材料創造研究センター
利用案内
平成30年 4月 版
簡易版 (詳細版もあります)
目
目
目
目
次
次
次
次
１．装置および利用料金一覧 ･･････････････････････････････････････････････････ ２ ２．ご利用の流れ ････････････････････････････････････････････････････････････ ３ ３．ご利用料金 ･･････････････････････････････････････････････････････････････ ３ ４．技術相談・お問い合わせ先 ････････････････････････････････････････････････ ３ ５．材料創造研究センターの所有装置 ･･････････････････････････････････････････ ４ ５－１ マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型質量分析計 ･･････････ ４ ５－２ 高速液体クロマトグラフ質量分析計 ･･････････････････････････････････ ４ ５－３ ガスクロマトグラフ質量分析装置 ････････････････････････････････････ ４ ５－４ フーリエ変換－核磁気共鳴装置 ･･････････････････････････････････････ ５ ５－５ 電子スピン共鳴装置 ････････････････････････････････････････････････ ５ ５－６ 電界放出形走査型電子顕微鏡 ････････････････････････････････････････ ５ ５－７ エネルギー分散型Ｘ線分析装置付走査型電子顕微鏡 ････････････････････ ６ ５－８ 走査型プローブ顕微鏡 ･･････････････････････････････････････････････ ６ ５－９ 顕微ラマン測定装置 ････････････････････････････････････････････････ ６ ５－10 動的光散乱測定装置 ････････････････････････････････････････････････ ７ ５－11 Ｘ線小角散乱装置 ･･････････････････････････････････････････････････ ７ ５－12 Ｘ線広角回折装置 ･･････････････････････････････････････････････････ ７ ５－13 示差走査熱量測定装置 ･･････････････････････････････････････････････ ８ ５－14 熱機械分析装置 ････････････････････････････････････････････････････ ８ ５－15 元素分析装置 ･･････････････････････････････････････････････････････ ８ ５－16 装置配置図 ････････････････････････････････････････････････････････ ９ 発 行 者 材料創造研究センター管理責任者 問 合 せ 電 話：03-3259-0432，-0870 E-mail：[email protected] H P：http://www.cac.rist.cst.nihon-u.ac.jpCenter for Creative Materials Research
材
料
創
造
研
究
セ
ン
タ
ー
材
材
料
料
創
創
造
造
研
研
究
究
セ
セ
ン
ン
タ
タ
ー
ー
材
料
創
造
研
究
セ
ン
タ
ー
材 料 創 造 研 究 セ ン タ ー は ， 日 本 大 学 理 工 学 部 の 共 同 利 用 研 究 施 設 と し て ， 物 質 ・ 材 料 を
材 料 創 造 研 究 セ ン タ ー は ， 日 本 大 学 理 工 学 部 の 共 同 利 用 研 究 施 設 と し て ， 物 質 ・ 材 料 を
材 料 創 造 研 究 セ ン タ ー は ， 日 本 大 学 理 工 学 部 の 共 同 利 用 研 究 施 設 と し て ， 物 質 ・ 材 料 を
材 料 創 造 研 究 セ ン タ ー は ， 日 本 大 学 理 工 学 部 の 共 同 利 用 研 究 施 設 と し て ， 物 質 ・ 材 料 を
対 象 と し た 各 種 測 定 装 置 を 運 用 ， 管 理 し て い ま す 。 理 工 学 部 の 研 究 の た め の 利 用 が
対 象 と し た 各 種 測 定 装 置 を 運 用 ， 管 理 し て い ま す 。 理 工 学 部 の 研 究 の た め の 利 用 が
対 象 と し た 各 種 測 定 装 置 を 運 用 ， 管 理 し て い ま す 。 理 工 学 部 の 研 究 の た め の 利 用 が
対 象 と し た 各 種 測 定 装 置 を 運 用 ， 管 理 し て い ま す 。 理 工 学 部 の 研 究 の た め の 利 用 が
