X 線結像光学ニューズレター No 年 7 月発行代表就任の挨拶兵庫県立大学大学院物質理学研究科篭島靖この度,X 線結像光学研究会の代表を仰せつかりました兵庫県立大学の篭島靖です代表に選ばれたことを幹事の先生方や会員の皆様の総意と受けとめまして, もとより微力ではありますが,

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(1)Ｘ線結像光学ニューズレター No.43 2016 年 7 月発行. 代表就任の挨拶兵庫県立大学大学院物質理学研究科篭島靖 . 飛躍的発展は言を俟ちません。一般社会でも 30 年は概ね一世代です。学生時代にすでに恵まれた研究環境が用意されていた我々の世代は謂わば第二世代です。我が国のこの研究分野を開拓し牽引されてこられた先生方の輝かしい功績に勇気をいただいて，先輩の先生方，我々第二世代そして若手の皆さんと手を取り合ってＸ線結像光学の発展に貢献していきたいと思います。科学は世の中に夢，希望といった明るい未来を提示する役割も負っています。一方で，実社会で今すぐに役立つ技術開発も，最近は強く求められるようになってきました。すなわち，研究成果の意義と有用性をわかりやすい形で世の中に発信することも重要な使命です。本研究会は，Ｘ線をキーワードとする幅広い分野の第一線の研究者の集団です。望遠鏡と顕微鏡，光源と光学素子と検出器，スペクトルと画像，実空間と逆空間などが同居しつつそれらの境界領域も研究対象とする多様性は，その強力な武器たり得ると思います。皆様と協力して本研究会のプレゼンスの向上にも努めてまいりたいと思います。どうぞよろしくお願い申し上げます。. この度，Ｘ線結像光学研究会の代表を仰せつかりました兵庫県立大学の篭島靖です。代表に選ばれたことを幹事の先生方や会員の皆様の総意と受けとめまして，もとより微力ではありますが，研究会発展のために尽くしたいと思います。ご指導，ご協力賜りますようどうぞよろしくお願い申し上げます。本ニュースレターNo. 1（1995 年 1 月発行）で，山下広順先生が「創刊によせて」の中で「平成元年〜4 年度にわたって文部省科学研究費重点領域研究『Ｘ線結像光学』を全国の関連する研究者を結集して進めてきました。」と記されています。平成元年当時私は博士課程の最終学年でした。青木貞雄先生の学生だったこと，その後フォトンファクトリーのスタッフになったことなどから，若輩ながら同重点領域研究の研究会やシンポジウム等に参加させていただき，この研究分野が急速に活気づいていく様子，研究成果が次々と創出されていく様子を肌で感じることができました。大変貴重な経験をさせて頂きました。本研究会の起点を重点領域研究が始まった平成元年としますと，あと 2 年で 30 年になります。関係諸氏のご努力により，その後のＸ線結像光学関連の研究分野の 1.

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(7) ƗßɐȰƚćå% ArF ƀſɂ¥ /'êȮɂ¥ć. ÍÃ3ɋƫƻ*%ċǧ!ɋǉĐBM$ö¦3. 2). Ʒ"ĲČâArF >CKgsxJx ƛ32. ôÚ© ŀ!0"hpxÂ÷Ɩ 68%. DB`?WvƲ%ɐArF qPFp`:ƛ¥Ɔ “GT K. !,ɐ11 ŝǆ$hpxɋ NA $ǗúĭĘ6. qxN” 6Ȱƚ22004 ď"ƔǢ$;vL=E. Ǫ 1.4% ɂ¥Ƀ"ÿ !Ȱƚ% 300 mm. KovtTEŌē$ArF sxJ GT40A (4 kHz, 0.5 pm. <>\ 100 WPH (Wafer Per Hour) |$ƙƚĤ6. (E95), 45 W) 6DB`?WvƲ 0ǯÓºɐ$Ě. óƗ2"%¥Ɔ% 250 W |$¬² Ġǲ32. GT60A (6 kHz, 0.5 pm (E95), 60 W) 6 2005 ď"qq xMŜɐ 120 W ¬²$ GT64A "*Ȣºǒ 3). “GT KqxN” %ɐȰƚćå" 2 ɎÜ 2ɏ ìȰ"ƛ3ɐƤå Ȥ32 EUV 6üƨ"ɋ Ƹ¸óǘ (Availability > 99.6%) >vXnxJ 0ɋ Ǽ322015 ďŚƗßɐ~Ơ$ǲnxJ x 400 Ç|$Ǎƹ¬Ǥóǘ6ŗ2 DB`?WvƲ%qxgvKoTEŜ$Ŏś$¼ ùƚť$ȚƉ'ĥ7

