目 次
1. タイムテーブル · · · 1 2. 会場· · · 4 3. フロアマップ· · · 5 4. 特別招待講演· · · 5 5. ポスターセッション · · · 5 6. オーサーズコーナー · · · 6 7. イブニングセッション · · · 6 8. 商業展示・コマーシャルセッション· · · 6 9. Luncheon Seminar · · · 6 10. 参加費· · · 6 11. 参加申込要領· · · 7 12. キャンセル規定 · · · 8 13. 宿泊施設のご案内 · · · 8 14. 最新情報· · · 8 15. シンポジウム企画運営委員会 · · · 8 16. ナノテスティング学会事務局 · · · 9 17. 講演プログラム · · · 9 11月12日(水)午前· · · 9 11月12日(水)午後· · · 10 11月13日(木)午前· · · 11 11月13日(木)午後· · · 14 11月14日(金)午前· · · 16 11月14日(金)午後· · · 17 18. 著者索引· · · 18 19. 商業展示· · · 19 20. 賛助会員一覧· · · 221
タイムテーブル
– 1 –– 2 – – 3 –
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会場
講演会: 千里ライフサイエンスセンター 5F ライフホール 大阪府豊中市新千里東町 1-4-2 Tel: 06-6873-2010 北大阪急行 (地下鉄 御堂筋線) 千里中央駅 北口出口 すぐ 商業展示: 千里ライフサイエンスセンター 6F 千里ルーム 同上 イブニングセッション: 千里阪急ホテル クリスタルホール 大阪府豊中市新千里東町 2-1-D-1 Tel: 06-6872-2211 – 4 –3
フロアマップ
千里ライフサイエンスセンター 5F
千里ライフサイエンスセンター 6F
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特別招待講演
Prof. Dr. Lothar Pfitzner 氏 (Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology (IISB)) による特 別招待講演「Yield Enhancement — European Contribution to a Global Challenge」を、11 月 13 日 (木) 17:00∼18:00 の予定で実施します。
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ポスターセッション
6F 千里ルームにて、下記の通りポスターセッションを 実施します。 • 11 月 13 日 (木) 14:00∼15:00:Metrology and Inspection • 11 月 14 日 (金) 10:45∼12:00:Failure Analysis II – 5 –6
オーサーズコーナー
発表者の皆様とより活発な議論を行って頂ける場とし て、講演後にオーサーズコーナーを設けます(特別セッ ション、コマーシャルセッションの講演は除く)。7
イブニングセッション
イブニングセッションでは、ナノテスティングに関す る、世界での研究動向の報告と今後の展望について討論 を行います。シンポジウム 2 日目 13 日 (木) の夜、会場は 講演会場から近い千里阪急ホテルです。コース A のシン ポジウム参加費用には、イブニングセッション参加費も 含まれています。8
商業展示・コマーシャルセッション
シンポジウムでは、新たに開発した、改良した、ナノ テスティングに関係する装置等を参加者にご紹介できる、 また、ディスカッションできる商業展示フロア (6 階千里 ルーム) を準備しています (2 日目, 3 日目)。さらに、講 演会場にて新製品をショートプレゼンテーションにて紹 介できる、コマーシャルセッションを準備しています (2 日目)。9
Luncheon Seminar
12 日 (水)、13 日 (木) の両日、昼食休憩時間帯に、日 本電子株式会社 (12 日)、浜松ホトニクス株式会社 (13 日) により Luncheon Seminar が開催されます。事前申し込み が必要ですので、シンポジウム参加申し込みの際に申し 込み方法が表示されますので、それに従ってお申し込み ください。10
参加費
参加費は、下記のいずれかの方法で 10 月末日までにご 送金下さい。 – 6 –《郵便振替》
口座番号: 00910-0-16745 加入者名: ナノテスティング学会 • 郵便振替用紙 (払込取扱票) の通信欄に参加者氏名 を記入して、郵便局よりご送金下さい。 • 誠に恐縮ですが、振り込み手数料は、貴方にてご負 担下さい。《銀行振込》