主 目 的 で す が ， 学 外 利 用 も 積 極 的 に 推 進 し ， 都 心 の 材 料 研 究 拠 点 と し て ， 材 料 研 究 の
主 目 的 で す が ， 学 外 利 用 も 積 極 的 に 推 進 し ， 都 心 の 材 料 研 究 拠 点 と し て ， 材 料 研 究 の
主 目 的 で す が ， 学 外 利 用 も 積 極 的 に 推 進 し ， 都 心 の 材 料 研 究 拠 点 と し て ， 材 料 研 究 の
主 目 的 で す が ， 学 外 利 用 も 積 極 的 に 推 進 し ， 都 心 の 材 料 研 究 拠 点 と し て ， 材 料 研 究 の
発展に寄与したいと考えています。
発展に寄与したいと考えています。
発展に寄与したいと考えています。
発展に寄与したいと考えています。
1 1 1 1.... 装置および利用料金一覧装置および利用料金一覧装置および利用料金一覧装置および利用料金一覧 装 置 ・ 区 分 測 定 単 位 料金 [円 ] ラ イ セ ン ス 制 マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型 質量分析装置 (MALDI-TOF/TOF MS) 1時間 3,500 装 置 使 用 料 高速液体クロマトグラフ質量分析装置 (LC/MS) 3時間 6,000 ガスクロマトグラフ質量分析装置 (GC/MS) 3時間 6,000 400 MHz フーリエ変換核磁気共鳴装置 (FT-NMR) 10分 600 終夜 18,000 電子スピン共鳴装置 (ESR) 半日 12,000 電界放出形走査型電子顕微鏡 (FE-SEM) 1時間 5,000 エネルギー分散型X線分析装置付 走査型電子顕微鏡 (SEM/EDX) SEM 1時間 1,000 EDX測定 1時間 2,000 走査型プローブ顕微鏡装置 (SPM) 1時間 500 顕微ラマン分光装置 1時間 5,000 動的光散乱測定装置 (DLS) 1時間 1,000 X線小角散乱装置 (SAXS) 4時間 4,000 X線広角回折装置 (WAXS) 1時間 2,700 示差走査熱量測定装置 (DSC) 3時間 2,000 熱機械分析装置 (TMA) 1時間 1,000 オ ペ レ ｜ タ 制 400 MHz フーリエ変換核磁気共鳴装置 (FT-NMR) 1 件 20,000 (18,000) 測 定 料 積算5時間超過 5時間毎 5,000 (4,500) 元素分析 CHN 1 件 12,000 Ash同時分析 1 件 4,000 S 1 件 12,000 ＊: ( )内の料金は，依頼者が測定を行いますが，プローブ変更などのオペレータを必要とする 測定の場合に適用します。2 2 2 2. . . . ご利用の流れご利用の流れご利用の流れご利用の流れ 当センターの測定装置は，ライセンス制とオペレータ制を導入しています。 2 2 2 2. 1. . 1. . 1. . 1. ライセンス制導入装置のライセンス制導入装置のライセンス制導入装置のライセンス制導入装置のライセンス取得ライセンス取得ライセンス取得ライセンス取得 継続 の場合 新 規の 場合 装置利用講習 装置利用講習は，装置担当者又は装置担当者が認定した者から 受講してください。 ↓ 装置利用登録願の記入・提出 指定用紙に必要事項を記入し，センターへご提出ください。 ↓ ラ イ セ ン ス 登 録 ・ 発 行 装置担当者が承認後，センターに登録します。 申請者には，登録願の写しをお送りし，登録完了とします。 2 2 2 2. 2. . 2. . 2. . 2. 測定測定測定測定 ラ イ セ ン ス 制 導 入 装 置 オペ レ ータ 制 導入 装置 測 定 予 約 測 定 申 込 書 ・ サ ン プ ル の 提 出 担当オペレータが確認します。 ↓ ↓ 測 定 オ ペ レ ー タ が 測 定 NMRは，依頼者測定の場合もあります。 ↓ ↓ 装置使用報告書提出 測 定 結 果 の 報 告 ， サ ン プ ル の 返 却 測定申込書に受領確認サインを お願いします。 3 3 3 3.... ご利用料金ご利用料金ご利用料金ご利用料金 ご利用料金には，以下の使用者区分により，料金に対する料率を適用します。装置使用・測定依頼が終了後， 材料創造研究センターが指定する期日までに，理工学部会計課にお支払いください。 使用者区分 料率 1. 日本大学理工学部及び短期大学部 (船橋校舎) に所属する者 10 % 2. 日本大学理工学部及び短期大学部 (船橋校舎) と他学部の共同 10 % 3. 日本大学他学部に所属する者 50 % 4. 上記以外の者 100 % 4 4 4 4. . . . 技術相談・技術相談・お問い合わせ先技術相談・技術相談・お問い合わせ先お問い合わせ先お問い合わせ先 日本大学理工学部 理工学研究所 材料創造研究センター http://www.cac.rist.cst.nihon-u.ac.jp/index.html E-mail: [email protected] 電話番号：03－3259－0432，0870 ◎センター装置を利用した結果を報告する際は， 実験項または謝辞への記載をお願いします。
例：xxxx was performed in the Center for Creative Materials Research, CST, Nihon University.
