増 加 し 、 2004 年 は 減 少 し て い る 。 EUV 及 び 粒 子 線 に つ い て は 2001 年 か ら 2003 年 ま で は ほ ぼ 一 定 で 、 2004 年 に は 減 少 し て い る 。
次 世 代 リ ソ グ ラ フ ィ の 有 力 候 補 で あ る EUV に 関 し て は 日 本 国 籍 出 願 人 の 割 合 が 45. 2％ と 他 の 技 術 区 分 と 比 べ 少 な く 、欧 州 国 籍 出 願 人 が 31. 1％ と 多 く な っ て い る 。粒 子 線 は 逆 に 日 本 国 籍 出 願 人 が 82. 4％ と 大 半 を 占 め て い る 。
図 2- 7 光 源 の 種 別 の 分 類 付 与 件 数 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト 、 複 数 分 類 付 与 の 公 報 有
エキシマレーザ 662件
25.9%
ＥＵＶ 746件 29.2% Ｘ線
109件 4.3%
粒子線 828件 32.4%
紫外光（i線,g線等） 189件
7.4% 可視光
14件 0.5% その他
11件 0.4%
44 80
136 159
139
104
20 40 60 80 100 120 140 160 180
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
51 95
131 172
151 146
20 40 60 80 100 120 140 160 180 200
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍
35 59
123 196 200
215
50 100 150 200 250
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 その他
1件 0.2% 中国籍
0件 0.0%
韓国籍 22件
3.3%
米国籍 73件 11.0% 欧州国籍 107件
16.2%
日本国籍 436件
65.9% 台湾籍
23件 3.5%
合計 662 件
その他 5件 0.7% 中国籍
0件 0.0%
韓国籍 35件
4.7%
米国籍 133件 17.8% 欧州国籍
232件 31.1%
日本国籍 337件
45.2% 台湾籍
4件 0.5%
合計 746 件
その他 0件 0.0% 中国籍
0件 0.0%
韓国籍 9件 1.1%
米国籍 39件
4.7% 欧州国籍
90件 10.9%
日本国籍 682件 82.4% 台湾籍
8件 1.0%
合計 828 件
図 2- 8 光 源 の 種 別 の 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト ( a) 光 源 の 種 別 ： エ キ シ マ レ ー ザ
( b) 光 源 の 種 別 ： EUV
( c ) 光 源 の 種 別 ： 粒 子 線
176 262
441 628
519 473
100 200 300 400 500 600 700
2001 2002 2003 2004 2005 2006
出願年（優先権主張年） 出
願 件 数
日本国籍 米国籍 欧州国籍 中国籍 韓国籍
台湾籍 その他 合計
優先権主張年 2001- 2006
出願人国籍 その他
13件 0.5% 中国籍
7件 0.3%
韓国籍 213件 8.5%
米国籍 349件 14.0% 欧州国籍
370件 14.8%
日本国籍 1,427件
57.1% 台湾籍
120件 4.8%
合計 2,499 件
２ ． 技 術 区 分 ： 課 題
図 2- 9 に 課 題 別 の 出 願 件 数 の 割 合 を 示 す 。パ タ ー ン 精 度 の 向 上 が 29. 7％ 、マ ス ク 製 造 コ ス ト の 低 減 が 19. 3％ 、 品 質 ・ 信 頼 性 の 向 上 が 18. 1％ 、 デ バ イ ス 等 応 用 分 野 の 課 題 が 15. 0％ と 続 く 。 こ の 4 課 題 に つ い て 、 出 願 件 数 の 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 を 図 2- 10( a) ∼ ( d) に 示 す 。 デ バ イ ス 等 応 用 分 野 の 課 題 に つ い て は 、2002 年 以 降 出 願 件 数 は ほ ぼ 横 ば い の 推 移 を 示 す 。パ タ ー ン 精 度 の 向 上 、マ ス ク 製 造 コ ス ト の 低 減 に つ い て は 2004 年 に 減 少 し て い る 。品 質・信 頼 性 の 向 上 は 2001∼ 2004 年 で 横 ば い で あ る 。
図 2- 9 課 題 別 の 出 願 件 数 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト
図 2- 10 課 題 別 の 出 願 件 数 推 移 と 出 願 人 国 籍 の 割 合 （ 日 米 欧 中 韓 へ の 出 願 ）
注 ） 公 報 単 位 で カ ウ ン ト
( a) 課 題 ： パ タ ー ン 精 度 の 向 上
微細化 472件 大面積化 5.6%
61件 0.7%
パターン精度の維持 192件
2.3% その他
546件 互換性 6.5%
5件 0.1%
デバイス等応用分野の課題 1,261件
15.0%
納期の短縮 102件
1.2%
パターン精度の向上 2,499件
29.7%
アライメント性向上 118件
1.4%
環境問題対応 13件 0.2%
マスク製造コストの低減 1,629件
19.3%
品質・信頼性の向上 1,524件
18.1%