口座: りそな銀行 千里北支店 普通口座 6843152 加入者名: ナノテステイングガツカイ ナカマエ コ ウジ • 送金後、所定の用紙で振込情報をご連絡下さい。連 絡用紙は本会 Web にてダウンロードして頂けます。《クレジットカード》
本会 Web で参加申し込みをして頂くと、申し込み完了 後、クレジットカードによる参加費支払いのボタンが表 示されます。ボタンをクリックし、画面の指示に従って お支払いください。請求書、領収証の発行について
本会 Web で参加申し込みをして頂くと、印影の入った PDF 請求書が表示されます。請求書の郵送が必要な場合 は、参加申し込み時に、「請求書の郵送」欄をチェックし てください。 期日までにお支払い頂き、入金確認が完了した場合に は、シンポジウム受け付けにて領収書をお渡し致します。 それ以外の場合は、参加申込時に「領収証の郵送」欄を チェックしている場合に限り、後日郵送にてお送りします。11
参加申込要領
10 月 31 日 (金) までに、本会 Web にてお申し込み下さ い。申込完了時に表示される参加証をプリントアウトし、 当日、受付にご提出下さい。 http://www-NANOTS.ist.osaka-u.ac.jp/ 当日、会場座席に余裕のある場合に限り、当日申し込 みを受け付け致します。満席の場合には受け付けできま せんので、できる限り、事前にお申し込み下さい。 – 7 –講演者、商業展示担当者の皆様につきましても、全員 参加申し込み手続きが必要です。
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キャンセル規定
キャンセルの場合、下記の通り、キャンセル料を申し 受けます。予めご了承ください。 • 11 月 7 日 (金) 17:00 まで:参加費の 10% • シンポジウム当日まで、あるいは、ご連絡無くご欠 席の場合:参加費の 100% 参加費をお支払い済みの場合、キャンセル料および銀 行振り込み手数料を差し引いて、ご返金申し上げます。13
宿泊施設のご案内
会場から徒歩約 5 分の位置に千里阪急ホテルがござい ます。千里阪急ホテルは、イブニングセッションの会場 にもなっています。宿泊ご希望の方は、下記、千里阪急 ホテル Web サイトにてご予約下さい。満室になり次第、 締め切りとなりますので、お早めにご予約下さい。 http://www.senri-htl.co.jp/14
最新情報
シンポジウムに関する最新情報は、下記 Web に随時掲 載致します。適宜ご参照下さい。 http://www-NANOTS.ist.osaka-u.ac.jp/15
シンポジウム企画運営委員会
委員長 中前 幸治 (大阪大学) 委 員 後藤 安則 (トヨタ自動車) 小瀬 洋一 (日立ハイテクノロジーズ) 小山 徹 (ルネサス セミコンダクタマニュ ファクチャリング) 須賀 三雄 (日本電子) 寺田 浩敏 (浜松ホトニクス) 二川 清 (金沢工業大学) 則松 研二 (東芝 セミコンダクター&スト レージ社) 樋口 裕久 (日立パワーデバイス) 益子 洋治 (大分大学) 三好 元介 (東京大学) 山崎裕一郎 (NGR) 吉井 一郎 (DCG システムズ) – 8 –16
ナノテスティング学会事務局
ナノテスティング学会事務局 三浦克介・御堂義博 〒 565-0871 吹田市山田丘 2-1 大阪大学 大学院情報科学研究科 情報システム工学専攻 中前研究室内 Tel/Fax: 06-6879-7813 / 06-6879-7812 E-mail: NANOTS@ist.osaka-u.ac.jp Web: http://www-NANOTS.ist.osaka-u.ac.jp17
講演プログラム
11 月 12 日 (水) 午前
. . . 9:00∼9:05オープニング . . . .Nano Testing for New Fields
12日(水) a.m.座長 後藤安則 (1) 9:05 招待講演: 高分子ナノ粒子 DDS の機能の視覚的 解析 山本浩充, 高橋知里, 小川法子, 川嶋嘉明/ 愛知学院 大学 薬学部,製剤学講座 (2) 9:30 高分子ナノ粒子ドラッグデリバリーシステムの設 計を目的とするイオン液体観察法の確立 高橋知里, 小川法子, 川嶋嘉明, 山本浩充/ 愛知学院 大学 薬学部 製剤学講座 (3) 9:55 SPM でナノ表面物性を観る∼真空中の電磁気物 性観察と SEM・ミリング技術連携 山岡武博(a , 岩佐真行(a , 蓮村 聡(b , 安藤和徳(b , 廣瀬龍介(b , 水口勝利(c / a)日立ハイテクサイエンス 分析応用技術部, b)日立ハイテクサイエンス 分析技 術部, c)日立ハイテクサイエンス 営業部 . . . .10:20∼10:50オーサーズコーナー&休憩 . . . .