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(9) 0ɐŭ $~$ 11 nm [xXȹ$śÑĬǫƗß~Ơƥ"ì

(10) !ƮƺȵƣȈ ĭ032¥Ɔź. 2 EUV qPFp`:. ȴɐ¥ðǆ$ NA Ƕ Đ$ȷ6Ǭ 1 "ƱƗß % NA = 0.3 $¥ðǆ 13.5 nm $źȴ6Ǐ+É52. 2.1 EUV qPFp`:ȵƣ$ǐǕ. 18nm ƷĐ$Ƕ ² Ĝ032NA = 0.55 |. źȴ 13.5 nm $ EUV ¥%Â÷¥ðǆɎÂ÷Ɩ 68%. $ŭ~ĭĘ¥ðǆ$ȵƣ-Ȣ,03ɐ¥ȰtM û. ƷĐɏ"/2ǗúĭĘ6ƛqPFp`: 1989 ď. ! ǖūƖ$Ƣ!2Anamorphic optics ĺţ3ȵ. 4). " NTT $ř}0 "/1ĺÕ3Ŏśƣ$Ĭǫ. ƣ Ȣ,032ŭ~%Ğǎº". 2NA = 0.3 ƷĐ$Â÷¥ðǆ6 20 nm }$. sLMWħĐ}! $KMUiǲŵ 0ɐ500 W . Ƕ ²6óƗ

(11) ɐƺŦ$¥qPFp`:-53. 5). | Ġǲ32 øŜ% 6.7 nm Ȕ$źȴ$. 2 (Ü 4) 13.5 nm ¥%Ŵ"/Ĕ. 1000 W ƷĐ$¥Ɔ NA = 0.6 $¥ðǆ$Ǐ+É5 3.

(12) 3 ɋ¬² EUV ¥Ɔ$ȵƣ$ǐǕHvObW. óƗ

(13) 3& 5 nm }$Ƕ -Æǟ3 2ɎǬ 1ɏ . Ü 5 "DB`?Wv$ EUV ¥Ɔ$ŧĢÜ6ƱƗ 2.2 ~Ơ$ɂ¥ǭǜȵƣĊå$ƗŸ. ß%$Ōē$¢3ƒĤ ǿ,03ɐ~Ơ$ɋ¬². Ɨß~Ơ$EUV qPFp`:$ŕ¤ƾȰƚƛɂ¥ǭ. EUV ¥Ɔ$Ž$Ōē!EUV ¥6·Ɩ/ ƣ. ǜȵƣ%@pvR$ ASML Ʋù$-"Ȣ72. ƙ2"%ɐɌȑ÷$¾Ƙ/1Ǉ 300,000 K $b. ¯ŘɎ2000 ďɅɏ"%ú`:xrX$ɂ¥ǭǜ ǽ. pNg6ƙĨ2Ġǲ 2$bpNg6ƙĨ. 3 ɐ2006 ď" ASML Ʋ ȵƣ`r`:xr. 2,"%ɐ3* 2 $Ōē9btxS !. X$ α-Demo-Tool Ɨß"Ǚ 2śšƥɂ¥ǭǜ. 3

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(15) * 2003 ď. Ã30" α-Demo-Tool ¤Ǫ. 0MQxWŉƵƪqxV:vFbtL=EW$. EXTREME Ʋ% 2013 ď 5 Ŗ"$Ə1ǶŇ!. ĆìðăƜņĵ$ƄòǑŞ. ¥ƆjxAx%ŉïȝ1Ɗ¸$ ”Death Valley” $. % 2006 ď 0śÑ"!2ĬǫƯXp;]xs. "2. xJ"CO2 sxJ6ƛLPP Ōē$¢3Ĥǟ6. 13). 14). 6

(16) "ɐǁǞ0. ǳ2VxQ6Ưǿɐ$Ōē6ȵƣ

(17) CO2 sxJKMUi"%ɇĤ ƯƼƚťƛ$ CW-CO2 sxJ6çčÚƛƔǢ$MOPA K MUi6ķƛ2!5ƣĳŰ$ɋǛ1ȕ 4.

