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Microsoft PowerPoint - 2.RFMOSFETモデリング.pptx

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全文

(1)

2.RF-MOSFETモデリング

群馬大学 大学院 理工学府 電子情報部門

客員教授 青木 均

(2)

アウトライン

• RFモデリングで重要なポイント

– 直流特性での着目点

– ゲート抵抗

– NQS (Non-Quasi-Static)効果

– Extrinsic容量

– 基板ネットワーク

– 寄生インダクタンス

– RFノイズ

• RFアプリケーションでのデバイスモデリングフロー

• Sパラメータによる効果的な解析

• マルチフィンガーMOSFETのスケーラブルモデル

• BSIM4の主な新機能(BSIM3からの改良内容)

– マルチフィンガー構造に対応

– 改良型NQS(Non Quasi Static)モデル

– IIR(Intrinsic Input Resistance)モデル

– 基板抵抗ネットワークモデル

(3)

直流特性での着目点

コンダクタンス特性

• 伝達コンダクタンス(g

m

)と出力コンダクタンス

g

ds

)を正確にモデリング

• ACのSパラメータ特性を無理に測定データと

合わせようとすると,直流特性がずれてしま

う?????

(4)

直流特性での着目点

ドレイン電流の高次微分特性

BSIM4

short vg [E+0] id .s [E-3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 1.2 short vg [E+0] g m .s [E-3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 short vg [E+0] gm 2.s [E -3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -5 0 5 10 15 short vg [E+0] g m 3. s [E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -150 -100 -50 -0 50 100 short vg [E+0] gm 4. s [ E +0] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -2.0 -1.5 -1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0

1次

0次

2次

4次

3次

RFアナログでは,

少なくとも3次まで

連続が望ましい

(5)

直流特性での着目点

ドレイン電流の高次微分特性

BSIM6

vg [E+0] i d .s [E -6] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0 50 100 150 200 250 vg [E+0] g m .s [ E -6 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 0 100 200 300 400 vg [E+0] g m 2 .s [E -3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -0.5 0.0 0.5 1.0 1.5 2.0 vg [E+0] g m 3 .s [E -3] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -15 -10 -5 0 5 10 15 vg [E+0] g m 4 .s [E -3 ] 0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0 -300 -200 -100 -0 100 200

RFアナログでは,

少なくとも3次まで

連続が望ましい

1次

0次

2次

4次

3次

(6)

ゲート抵抗

L

W

f

シングルフィンガー

マルチフィンガー

cont cont sh f f

N

R

R

N

L

W

RG

+

=

N

f

: フィンガー数

R

sh

: シート抵抗

R

cont

: コンタクト抵抗

N

cont

: コンタクト数

(7)

NQS(Non-Quasi-Static)効果

Elmore NQSモデル

QSモデル

QS(Quasi-Static)モデルはトランジットタイム(τ)を表現していない

(8)

Extrinsic容量

フリンジング容量

オーバーラップ容量

(CGSO, CGDO)

接合容量

オーバーラップ容量

(CGBO)

Masanori Shimasue, Yasuo Kawahara, Takeshi Sano, and Hitoshi Aoki,

"An Accurate Measurement and Extraction Method of Gate to Substrate Overlap Capacitance," Proc. IEEE 2004 Int. Conference on Microelectronic Test Structures, pp. 293-296, March 2004.

(9)

基板ネットワーク

(10)

寄生インダクタンス

S

D

G

Sub

ポート

1

ポート

2

ゲート基準面

ゲートリング

シールドグランド

シールドグランド

M1

M1

M2

ドレイン基準面

寄生インダクタンス

(11)

RFノイズモデル

Correlation

Channel Noise

Induced Gate Noise

(12)

RFノイズ特性

Induced Gate Noise 特性

(13)

RFアプリケーションでの

デバイスモデリングフロー

モデリング用

TEG設計

モデリング用

TEG測定、評価

DC, CV測定

モデリング

Sパラメータ測定

De-embedding

小信号

ACモデリング

大信号

測定、評価

NG

DC, CV, AC

モデリング

OK

終了

(14)