X-ray Nanotomography
12日(水) a.m.座長 後藤安則 (4) 10:50 軽元素サンプルの X 線 CT による観察 三好元介/ 東京大学 先端科学技術研究センター – 9 – (5) 11:15 ウォルター鏡を使ったラボサイズの水の窓 X 線 3D 顕微鏡 大須賀慎二(a , 大庭 昌(a , 小野田忍(a , 中本勝大(a , 中野知康(c, 三好元介(b, 早田敬太(b, 浜窪隆雄(b/ a)浜松ホトニクス , b)東京大学 先端科学技術研究セン ター, c)レイフォーカス (6) 11:40
SEM-hosted x-ray nanotomography combined to plasma-FIB to investigate materials and components in microelectronics
P. Bleuet(a, D. Laloum(a, L. Kwakman(b, H. Mace(b/
a)
CEA, LETI, MINATEC Campus, b)FEI Electron Optics . . . 12:05∼12:35オーサーズコーナー . . . . . . . 12:35∼14:05昼食休憩 . . . .
(日本電子 Luncheon Seminar※要事前登録)
11 月 12 日 (水) 午後
Power Device Analysis I
12日(水) p.m. 座長 吉井一郎 (7) 14:05 LIT によるパワー半導体内部における欠陥深さの 計測 佐川雅一, 安井 感/ 日立製作所 中央研究所 (8) 14:30 時間分解エミッション顕微鏡を用いた Chip 表面 からの Power MOSFET アバランシェ降伏電流の 観察 遠藤幸一(a , 則松研二(a , 中嶋克徳(b , 瀬戸屋孝(a , 長峰真嗣(a, 中村共則(c, 越川一成(c, 中前幸治(d/ a)東芝 セミコンダクター &ストレージ社, b)東芝情報 システムテクノロジー, c)浜松ホトニクス システム 事業部, d)大阪大学 大学院情報科学研究科 (9) 14:55 ラマン分光法を用いた SiC パワー素子の応力の 温度依存性計測 杉江隆一, 内田智之, 小坂賢一, 遠藤 亮/ 東レリ サーチセンター . . . 15:20∼15:50オーサーズコーナー&休憩. . . . – 10 –Power Device Analysis II (SiC)
12日(水) p.m. 座長 寺田浩敏 (10) 15:50 超高次非線形誘電率顕微鏡法によるバイアス印加 状態における SiC-DMOSFET 断面の空乏層分布 の解析 茅根慎通, 長 康雄/ 東北大学 電気通信研究所 (11) 16:15HVEM,3D-SEM による SiC MOS デバイスの 故障解析 畑 秀樹(a, 蕨野和也(a, 藪内康文(a, 田中康太郎(b, 林 将志(b / a)パナソニック 解析センター, b)パナソ ニック オートモーティブ&インダストリアルシステ ムズ社 (12) 16:40 多方向走査透過電子顕微鏡観察による 4H-SiC の 基底面転位解析 佐藤高広(a, 大津喜宏(b, 生頼義久(a, 一色俊之(c, 福井宗利(a/ a)日立ハイテクノロジーズ アプリケー ション開発部, b)日立ハイテクマニファクチャ&サービ ス 表面評価グループ, c)京都工芸繊維大学 大学院 工芸科学研究科 (13) 17:05 SiC 結晶の表面モフォロジーと転位の関係 生頼義久(a , 渡邉俊哉(a , 佐藤高広(a , 一色俊之(b , 福井宗利(a / a)日立ハイテクノロジーズ アプリケー ション開発部, b)京都工芸繊維大学 . . . 17:30∼18:00オーサーズコーナー . . . .
11 月 13 日 (木) 午前
Fault Localization I
13日(木) a.m.座長 則松研二 (14) 9:00 配線ネット長分布を考慮した実効検出率に関する 一考察 塩沢健治(a , 伊東久範(b / a)ルネサスセミコンダクタ マニュファクチャリング 技術統括部 解析評価技術部, b)ルネサスエレクトロニクス 第一ソリューション事 業本部 コア技術事業統括部 (15) 9:25
Time Resolved Imaging を用いた ESD 保護回路 の電流挙動可視化 松本賢和(a , 内角哲人(a , 福本晃二(a , 鶴田浩巳(a , 奥島基嗣(b , 中村共則(c , 平井伸幸(c , 嶋瀬 朗(c / a)ルネサス セミコンダクタ マニュファクチュアリング 技術統括部 解析評価技術部, b)ルネサス エレクトロニ クス 設計基盤事業推進部, c)浜松ホトニクス シス テム事業部 – 11 – (16) 9:50 シリコンフォトニクスデバイスのウエハレベルプ ロービング 堀川 剛, 志村大輔, 椎名明美, 木下啓藏, 最上 徹/ 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所(PETRA) つ くば研究開発センター . . . .10:15∼10:45オーサーズコーナー&休憩 . . . .