(18) ^rM¥Ɏ100 kHzɐ15 nsɏ6ɐǰň$ CO2 çčÚ". 2$ǽɊǑŞ"/3&ɐěŜ 10 kW °Ⱥ. 15). /1çč2 QxGTW% Sn 6ǩƌ"´Ɛ. 3¬² ɐ 2 $20 kW *ŃØ

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(20) EUV ȿ¥hpx%ɐbpNgȔ. ƣ2Ɏ5 ƽɏ . "Ǻǜ3ɐEUV ¥6ɂ¥ǭǜ$Ǝŏ¥ðǆ"Â÷ ȿ¥2$bpNg 0ƣƙ2ɋȟ;@v"/ 2hpxǬɃ$êāǠ$M^TQqvFĽ ƣƙ 2 ɐƔǢ$ưå6ƛ;@v°ĝɐ$ȸůw ǔÒ6Ǫ2 4 ŕȔ$ɋ¬² EUV ¥Ɔȵƣ$ȢĀ 4.1 èĻ·Ɩ$Ì|. Ü 6 EUV èĻ·ƖɎEUV ¥ɒCO2 sxJxɏ. YAG sxJ CO2 sxJ6ŒȶĈ6ǜ Sn Xt TbsTW"Ǝ÷2Rar^rMŹ"/1ƙĨbp Ng$^pjxQ6ŕȩº4ɋèĻ·Ɩ Ɏ>3ɍɏ Ĝ0326şƜ0%óɊƥ"ǳ¬ 16). $ǑŞ%Ǳ¾0$Frxb$ƘȁǷǃ$ǑŞ. èĻ·Ɩǣ Ȁŏ

(21) . 17). 0" 2012 ď"%b. q^rMsxJ$^rMč$ŕȩº6ǪƟŘƥ!Ǉ 50ɍ$·ƖŃØ6óƗ!5ɐ3*^r MčǇ10 ns$bq^rM6Ǉ10 ps$^rM"èŔ CO2 sxJ^rM´Ɛ2èĻ·Ɩ. Ü 7 CO2 çčóɊǭǜɎ{ǥɀŬyĺɏ. 3.3% 0 4.7%"Ì|0"ŕȔ% 5.5%$è Ļ·Ɩ-óɊƥ"Ťǻ3ɎÜɓɏ 3%~Ơŕɋ. 4.3 ưåVaqhSGxKov. ǹȳƟŘƥ!VxQ2ǯÓscr$·Ɩ. Ȳƀƈ"bq^rMsxJ¥ Ǝ÷ƋȭBMsx. óƗ

(22) 3&ɐĎà¬² 21 kW ^rM CO2 sxJ. Jx¥ Ǝ÷3 EUV ƣ¥2$Ěưå"/1B. 250 W $EUV¬² ɐ 40 kW ^rMCO2 sxJEUV. ;X3Ȳ;@v ư²Ǔ"ŷĶ¬32ɎÜ. 18). 500 W ȦĨ

(23) 2"!2 4.2 ɋ¬² CO2 sxJ$ȵƣ. 21). 8ɏ Ɨßɐ±Ǆȗ) 10 ps $bq^rM" CO2 sx. 19,20). J6Ǐ+É52;@vºƖ 99ɍ|"ŃØ

