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小型ガラス溶融試験装置

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Academic year: 2021

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(1)小型ガラス溶融試験装置 設置目的. 概要・特徴. 本 装 置 は 、使 用 済 み 核 燃 料 の 再 処 理 工 程. 目的とする。仮焼層の状態はガラス固化体の. から発生する放射能を含む廃液(高レベル廃. 製造速度や性状に大きく影響するため、ガラ. 液)を、化学的に安定なガラスとともに固化さ. スの溶融速度や温度の制御等が仮焼層の状. せる工 程(ガラス固 化 工 程 )に関する試 験を. 態に与える効果を詳細に把握する。仮焼層を. 行うものである。特に、溶 融ガラス上 面に形. 安定に形成させることが、ガラス固化工程に. 成される、固化した廃液および廃棄物と原料. おいて、最も重要であると考えられており、本. ガラスが混在した層(仮焼層)が、除々にガラ. 装置で得られる成果は、今後の再処理工場の. スの中に取り込まれる現象を観察することを. 運転に役立てられる。. 本装置は、高レベル廃液をガラス固化する. 電気を通電することにより加熱するジュール加熱方. ためのガラス溶融炉内で、仮焼層における各種. 式を採用した。さらに、 模擬廃液とガラス原料を同. 溶融ガラス上面で仮焼層を生成させ、 反応挙動の解明に係るデータ取得を目的とし、 時に供給し、 実験室規模での連続供給式の小型ガラス溶融炉. 炉を運転した状態で仮焼層をサンプリングできる. を中心に構成される。. よう工夫している。. 炉体は実機と同じくレンガ製とし、 ガラスへ直接 主な仕様. 炉形式:液体供給式直接通電ジュール発熱型セ. 液面深さ:Lレベル:132mm、Hレベル:150mm. ラミックメルタ (LFCM). 運転温度:溶融ガラス通常温度 約1150℃、最高. 接液部レンガ材質:Monofrax K-3レンガ. 使用温度 約1,200℃. 主電極材質:NCF690 (または、 相当インコネル材) 原料供給:連続供給 ケーシング材質:SUS304. ガラス流下:バッチ式. 2. 溶融表面積:0.0225m(150mm×150mm) 【設置場所・時期・所管研究所】 狛江地区・2012年2月・原子力技術研究所. 電源・制御盤. ガラス溶融炉. 排気系. 写真 小型ガラス溶融試験装置 105.

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