Commercial Session
13日(木) a.m.座長 須賀三雄 (C1) 10:45 BFA (Brute-ForceAnalysis) 技術によるスキャン 解析 浦西義裕(a , 松村 研(b , 入口健太(a , 程島康貴(a / a)
REVSONIC LSI Test Div., b)REVSONIC LSI Design Div. (C2) 10:51 レイアウト解析プラットフォームのカスタマイズ 環境 二階堂正人, 澤村佳美, 平井一寛/ TOOL EDA製品 事業部 (C3) 10:57 磁気電流画像解析によるショート、リーク箇所特 定法 八島 滋(a , J. Gaudestad(b/ a)東陽テクニカ 営業第 一部, b)Neocera, LLC Magma products, Global Sales & Applications (C4) 11:03 高出力・高分解能 X 線 CT 装置の紹介 清宮直樹(a, 田畑慎一郎(a, 川田真也(a, F. Maur(b, R. Sommer(b/ a)エクスロン・インターナショナル 営業統括部 エレクトロニクス課, b)エクスロン・イン ターナショナルゲーエムベーハー エレクトロニクス ファインフォーカスプロダクトライン (C5) 11:09 先端プロセスノードに対応した最新型 SEM 一体 型ナノプロービング装置「nProber II」の紹介 吉井一郎/ DCGシステムズ合同会社 (C6) 11:15 自己検知型 AFM 式ナノプローバ
塩田 隆, 天野佳之/ Wafer Integration CTO (C7) 11:21 精密研磨装置 Bni20 シリーズ 高崎敏行, 吉田浩之, 野村 誠/ ビーエヌテクノロ ジー ナノテクソリューション事業部 精密研磨装置グ ループ (C8) 11:27 新製品紹介 故障解析汎用プラットフォーム 倒立 型エミッション顕微鏡 iPHEMOS-MP 久米俊浩, 鈴木浩司, 鈴木伸介/ 浜松ホトニクス シ ステム事業部 システム営業推進部 (C9) 11:33 両面観察微細レーザーマーキングシステム 中島義文/ 東機通商 – 12 – (C10) 11:39 画像検証用ソフトウェアの紹介 伊佐 敏, 山本盛一, 松尾裕二, 伊藤 淳, 若林正浩, 小西圭一, 中村 愛/ アストロン ソリューショング ループ (C11) 11:45 電子線照射による試料汚染 (コンタミネーション) の予防・除去 神田憲一, 舟岡宏樹/ アド・サイエンス (C12) 11:51 プラズマ FIB によるラージボリューム観察 村田 薫/ FEI Company Material Science Business Unit (C13) 11:57 新型トリプルビーム装置「NX2000」の紹介 酉川翔太/ 日立ハイテクサイエンス 解析技術部 解 析応用技術課 (C14) 12:03 日立走査透過電子顕微鏡 HD-2700 Dual SDD シ ステムによる超高感度 EDX 分析のご紹介 鈴木裕也(a , 大津喜宏(b , 佐藤高広(a , 金村 崇(a , 橋本隆仁(c / a)日立ハイテクノロジーズ アプリケー ション開発部, b)日立ハイテクマニファクチャ&サービ ス ラボ技術支援センタ, c)日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡第二設計部 (C15) 12:09 走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡 (sMIM) の紹介 出口 匡/ オックスフォード・インストゥルメンツ アサイラム リサーチ事業部 (C16) 12:15 最新型 3 次元アトムプローブ LEAP5000 による シングルデバイスの分析
D.F. Lawrence(a, R.M. Ulfig(a, D.J. Larson(a,
D.P. Olson(a, D.A. Reinhard(a, I.Y. Martin(a,
S. Strennen(a, P.H. Clifton(a, 射場 忠(b/ a)カメカ イ ンスツルメンツ アトムプローブ テクノロジー セン ター, b)アメテック カメカ事業部 (C17) 12:21 連続傾斜元素マップ自動取得システムと 3 次元再 構成 中野和俊(a , 古河弘光(a , 青山佳敬(b , 遠藤徳明(b / a)システムインフロィア, b)日本電子 . . . 12:27∼12:35写真 . . . . . . . 12:35∼14:00昼食休憩 . . . . (浜松ホトニクス Luncheon Seminar※要事前登録) – 13 –