(24). 250 W $ EUV ¬²6ȦĨ2," 2011 ďĐ. 2 ǷƄ$ǑŞǻŏ32ȿ¥hpxÏȓ. 2012 ďĐNEDO $łļ$£{ǥɀŬ (Š) $¨Ê. ȫ"%ưŴhpx$;@vÃȿȫ 0$ȜİŇ"/2. btL=EW6óōɐDB`?Wvǯ$^rM@K. Sn $VfLKov ǵƄ32ɎÜ 9ɏ ɐ>T. sxQ{ǥɀŬǯ$ 4 ŰçčÚ6Ǐ+É5 100. SvFBM$ŽȌ$°ĝEUV ƣƙǽɊ$ȿ¥hpx. kHzɐ15 ns $^rM 20 kW 6Ȋ2 CO2 sxJç. ǜ$Vaq Ţȧ"ŃØ32 Khms. čÚ$¬² óǻ3ɎÜ 7ɏ $ĨŞ6-"ɐ. xKovƯǿ3ɎÜ 10ɏ ɐ" 10 W scr$b. $çčÚ6óƛscr"| 2014 ďŐ/1ɋ. tW 1 ÈŬ% 3 Ŏȶ"Ƃ2 EUV ¥Ǝ÷ȫ($ EUV. ¬²$EUV bpNgƣƙóɊ DB`?WvƲí*. ¥$ț"-Ĩ³2 5.

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(27) /"ɐEUV ȵƣ%ųȶ$. 8.. ¶²ɐ/. ÖƛcxM$ÝȾƿ$Œ!. Àǝŉƕ. 1) ăĄŭɔ ¤ƾqPFp`:$Ĭǫ¸Ì ɐEqx. 2EUV qPFp`:$¼ùȰƚćå($ś. vUE[tLxɐNo.3, Vol.19 (2009) 1-6.. šù¦% ”If” 0 ”When” Ȅȁ32Œ!. 2) O. Wakabayashi, T. Ariga, T. Kumazaki et.al,:. Ě% EUV ¥Ɔ-ɐ ƭŒȶ$ȐĐĤǟ! Dutyɐ Availability pvYvFHMWȄȁ32Œ. Optical Microlithography XVII, SPIE Vol.5377 (2004). "!

(28) zŌøŜ$0!2ƭźȴ¥Ɔ($. [5377-187]. Āȵ ~Ơ$¾î¥ð$ƮƺǞť$Hpesx. 3) Hirotaka Miyamoto, Takahito Kumazaki, Hiroaki. KovǪ532 űď 11 Ŗ Dublin ȵ32. Tsushima, Akihiko Kurosu, Takeshi Ohta, Takashi. EUV ¥ƆuxEKoTb%ɐƭźȴɆâ$êāǠ. Matsunaga,. $ĸǋ Ǫ536.7 nm ɆâɋÂ÷Ɩ$êāǠ$Æ. next-generation. ǟĤ ŮĆ$ɂ¥ǭǜjxA 0ĺţ3. 23). Hakaru. multiple-patterning. 0. ArF. 24). excimer. immersion. helium free operation”. " GdɐTb ! CO2 sxJ"/2 EUV ƣ¥óɊ. Mizoguchi:. “The. laser. for. lithography. with. Optical Microlithography. 0"ɋ Ǉ 2ɍ$ɋ·Ɩƣ¥ óɊƥ"Ưǿ3 ɐ. XXIX, Proceedings of SPIE Vol.9780 (2016). ·Ɩ$ÆǟĤ-Ʊ32*ɐŕȔ$ŋ¸. [9780-1L] 4) H. Kinoshita et al., J.Vac.Sci.Technol.B7, 1648.

(29) %ǢƝɀîsxJ6 kW Ǌ$ EUV ¥Ɔ. (1989).. "/2qPFp`:$ĺţ Ůǅ6ğ"ŤǸ í* 25). 5ɏWinfried Kaiser; “EUV Optics: Achievements and. 2 $ȯ$ȢĀ Řę32. Future Perspectives”, 2015 EUVL Symposium (2015. Oct.5-7, Maastricht , Nietherland) 6) J. Zimmerman, H. Meiling, H. Meijer, et.al:“ASML 7.