Sパラメータによる効果的な解析

デバイス測定

De-embedding用

TEG測定

De-embedding

処理

デバイスのみの

Sパラメータ

マトリクス

変換

•トランジスタ動作時の高周波容量 •順方向拡散容量 •トランジットタイム •相互コンダクタンス •入力インピーダンス •出力インピーダンス •寄生抵抗 •基板抵抗 •自己発熱効果など

(15)

(

)

(

)

WR eff S bseff S gsteff DS

W

V

PRWB

V

PRWG

RDSW

R

+

+

=

6

10

1

φ

φ

DS R gsteff V 1

(

)

(

)

WR eff S bseff S gsteff DS

W

V

PRWB

V

PRWG

RDSW

RDSWMINI

R

+

+

+

=

6

10

1

1

φ

φ

BSIM3

BSIM4

rdsMod=0 Vgsteffに比例関係 Vgsteffに反比例関係 DS R gsteff V

高周波

RDSモデリング精度

(16)

マルチフィンガー

MOSFETの

構造と等価回路

M1:シールドGND

M2:ゲートリング

S G D G S G D G S

(17)
(18)

マルチフィンガー

MOSFETの

スケーラブルモデル

.SUBCKT multi 11=D 22=G

RG 21 2 (-100.0m / finger^2) + (441.4 / finger) + (5.108)

RDS 31 3 ((49.23K / finger^2) + (7.692K / finger) + (115.5)) * 0.2e-6 / 0.18e-6

RSUB 4 0 1E-3

CGD 22 11 ( 1.00001E-019 * finger^2) + ( 1.091f * finger) + ( 1.00000E-019) CGS 22 3 ((-2.544a * finger^2) + ( 1.251f * finger) + (-1.102f)) * 0.2e-6 / 0.18e-6 CDS 1 31 ((-5.053a * finger^2) + ( 3.172f * finger) + (-10.00f)) * 0.18e-6 / 0.2e-6

LG 22 21 1E-012 LS 0 3 1E-13

LD 11 1 (-1.9291E-014 * finger) + (3.90408E-011)

M0 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=2E-012PD=3.3E-006 PS=6.6E-006

M1 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M2 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M3 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M4 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M5 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M6 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=1E-012PD=3.3E-006 PS=3.3E-006

M7 1 2 3 4 FingerDependency L=0.2e-6 W=2.5E-006 AD=1E-012 AS=2E-012PD=3.3E-006 PS=6.6E-006

(19)

H

21

モデリング結果

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

32フィンガー

64フィンガー

Measured

Modeled

8フィンガー

(20)

BSIM4の主な新機能

BSIM3からの改良内容)

z ストレスモデル

z

Well近接効果(Proximity Effect)モデル

z 酸化膜厚

(<3nm)以下のゲート・トンネル電流モデル

z

Gate Induced D/S Leak(GIDL/GISL)電流モデル

z Haloドープまたはポケットインプラントによる

DITS(Drain Induced

Threshold Shift)モデル

z 高誘電体ゲート絶縁膜構造

z 新モビリティモデル

z

D/S非対称抵抗モデル

z

D/S非対称接合ダイオード・モデル

z チャネル熱雑音モデルの改良

z マルチフィンガー構造に対応

z 改良型

NQS(Non Quasi Static)モデル

z

IIR(Intrinsic Input Resistance)モデル

(21)

BSIM4 NQSモデル

•Elmore NQSモデル

BSIM3 v3.2 NQS Model改良版

NQSMOD

•IIRモデル

BSIM4で新しく追加

RGATE

MOD (0~3)

TR

NQSMOD (ON,OFF)

AC

NQSMOD (ON, OFF)

どちらもNQS効果を表

現するため同時には使

えない

マルチフィンガー対応

( )

( )

ωτ

j

t

Q

t

Q

nqs qs

+

=

1

(22)

BSIM4 IIRモデル(1)

ゲート抵抗無し

RGATEMOD:OFF)