11 月 13 日 (木) 午後
Metrology and Inspection (poster)
13日(木) p.m. 座長 須賀三雄 . . . 14:00∼15:00会場:6F千里ルーム. . . . (17) EUVL マスクブランクス検査装置 宮井博基(a , 鈴木智博(a , 渡辺秀弘(b / a)レーザーテッ ク 技術五部, b)EUVL基盤開発センター 先端マス ク研究部 (18) 写像投影型電子顕微鏡の画像歪解析 飯田 晋, 平野亮一, 寺澤恒男, 天野 剛, 渡辺秀弘/ EUVL基盤開発センター(EIDEC) 先端マスク研究部 (19) 集束イオンビームによる多層膜の照射ダメージの シミュレーション 大宅 薫/ 徳島大学 大学院ソシオテクノサイエンス 研究部 (20) モンテカルロ SEM シミュレーションを用いた帯 電現象の研究 飯田悠介(a , 御堂義博(b , 濱口 晶(a , 井田知宏(a , 阿部秀昭(a , 中前幸治(b / a)東芝 四日市工場 解析・ 検査計測技術部, b)大阪大学 大学院情報科学研究科 (21) 分水嶺アルゴリズムと機械学習を利用した半導体 電子顕微鏡画像計測の為のライン抽出法 三浦克介(a, 御堂義博(a, 豊田康隆(b, 牛場郭介(b, 篠田伸一(b , 中前幸治(a / a)大阪大学 大学院情報科 学研究科, b)日立製作所 日立研究所 スマートシステ ム研究部 (22) 離散コサイン変換を用いた単一 SEM 画像の学習 型超解像度化 御堂義博, 中前幸治/ 大阪大学 大学院情報科学研 究科 (23) TEM 動画像を用いた電子線トモグラフィーの 検討 三津屋陽介(a , 御堂義博(a, 西 竜治(b, 中前幸治(a/ a)大阪大学 大学院情報科学研究科 , b)大阪大学 超高 圧電子顕微鏡センター
(24) 非線形 Total Variation に基づく TEM 像の雑音低
減法と電子線トモグラフィーへの応用 御堂義博, 中前幸治/ 大阪大学 大学院情報科学研 究科 – 14 – (25) 電子線トモグラフィにおけるマーカー法の最適化 (三次元再構成シミュレーション技術と検証) 吉田裕司(a , 本窪田昌也(b , 廣瀬佑介(b , 渡辺友希(b , 濱口 晶(a , 伊藤俊彦(a / a)東芝 セミコンダクター &ストレージ社 四日市工場 解析・検査計測技術部, b)東芝 生産技術センター 光技術研究センター . . . 15:00∼15:10休憩 . . . .
Fault Localization II
13日(木) p.m. 座長 三好元介 (26) 15:10Continuous-wave 1064nm laser for
laser-voltage imaging and probing applications V.K. Ravikumar(a, L. Phoa(a, 吉井一郎(b,
P. Sabineni(c, D.S. Skvortsov(c/ a)Advanced Micro Devices Device Analysis Lab., b)DCG Systems G. K.,
c)
DCG Systems Inc. (27)
15:35
Electro Optical Probing / Electro Optical Frequency Mapping による 40nm プロセス製品 の裏面タイミング解析 内角哲人(a , 佐伯光章(a , 松本賢和(a , 福本晃二(a , 鶴田浩巳(a, 中村共則(b, 平井伸幸(b, 嶋瀬 朗(b/ a)ルネサスセミコンダクタマニュファクチュアリング 技術統括部 解析評価技術部, b)浜松ホトニクス シス テム事業部 (28) 16:00
A new way for the electrical activities mapping inside VLSI devices
K. Melendez(a, K. Sanchez(a, P. Perdu(a, D. Lewis(b/
a)
National french space agency Expertise Lab.,
b)
Universit de Bordeaux IMS Lab.
. . . .16:25∼17:00オーサーズコーナー&休憩 . . . .