(30) EUV Alpha Demo Tool Development and Status”. HVM” Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography IV,. SEMATECH Litho Forum (May 23, 2006). Proc. SPIE 8679 (2013) [8679-9] 19)Y. Tanino, J. Nishimae et.al.: “A Driver CO2 Laser. 7) J. Stoeldraijer, D. Ockwell, C. Wagner: “EUVL into production – Update on ASML’ s NXE platform”. using transverse-flow CO2 laser amplifiers”,. 2009 EUVL Symposium, Prague (2009). Symposium on EUV lithography (2013.10.6 -. 8) R. Peeters, S. Lok, et.al.: “ASML’s NXE platform. 10.10, Toyama, Japan). performance and volume Introduction” Extreme. 9). 20)K. M. Nowak, Y. Kawasuji, T. Ohta1 et al.: “EUV. Ultraviolet (EUV) Lithography IV, Proc. SPIE 8679. driver. (2013) [8679-50]. nano-second pulse high-stability master oscillator for. laser. CO2. system. using. multi-line. Jack J.H. Chen, TSMC: “Progress on enabling. Gigaphoton’s EUV LPP system”, Symposium on. EUV lithography for high volume manufacturing”. EUV lithography (2013.10.6 - 10.10, Toyama,. 2015 EUVL Symposium (5-7 October 2015,. Japan). Maastricht, Netherlands). 21) H. Mizoguchi, et. al,: “High CE Technology EUV. 10) Mark Phillips, Intel Corporation “EUVL readiness. Source for HVM” Extreme Ultraviolet (EUV). for 7nm” 2015 EUVL Symposium (5-7 October. Lithography IV, Proc. SPIE8679 (2013) [8679-9]. 2015, Maastricht, Netherlands). 22ɏHakaru Mizoguchi, Hiroaki Nakarai, Tamotsu Abe,. 11ɏU. Stamm et. al. ; “High Power EUV sources for lithography”,. Presentation. of. EUVL. Krzysztof M. Nowak, Yasufumi Kawasuji, Hiroshi. Source. Tanaka, Yukio Watanabe, Tsukasa Hori, Takeshi. Workshop October 29, 2001 (Matsue, 2001). Kodama, Yutaka Shiraishi, Tatsuya Yanagida,. 12ɏC. Gwyn: “EUV LLC Program Status and Plans”,. Tsuyoshi Yamada, Taku Yamazaki, Shinji Okazaki,. st. Presentation of the 1 EUVL Workshop in Tokyo. Takashi Saitou: ” Performance of new high-power. (2001). HVM LPP-EUV source” Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VII, Proc. SPIE9776 (2016). 13ɏȨǨėɔ ŦƾǌéqPFp`:x¥Ɔ$ǭǜºĬ. 23) V. Banine et_al. “Opportunity to extend EUV. ǫȵƣsxJxƮƺ 32 ĉ 12 ÈɎ2004ɏ757ɑ. lithography to a shorter wavelength”, Symposium on. 762. EUV lithography, Brussels, Belgium (2012). 14) H. Tanakaɐ ǦǞ5Ë, et. al.: Appl. Phys. Lett. Vol.87. 24) K. Koshelev: “Experimental study of laser produced. (2005) 041503 15) A. Endo, et al.: Proc. SPIE 6703 (2007) , 670309. gadorinium plasma emitting at 6.7 nm”, International. 16 ɏ T.Yanagida,. workshop on EUV sources (Nov. 13-15, 2010,. et. al : “Characterization. and. Doublin. Ireland). optimization of tin particle mitigation and EUV. 25). conversion efficiency in a laser produced plasma. Erik. Hosler;. EUV light source” Proc. SPIE 7969, Extreme. Ultraviolet. Ultraviolet Lithography II, (2011). High-Volume. “Free-electron. Lithography:. Laser. Extreme. Considerations. Manufacturing”,. 2014. for EUVL. Symposium (2014. Oct. 27-29, Washington D.C. ,. 17) K. Nishihara et. al.:Phys. Plasmas 15 (2008). USA). 056708 18) H. Mizoguchi, “High CE technology EUV source for. . 8.

(31) 図 10 イオン捕集器からの逆拡散の改善. 図 11 EUV 光源の最新データ (108 W, 23 h, D/S < 0.2%). 9.

(32) 図 12 250WEUV 光源装置 GL200E-Pilot. 図 13 パイロット装置の建設風景. 10.

(33) 表 1 液浸露光技術の波長，屈折率と解像力. 表2. EUV 光源開発マイルストーン (ギガフォトン社). 11.