ジオメトリ依存型

ゲート抵抗モデル

(23)

BSIM4 IIRモデル(2)

ジオメトリ、バイアス依存型

ゲート抵抗モデル

ジオメトリ、バイアス依存

ノード分離型

ゲート抵抗モデル

(24)

BSIM4 基板ネットワークモデル

RBODY

MOD=0 (OFF)

RBODY

MOD=1 (ON)

(25)

BSIM4 D/S抵抗モデル

R

s

(V)

R

d

(V)

R

ds

(V)

RDS

MOD=0 (Internal R

ds

モード

)

(26)

BSIM4 接合ダイオードモデル

CV, IVモデル共、個別にパラメータ定義可能

•CVモデル

マルチフィンガー対応以外は

BSIM3と同じ

•IVモデル

ブレークダウンモデルが追加

DIOMOD=1(BSIM3と同じ、収束性が良い)

(27)

BSIM4 チャネル雑音モデル

TNOI

MOD=0

BSIM3と近似

TNOI

MOD=1

Holistic Model

Induced Gate Noise同様,

(28)

演習問題

MOSFET

C

g

L

s

R

s

C

d

L

d

R

d

L

g

R

g

各寄生コンポーネントの値が既知で,全体の

Sパラメータが測定されたとき,

回路図中にある

“MOSFET”のYパラメータを求めよう.ただしS<->Y<->Zの

変換は単に

Z->Yのように表現する.

11

12

21

22

S

S

S

S

測定した

Sパラメータ

(29)
(30)

マルチフィンガー

MOSFETの

BSIM3モデリングフロー

CMOS用1フィンガー

BSIM3モデリング

マルチフィンガー

スケーリング処理

マルチフィンガー用

マクロモデル

による

最適化処理

•マクロモデルではトランジスタの

並列ネットリスト以外にゲート抵抗

など

RF特性に必要な素子を含む

(31)

高周波容量成分解析例

( Vg=0-1V, Vd=2V)

C

GS

C

DS

C

GD 周波数:100MHz(L = 0.18μm、Wtot = 200μm)

出力コンダクタンス解析例

( Vd=0-2V, Vg=0.6V)

相互コンダクタンス解析例

( Vd=0-1V, Vd=0.1V)

Sパラメータによる効果的な解析例(1)

(32)

C

12

モデリング結果(128フィンガー)

周波数特性劣化

Vg = 1.5 V

Vd = 0.2 ~ 1.5 V

Measured

Modeled

高精度等価回路

一般的な等価回路

(33)

Measured

Modeled

RDS

RG

マルチフィンガー

MOSFETの

寄生抵抗スケーリング

(34)

CGD

Measured

Modeled

CDS

CGS

マルチフィンガー

MOSFETの

寄生容量スケーリング

(35)

出力抵抗

R

22

モデリング結果

64フィンガー

32フィンガー

8フィンガー

Vg = 1.5 V

Vd = 0.2 ~ 1.5 V

Measured

Modeled

(36)

S

21

モデリング結果

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

32フィンガー

64フィンガー

8フィンガー

(37)

GA

max

モデリング結果

64フィンガー

Vg = 1.5 V

Vd = 0.2 ~ 1.5 V

32フィンガー

8フィンガー

Measured

Modeled

S12位相測定誤差

(38)

8フィンガー

Sパラメータモデリング結果

S

11

S

12

S

21

S

22

Measured

Modeled

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

(39)

16フィンガー

Sパラメータモデリング結果

S

12

S

22

S

11

S

21

Measured

Modeled

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

(40)

32フィンガー

Sパラメータモデリング結果

Measured

Modeled

S

12

S

22

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

S

11

S

21

(41)

64フィンガー

Sパラメータモデリング結果

Measured

Modeled

S

12

S

22

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

S

11

S

21

(42)

128フィンガー

Sパラメータモデリング結果

Measured

Modeled

S

12

S

22

Vd = 1 V

Vg = 0.6 ~ 1.4 V

S

11

S

21

参照

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