特別招待講演
13日(木) p.m. 座長 山崎裕一郎 (S1)17:00
Yield enhancement — European contribution to a global challenge
L. Pfitzner, M. Pfeffer / Fraunhofer Institute for Integrated Systems and Device Technology (IISB)
– 15 –
イブニングセッション
13日(木) p.m. 18:30 – 20:30 ○会場: 千里阪急ホテル ○プログラム: 国際会議報告• 2014 IEEE International Reliability Physics
Symposium, IRPS 2014 (東芝 遠藤幸一)
• 18th International Microscopy Congress,
IMC 2014 (大阪大学 御堂義博)
• 25th European Symposium on Reliability of
Electron Devices, Failure Physics and Analysis, ESREF 2014 (大阪大学 中前 幸治)
11 月 14 日 (金) 午前
Failure Analysis I
14日(金) a.m. 座長 小山 徹 (29) 9:00 マルコフ連鎖モデルによる半導体素子劣化・寿命 予測 桃田 快, 遠藤幸一, 御堂義博, 三浦克介, 中前幸治/ 大阪大学 大学院情報科学研究科 (30) 9:25 半導体パッケージにおける非破壊解析手法の検討 大野博文, 則松研二, 村上浩明/ 東芝 セミコンダク ター&ストレージ社 解析・検査計測技術部 (31) 9:50 STEM-WDX による極系元素の高感度組成分布評 価技術 高口雅成(a, 阿南義弘(a, 中前幸治(b/ a)日立製作所 中央研究所基礎研究部, b)大阪大学 大学院情報科学 研究科 . . . 10:15∼10:45オーサーズコーナー&休憩. . . .Failure Analysis II (poster)
14日(金) a.m.座長 小瀬洋一 . . . 10:45∼12:00会場:6F千里ルーム . . . . (32) 荷電粒子ビームプロービングによる電流経路形成 に関する研究 朝長俊也, 増富智明, 馬 晶鴻, 則松研二, 益子洋治/ 大分大学 大学院工学研究科 – 16 –
(33) 2 電極への FIB 同時プロービング計測についての 検討
花田昌大, 垣副大輝, 鈴木界人, 則松研二, 益子洋治/
大分大学 大学院工学研究科
(34) Dependence of quantum error correction
selection criteria on qubits concentration in an ion trap quantum computer
福田尚稀, 中前幸治/ 大阪大学 大学院情報科学研 究科 (35) (講演取り下げ) SIMS 及び SNDM,SCM,SSRM を用いた SiC エピタキ シャル層中のイオン打ち込み層内ドーパント分布評価 茅根慎通(a, 後藤安則(b, 長 康雄(a/a)東北大学 電気通信研究所, b)トヨタ自動車 第 3 電子開発部 (36) ソフトウェア故障診断結果とそれに基づく局所的 なレイアウト抽出回路を用いた発光解析支援シス テムの検討 三浦克介(a, 則松研二(b, 中前幸治(a/ a)大阪大学 大 学院情報科学研究科, b)東芝 セミコンダクター&スト レージ社 . . . 12:00∼12:30オーサーズコーナー . . . . . . . 12:30∼14:00昼食休憩 . . . .
11 月 14 日 (金) 午後
Physical Analysis
14日(金) p.m. 座長 益子洋治 (37) 14:00 ナノプローブを用いた局所赤外分光法 nanoIR の 現状と課題 藤田高弥, 叶 際平/ 日産アーク (38) 14:25 導電性原子間力顕微鏡 (C-AFM) による配線向け 多層グラフェンの微視的抵抗二次元分布及び配線 抵抗評価 張 利, 石倉太志, 和田 真, 片桐雅之, 宮崎久生, 西出大亮, 松本貴士, 佐久間尚志, 梶田明広, 酒井忠司 / 超低電圧デバイス技術研究組合(LEAP) 三次元ナ ノカーボン配線技術研究グループ (39) 14:50 特定箇所高空間分解能 SSRM による Si デバイス の評価とその課題 張 利(a, 小池三夫(a, 原 啓良(b, 早瀬洋平(b/ a)東 芝 研究開発センターLSI基盤技術ラボラトリー, b)東芝 セミコンダクター社 . . . .15:15∼15:45オーサーズコーナー&休憩. . . . – 17 –Physical Analysis & Fault Localization III
14日(金) p.m. 座長 二川 清 (40) 15:45 多機能ナノマニピュレーション装置による電気接 点評価 清水哲夫(a , 堀江智之(a , 渡邉騎通(a , 宮脇 淳(a , 藤井俊治郎(a, 山形由紀(b, 大沼雅則(c, 近藤貴哉(c/ a)産業技術総合研究所 ナノシステム研究部門 , b)矢崎 総業 技術研究所, c)矢崎部品 車載技術開発センター (41) 16:10 ロックインサーモグラフィによるパワーデバイス 内の故障部位深さを特定する方法に関する研究 長友俊信, 吉井一郎/ DCGシステムズ合同会社 ソ リューション部 (42) 16:35
Magnetic current imaging for electrical fault isolation
J. Gaudestad(a, 金子佳由(b, 八島 滋(b, D. Vallett(c/
a)
Neocera Global Sales & Applications, b)東陽テクニ カ 営業第1部, c)PeakSource Analytical . . . 17:00∼17:30オーサーズコーナー . . . .