5. 5. 5. 5. 材料創造研究センターの所有装置材料創造研究センターの所有装置材料創造研究センターの所有装置材料創造研究センターの所有装置 5 5 5 5----1 1 1 1 マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間マトリックス支援レーザー脱離イオン化飛行時間型型型型質量分析計質量分析計質量分析計質量分析計 Matrix Matrix Matrix
Matrix----assisted laser desorption/ionization timeassisted laser desorption/ionization time----ofassisted laser desorption/ionization timeassisted laser desorption/ionization timeofofof----flight/timeflight/timeflight/timeflight/time----ofof----flight mass ofofflight mass flight mass flight mass SpectromeSpectromeSpectromeSpectrometerterterter
・日本電子社製 JMS-S3000 ・測定分子量 Linear mode: ～500,000 Da Reflector mode: ～30,000 Da ・マトリックス支援レーザー脱離イオン化法 ・2台の飛行時間型質量分析装置 ・合成高分子から生体由来試料まで多岐にわた る試料の質量数を高感度・高精度に測定 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----2 2 2 2 高速液体クロマトグラフ質量分析計高速液体クロマトグラフ質量分析計高速液体クロマトグラフ質量分析計高速液体クロマトグラフ質量分析計 Liquid Chromatography Liquid Chromatography Liquid Chromatography
Liquid Chromatography----Mass Mass Mass SpectromeMass SpectromeSpectromeSpectrometerterterter
・アジレントテクノロジーズ社製 LC/MSD TOF 1100 システム ・測定質量範囲：m/z 50 ～ 12,000 ・分解能：13,000以上 ・ナノモル(10-9mol)からピコモル(10-12mol)の 試料量があれば分子量，構造情報が得られる． 溶媒に溶けない化合物の測定は出来ない． ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----3 3 3 3 ガスクロマトグラフ質量分析ガスクロマトグラフ質量分析ガスクロマトグラフ質量分析ガスクロマトグラフ質量分析装置装置装置装置 Gas Chromatography M Gas Chromatography M Gas Chromatography M
Gas Chromatography Mass ass ass ass SpectromeSpectromeSpectromeSpectrometerterter ter
・島津製作所社製 GCMS-QP2010 ・測定質量範囲：ｍ/ｚ 1.5 ～ 1,090 ・オーブン温度：最高450℃ ・試料気化室温度：最高450℃ ・GLC インターフェース加熱温度：最高350℃ ・イオン源：EI ・イオン化電圧：10～200V ・加熱温度：独立温調 100～300℃ ・分析ロッド：プリロッド四重極 ・測 定：【ライセンス制】
5 5 5 5----4 4 4 4 フーリエ変換－フーリエ変換－フーリエ変換－フーリエ変換－核磁気共鳴核磁気共鳴核磁気共鳴核磁気共鳴装置装置装置装置 Fourier Fourier Fourier
Fourier----Transform Transform Transform Nuclear MagnetTransform Nuclear MagnetNuclear Magnetic ResonanceNuclear Magnetic Resonanceic Resonance ic Resonance
・日本電子社製 ECX-400 ・測定核種： １ H， １９ F， ３１ P～ １５ N ・温度可変範囲：－100 ～ ＋180℃ ・周波数範囲：10 ～ 950MHz，0.01Hzステップ ・周波数シフト時間：500ns ・周波数切り替え時間：100ns ・位相精度：0 ～ 360°，0.01°ステップ ・位相シフト時間：400ns ・位相切り替え時間：100ns ・測 定：【ライセンス制】，【受託測定可】 5 5 5 5----5 5 5 5 電子スピン共鳴電子スピン共鳴電子スピン共鳴電子スピン共鳴装置装置装置装置 Electron Spin Re Electron Spin Re Electron Spin Re
