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透過試験

ドキュメント内 シリカ複合膜の気体および液体の分離 (ページ 36-39)

第 2 章 実験方法・理論 35

2.2 透過試験

2.2.1.1 無機気体透過試験

気体透過試験は、前述の気体透過試験装置(図 2.1.2)を用い、3 種類の無機ガスである水素(H2、 Kinetic径0.28 nm)、窒素(N2、0.36 nm)、六フッ化硫黄(SF6、0.55 nm)を指標気体として評価した。

SF6を用いた場合の評価温度は、300℃以上にてSF6によるエッチングにより蒸着膜が劣化する可能性が あるため、270℃とした。蒸着温度が270℃よりも低い膜の場合は、蒸着させた温度と同温度で気体透過 性能を評価した。測定方法は石鹸膜流量計法と圧力変化法を使用した。

2.2.1.2 炭化水素透過試験

図2.1.2の気体透過試験装置を利用し、炭化水素透過試験をした。評価した炭化水素はメタン(CH4

エタン(C2H6)、プロピレン(C3H6)、プロパン(C3H8)である。透過温度は270℃、測定方法は石鹸膜 流量計法と圧力変化法を使用した。表2.2.1に透過分子のLenard-Jones径を示す。

Thermocouple

Cold trap Vent

Bubble flow meter

Membrane O-ring

MFC

N2 H2

MFC

Bubbler with temp. controller

Vaporizer O3/O2

Furnace

Pressure gauge Ozonizer

MFC

O2

Readout

Pressure transducer

Vacuum pump

: Ribbon heater

Vent SF6

MFC

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表2.2.1 水素と炭化水素のLenard-Jones径

気体 Lennard-Jones1) [nm]

H2(水素) 0.289 CH4(メタン) 0.380 C2H4(エチレン) 0.419 C2H6(エタン) 0.444 C3H6(プロピレン) 0.468 C3H8(プロパン) 0.512

2.2.1.3 ヨウ化水素分離用水素透過試験

HI ガス透過試験装置の概略を図 2.2.1 に示す。HI 流量は 50-100 mL min-1、試験温度は室温および

400℃、スイープガスとして窒素を50-100 mL min-1を流通した。HI透過量は、膜を通過したHIを水で

トラップし、0.1N NaOH水溶液を用いてHIが溶解した水溶液(トラップ水)を中和滴定することで測 定した。

図2.2.1 HIガス透過試験装置概略図

2.2.2 液体透過試験

評価に使用した溶質の種類を表2.2.2に示す。各水溶液は、超純水を用いて中性分子は濃度500 ppm、

イオンは濃度100 ppmに調製した。表2.2.3にシリカ複合膜の液体透過性との比較として用いた高分子 ナノろ過膜の種類と性能を示す。図2.2.2に試験装置図を示す。試験温度は室温、操作圧力は1.5、3.0、

4.0 MPa、供給流量は10 mL min-1とした。

阻止率R [-]は、透過液の溶質濃度Cp [mol L-1]、供給液の溶質濃度Cb [mol L-1]とすると、次のように表 せる。

1 ・・・(2-1)

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水透過流束Jvは、透過液の質量Wp、透過液の密度ρ、透過液の回収時間t、膜面積Aとしたとき、次 のように表せる。

J

v

=

WρtAp ・・・(2-2)

溶質透過流束JSは、透過液の濃度をCpとすると(2-3)式で表せる。

J CpJv ・・・(2-3)

ここで水透過係数Lp、透水圧力Δp、浸透圧πとすると水透過流束は(2-4)式で表せる。

Jv=Lp(∆p-π) ・・・(2-4)

浸透圧πはvan’t Hoffの式より、浸透係数φ、溶質モル濃度Cs、気体定数R、絶対温度Tとすると次 の(2-5)式で表せる。浸透圧係数はエタノールやグルコースのような中性物質の場合 1、NaCl の場合は 1.8、電解質のH2SO4は3を利用した。

π=φCsRT ・・・(2-5)

表2.2.2 使用した溶質の種類

名称 試薬 分子量 液性 種類

Ethanol Rowa Scientific, absolute AR ≥99.8% 46.07 中性 分子

D-Glucose 和光純薬、98.0+% (alpha-type + beta-type)(GC) 180.16 中性 分子

Sucrose Sigma-aldrich, ≥99.5% 342.30 中性 分子

D-Raffinose pentahydrate Sigma-aldrich, ≥98% 594.51 中性 分子

α-Cyclodextrin Sigma-aldrich, ≥98% 972.84 中性 分子

KCl Sigma-aldrich, ≥99% 58.44 中性 イオン

NaCl Sigma-aldrich, 99.98% trace metals basis 74.55 中性 イオン

MgCl2・6H2O Merck, ≥99.0% 203.30 中性 イオン

K2SO4 Merck, ≥99.0% 120.37 中性 イオン

Na2SO4 Merck, ≥99.0% 142.04 中性 イオン

MgSO4・7H2O Sigma-aldrich, ACS reagent, ≥98% 246.48 中性 イオン

H2SO4: Sulfuric acid Wako, 95.0+% 98.08 強酸 イオン

CH3COOH: Acetic acid Wako, 99.7+% 60.05 弱酸 イオン

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表2.2.3 高分子ナノろ過膜の性能と分画分子量

名称 製品 膜材料 公称

分画分子量

分画分子量

(実験値)

PA1 TS80 (TriSep) polyamide -150 174

PA2 NF270 (Dow) polyamide -200~400 308

PPA1 TS40 (TriSep) poly(piperazine-amide) -200 184 PPA2 XN45 (TriSep) Poly(piperazine-amide) -500 437

図2.2.2 透水試験装置図

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