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著者索引
※ アルファベット無しの番号は技術セッション講演番号を、’C’ +番号はコマー シャルセッション講演番号を示します。 英文 Bleuet, P. . . 6 Clifton, P.H. . . C16 Gaudestad, J. . C3, 42 Kwakman, L. . . 6 Laloum, D. . . 6 Larson, D.J. . . C16 Lawrence, D.F. . C16 Lewis, D. . . 28 Mace, H. . . 6 Martin, I.Y. . . C16 Maur, F. . . C4 Melendez, K. . . 28 Olson, D.P. . . C16 Perdu, P. . . 28 Pfeffer, M. . . S1 Pfitzner, L. . . S1 Phoa, L. . . 26 Ravikumar, V.K. . 26 Reinhard, D.A. . C16 Sabineni, P. . . 26 Sanchez, K. . . 28 Skvortsov, D.S. . . 26 Sommer, R. . . C4 Strennen, S. . . C16 Ulfig, R.M. . . C16 Vallett, D. . . 42 ア行 青山佳敬. . . C17 阿南義弘. . . 31 阿部秀昭. . . 20 天野 剛. . . 18 天野佳之. . . C6 安藤和徳. . . 3 飯田 晋. . . 18 飯田悠介. . . 20 伊佐 敏. . . C10 石倉太志. . . 38 井田知宏. . . 20 一色俊之. . . . 12, 13 伊藤 淳. . . C10 伊藤俊彦. . . 25 伊東久範. . . 14 射場 忠. . . C16 入口健太. . . C1 岩佐真行. . . 3 牛場郭介. . . 21 内角哲人. . . . 15, 27 内田智之. . . 9 浦西義裕. . . C1 遠藤幸一. . . 8, 29 遠藤徳明. . . C17 遠藤 亮. . . 9 大須賀慎二. . . 5 大津喜宏. . . 12, C14 大沼雅則. . . 40 大野博文. . . 30 大庭 昌. . . 5 大宅 薫. . . 19 生頼義久. . . . 12, 13 小川法子. . . 1, 2 奥島基嗣. . . 15 小野田忍. . . 5 カ行 垣副大輝. . . 33 梶田明広. . . 38 片桐雅之. . . 38 金子佳由. . . 42 金村 崇. . . C14 川嶋嘉明. . . 1, 2 川田真也. . . C4 神田憲一. . . C11 木下啓藏. . . 16 – 18 – 久米俊浩. . . C8 小池三夫. . . 39 高口雅成. . . 31 小坂賢一. . . 9 越川一成. . . 8 小西圭一. . . C10 近藤貴哉. . . 40 サ行 佐伯光章. . . 27 酒井忠司. . . 38 佐川雅一. . . 7 佐久間尚志. . . 38 佐藤高広12, 13, C14 澤村佳美. . . C2 椎名明美. . . 16 塩沢健治. . . 14 塩田 隆. . . C6 篠田伸一. . . 21 嶋瀬 朗. . . . 15, 27 清水哲夫. . . 40 志村大輔. . . 16 馬 晶鴻. . . 32 杉江隆一. . . 9 鈴木界人. . . 33 鈴木浩司. . . C8 鈴木伸介. . . C8 鈴木智博. . . 17 鈴木裕也. . . C14 清宮直樹. . . C4 瀬戸屋孝. . . 8 早田敬太. . . 5 タ行 高崎敏行. . . C7 高橋知里. . . 1, 2 田中康太郎. . . 11 田畑慎一郎. . . C4 茅根慎通. . . 10 張 利. . . 38, 39 長 康雄. . . 10 鶴田浩巳. . . . 15, 27 寺澤恒男. . . 18 出口 匡. . . C15 朝長俊也. . . 32 豊田康隆. . . 21 酉川翔太. . . C13 ナ行 中嶋克徳. . . 8 中島義文. . . C9 中野和俊. . . C17 中野知康. . . 5 中前幸治. . 8, 20, 21, 22, 23, 24, 29, 31, 34, 36 中村 愛. . . C10 中村共則. . 8, 15, 27 中本勝大. . . 5 長友俊信. . . 41 長峰真嗣. . . 8 二階堂正人. . . C2 西出大亮. . . 38 西 竜治. . . 23 野村 誠. . . C7 則松研二. . 8, 30, 32, 33, 36 ハ行 橋本隆仁. . . C14 蓮村 聡. . . 3 畑 秀樹. . . 11 花田昌大. . . 33 浜窪隆雄. . . 5 濱口 晶. . . . 20, 25 林 将志. . . 11 早瀬洋平. . . 39 原 啓良. . . 39 平井一寛. . . C2 平井伸幸. . . . 15, 27 平野亮一. . . 18 廣瀬佑介. . . 25 廣瀬龍介. . . 3 福井宗利. . . . 