Electron Spin Resonancesonancesonance sonance
・日本電子社製 JES-RE2X ・基準周波数：8.8 ～ 9.6GHz ・感度：1.0×1014 / T（100kHz磁場変調） ・分解能：47mG（100kHz変調時） ・周波数安定度：1×10 －６ ・マイクロ波出力：0.1µW ～ 200mW可変 ・キャビティーモード：TE ０１１円筒形 ・検波方式：ホモダインクリスタル検波 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----6 6 6 6 電界放出形電界放出形電界放出形電界放出形走査型電子顕微鏡走査型電子顕微鏡走査型電子顕微鏡走査型電子顕微鏡
Field EmisField EmisField Emission Electron GuField Emission Electron Gusion Electron Gusion Electron Gunnn----Scanning Electron MicroscopenScanning Electron MicroscopeScanning Electron MicroscopeScanning Electron Microscope
・日立ハイテクノロジーズ社製 S-4500 ・電子銃：冷陰極電界放出形電子銃 ・倍 率 高倍率モード：×50 ～ 500,000 低倍率モード：×20 ～ 1,500 ・分解能 1.5nm（加速電圧15kV WD=4mm） 4.0nm（加速電圧 1kV WD=3mm） ・加速電圧：0.5～30kV（100Vステップ） ・測 定：【ライセンス制】
5 5 5
5----7 7 7 7 エネルギー分散型Ｘ線分析装置付－走査型電子顕微鏡エネルギー分散型Ｘ線分析装置付－走査型電子顕微鏡エネルギー分散型Ｘ線分析装置付－走査型電子顕微鏡エネルギー分散型Ｘ線分析装置付－走査型電子顕微鏡
Energy Energy Energy Dispersive XEnergy Dispersive XDispersive XDispersive X----rayrayray spectrometry /rayspectrometry /spectrometry /spectrometry / Scanning Electron MicroscopeScanning Electron MicroscopeScanning Electron MicroscopeScanning Electron Microscope
・日立ハイテクノロジーズ社製 S-3000N ・倍 率 ×15 ～ 300,000（65段）通常モード × 5 ～ 300,000（75段）Low Magモード ・分解能 二次電子分解能 3.0nm（高真空モード） 反射電子分解能 4.0nm（低真空モード） ・加速電圧：0.3 ～ 30kV（1171段） ・照射電流：10 －１２ ～ 10 －７ A ・Ｘ線分析範囲：C ６ ～ U９２ ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----8 8 8 8 走査型プローブ顕微鏡走査型プローブ顕微鏡走査型プローブ顕微鏡走査型プローブ顕微鏡
Scanning ProbeScanning ProbeScanning ProbeScanning Probe MicroscopeMicroscopeMicroscope Microscope
・セイコーインスツル社製 SPI3800N-SPA400 ・測定モード STM（走査型トンネル顕微鏡） AFM（コンタクトAFMモード） DFM（ダイナミックフォースモード） ・最小観察エリア 2nm×2nm（5,000万倍） ・表面の形状や性質を原子・ 分子レベルの分解 能で観察が可能 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----9 9 9 9 顕微ラマン測定装置顕微ラマン測定装置顕微ラマン測定装置顕微ラマン測定装置
Raman ScanningRaman ScanningRaman Scanning MicroscopeRaman ScanningMicroscopeMicroscopeMicroscope
・レニショー社製 System-1000 ・分光器 スペクトル分解能：1 cm －１ スペクトル領域：100 – 4,000 cm －１ 空間分解能：1 µm 深さ方向：～ 2 µm ・光源 アルゴンレーザー [GLG3103] 発振波長：514.5 nm 発振出力：≧ 40 mW ・測 定：【ライセンス制】