12, 13 福田尚稀. . . 34 福本晃二. . . . 15, 27 藤井俊治郎. . . 40 藤田高弥. . . 37 舟岡宏樹. . . C11 古河弘光. . . C17 程島康貴. . . C1 堀江智之. . . 40 堀川 剛. . . 16 マ行 益子洋治. . . . 32, 33 増富智明. . . 32 松尾裕二. . . C10 松村 研. . . C1 松本貴士. . . 38 松本賢和. . . . 15, 27 三浦克介. 21, 29, 36 水口勝利. . . 3 三津屋陽介. . . 23 御堂義博 20, 21, 22, 23, 24, 29 宮井博基. . . 17 宮崎久生. . . 38 宮脇 淳. . . 40 三好元介. . . 4, 5 村上浩明. . . 30 村田 薫. . . C12 最上 徹. . . 16 本窪田昌也. . . 25 桃田 快. . . 29 ヤ行 八島 滋. . . . C3, 42 安井 感. . . 7 藪内康文. . . 11 山岡武博. . . 3 山形由紀. . . 40 山本浩充. . . 1, 2 山本盛一. . . C10 叶 際平. . . 37 吉井一郎. C5, 26, 41 吉田浩之. . . C7 吉田裕司. . . 25 ワ行 若林正浩. . . C10 渡邉俊哉. . . 13 渡邉騎通. . . 40 渡辺秀弘. . . . 17, 18 渡辺友希. . . 25 和田 真. . . 38 蕨野和也. . . 1119
商業展示
日時: 11 月 13 日 (木)、14 日 (金):10:00∼17:00 場所: 6F 千里ルーム – 19 –(展示フロアマップは、予告無く変更される場合があります) ※ 企業名の後の ’C’ +番号は、コマーシャルセッションの講演番号を示します。 1. ハイソル株式会社: 解析用マニュアル劈開装置、次世代型パッケージ開封 装置 2. 株式会社ダイナコム: 立体像可視化の自動化・省力化を実現するソフト HawkC 3. アメテック株式会社:(C16) 3次元アトムプローブLEAP 4000、二次イオン質量分 析計IMS 7f-Autoのご紹介 4. 日本エフイー・アイ株式会社:(C12) FIB/SEM/TEM解析装置および回路修正装置 5. オックスフォード・インストゥルメンツ株式会社: (C15) 走査型マイクロ波インピーダンス顕微鏡 6. MultiProbe Inc./阪和トレーディング株式会社:
Measurements you trust.
7. 東機通商株式会社:(C9) 両面観察微細レーザーマーキングシステム 8. 浜松ホトニクス株式会社:(C8) 半導体故障解析装置シリーズ 9. TOOL 株式会社:(C2) レイアウト解析プラットフォームのカスタマイズ環境 10. 日本電子株式会社:(C17)
最新FE-SEM JSM-7800 Primeの紹介 とEDSトモグ ラフィー 11. 株式会社ビーエヌテクノロジー:(C7) 精密研磨装置Bni20シリーズ 12. 株式会社テクノラボ: 新型デコンタミネーターEvactron-25 Zephyr – 20 – 13. 日本サイエンティフィック株式会社: ICプラスチックモールドオープナーPS105他各種開 封装置 14. 株式会社アストロン:(C10) 画像重ね合わせ検証用ソフトAZblend、 セルカウン トシステムMarrive、CADナビゲーションシステム AZSA SEM像3D構築/断面表示ソフトウエア SEM3Dの紹介 15. 丸文株式会社: ロックインサーモグラフイーと3次元X線斜めCT のコンビネーション 16. DCG システムズ合同会社:(C5) 微細加工技術の歩留まりと効率を最大化する革新的な ソリューション 17. 日本バーンズ株式会社: パッケージ開発における最新解析装置 18. 株式会社東陽テクニカ:(C3)
新型FIB-SEM CrossBeam 340/540,走査型SQUID顕 微鏡Magma,走査型マイクロ波顕微鏡,マルチスケー ル高分解能X線CT SkyScan2211 19. REVSONIC 株式会社:(C1) BFA (Brute-ForceAnalysis)技術によるスキャン解析 20. エクスロン・インターナショナル株式会社:(C4) 高出力・高分解能X線CT装置 21. アイトランス株式会社: マイクロプラズマ装置,ナノマニピュレーションス テージ 22. 株式会社日立ハイテクノロジーズ:(C13), (C14) ショットキー走査電子顕微鏡SU5000 23. 株式会社アド・サイエンス:(C11) プラズマアッシャー(コンタミネーション予防・除去 ツール)、SEM/FIB用マイクロマニピュレータ(プ ローバー)、スパッタ&カーボンコーター 24. 沖エンジニアリング株式会社: ロックイン発熱解析を用いたプリント基板の故障解析 ソリューション 25. エイビーム・テクノロジーズ・ジャパン株式会社: 電子線散乱・SEM画像解析シミュレータ 26. Wafer Integration 株式会社:(C6) 自己検知型AFM式ナノプローバWI3000 27. 株式会社アポロウエーブ: プローバー、プローブカード – 21 –