5 5 5 5----10101010 動的光散乱測定装置動的光散乱測定装置動的光散乱測定装置動的光散乱測定装置
Dynamic Light Scattering Dynamic Light Scattering Dynamic Light Scattering SpectrometerDynamic Light Scattering SpectrometerSpectrometerSpectrometer
・大塚電子社製 DLS-7000 ・光源：He-Ne レーザー 10mW ・ゴニオメータ：5 ～ 160°，精度±1° ・使用温度範囲：5 ～ 160℃ ・【動的光散乱法】 粒径測定範囲：1.4×10 －３ ～ 3µm 並進拡散係数：2×10 －６ ～ 2×10 －９ cm sec ・【静的光散乱法】 重量平均分子量：3×10 ２ ～ 2×10 ７ Mw 慣性自乗半径：20 ～ 1000 nm ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----11111111 Ｘ線小角散乱装置Ｘ線小角散乱装置Ｘ線小角散乱装置Ｘ線小角散乱装置
SmallSmallSmall----angle XSmallangle Xangle X----ray Scatteringangle Xray Scatteringray Scatteringray Scattering
・アントンパール社製 SAXSess ・測定試料：液体，紛体，固体（主にフィルム） ・測定領域：0.108 ～ 40.0° ・小角分解能：0.077 nm －１ ・温度制御範囲 －30 ～ 120℃，± 1℃（15 ～ 25℃） ・高分子材料の結晶性，配向性評価 ・ナノ粒子径や空孔径の解析 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----12121212 Ｘ線広角回折装置Ｘ線広角回折装置Ｘ線広角回折装置Ｘ線広角回折装置
WideWideWide----angle XWideangle Xangle Xangle X----ray Diffractionray Diffractionray Diffractionray Diffraction
・パナリティカル社製 X’Pert PRO MPD ・測定試料：液体，紛体，フィルム ・測定領域：3 ～ 160° ・結晶相の定性および格子定数，結晶子サイズ， 残留応力などの測定 ・測 定：【ライセンス制】 －１
5 5 5 5----13131313 示差走査熱量測定装置示差走査熱量測定装置示差走査熱量測定装置示差走査熱量測定装置
DDDiiiifferential Scanning CalorimeterDfferential Scanning Calorimeterfferential Scanning Calorimeterfferential Scanning Calorimeter
・セイコーインスツル社製 DSC-6100 ・温度範囲：－150 ～ 500℃ ・DSC 範囲：±40 mW ・DSC 感度：0.2µW ・プログラム速度：0.01 ～ 20℃/min ・測定雰囲気：N (その他雰囲気は要相談) ・融点，ガラス転移点，結晶化，キューリー点 などの測定 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----14141414 熱機械分析装置熱機械分析装置熱機械分析装置熱機械分析装置
Thermomechanical AnalyzerThermomechanical AnalyzerThermomechanical Analyzer Thermomechanical Analyzer
・セイコーインスツル社製 TMA/SS-6000 ・温度範囲：－150 ～ 600℃ ・TMA 範囲：±5 mm ・TMA 感度：0.02µW ・プログラム速度：0.01 ～ 100℃/min ・最大試料形状：10φ×25 mm ，1 × 4 × 25 mm ・線膨張率，ガラス転移点，軟化点などの測定 ・測 定：【ライセンス制】 5 5 5 5----15151515 元素分析装置元素分析装置元素分析装置元素分析装置
Elemental AnalyzerElemental AnalyzerElemental Analyzer Elemental Analyzer
・ジェイサイエンスラボ社製 JM10，JMSU10 ・測定元素：C,H,N,S ・測定精度 0.3％以内(CHN 分析) 0.5％以内(S 分析) ・標準温度設定 燃焼炉；950℃（最高1200℃） 酸化炉；850℃（最高1200℃） 還元炉；550℃（最高 999℃） ・測 定：【受託測定：オペレータ制】