(34) . 9UŅī$Ƣ¡¨$Ĵİ" ĵł ƑÒÞÕłŋƝÇ 9UŅńÕłŋQtg ƢěĒģ. ĸ³Æe;CpKjtnŕ$ APT ë143. 1 9UŅī -18. Ņī%$¶$ƅ2ƥ`<gU. uĈƥIAP %¤ż"ĄH;CnotItƣĥƒ 800. (fs) : 10 Ņ6wÀ3ĊƔáƣ\nLáƤ6úot. nm $Ê´% 5 fs wƤ ïū43-ƥ$Ƣ. Itī6ûƥ`<gUŅotIt Ò" . ¡¨%*7 Ɖ7! Â.1 " IAP ī$=. 3ē$¦ļP;WfCLłŋŏ"Ï

(35) !ŹĲ6đ. XnBtoGtV6Ń2001 ã" IAP ĻĶ$T. $µę"ƥ9UŅotIt%ŋĖ$ƢƆƋ¦. irLUotJkr Ũ54éƥ$¡%$. 3ƚÒP;WfCL"ØĊƔ 19CNL

(36) 3ī. 10 ãƔWYKjtnClL$++2ƥ$ ¡. ĦĽ6Ƙ-3 [1]ĴÅƥ9UŅ\nL6Ļ. ñ 9UŅ\nL$ðķsƉÜ6Ï

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(42) Â 2Ʀ50 mJ ŕ 2 ĥƒJrNH;It. Ďŉ%ƥ41 IAP $Ƣ¡¨Ƣ¡JrNH. ļì"Û3¹ĥĄ$ƕ 1 CEP 6ìƥÃ×. ;It$łŋ"ŗ3. 3%Áƙõ$łŋÙ%ƥ$¾ Ɵ6ůĢ) ƥ1 kHz $ş2Ƃ6úËáĞƥ. 3 50 mJ ŕƧĥƒJrNH;It$ƓĻ. 10 Hz $ş2Ƃ6úËáĞ6Z;amRV"ķ. Â 2 " IAP ī$¤żķ"ƓĻƢ¡s2 ĥƒ. 3ƥCEP ì"Û3¦ļ`:tV[RC$. JrNH;It$ėĹÂ6ŃotItJLSg. ¹ĥĄ¾Ɵ6ůĢƥφCE ~ 670 mrad rms $ CEP Ö. %ƥĂƄĥ§śŝĿ (Carrier-Envelope Phase, CEP). ×ä (Â.3 (a)) 6 10 Hz $ş2ƂØĴ3. ì4ƥş2Ƃ 10 Hz, ¡ 100 mJ ŕ$QO. "ô¢3 [7]+ 2 ĥƒJrNH;It$ƚ. rH`8;9otItƣ800 nmƤƥ$uƏ6¤ż. Êbp`8;n%wy143 1ƥETC = E0. OPAƣOptical parametric amplification: OPAƤ. exp[ 2ln2( t/τ0) ] cos(ω0t +φCE) + E1 exp[ 2ln2((t −. 1ĶôJDWnƣ1350 nmƤ$ƥĥƒ$ĺ!3. δt1) / τ1)2] cos(ω0t /K +φCE + φ0), CEP (φCE) ! ƥ. }`<gUŅotIt 1Ęô43êĐƥĠſ. 2 ĥƒ\nLƔ$ĊƔKROt (δt1)ƥ®'ĿKRO. ļ ş2Ƃ (< 100 Hz) $otItJLSg%ƥ¦. t (φ0)$ƢŒä"ì3ïū 3ĊƔKROt. 2. $ų"%9UŅ$ĊƔůŢ6. BOC (Balanced Optical Cross-correlation) Ĥ [8] 6ķ3+Ď łŋķotItJLSg$ş2Ƃ¹ĥĄ% 10 Hz 3-ƥ$²6Ŀì$-$¦ļ! `:tV[RC"ķ3 Áƙ3-ƥƈŜ 1.0. 1.0. 0.5. TC int. (a. u.). 0.8 800 nm. 0.0. 1350 nm. 0.6. -5. -10. 0 5 Time (fs). 0.4 0.2 0.0 -40. Â 3. (a) 10 Hz otIt$JrDnJkRU CEP ƥ(b) 2 ĥƒ\nLƔ$ƊåKROt. 13. -20. 0. Time (fs). 20. Â 4. 2 ĥƒJrNH;It$çäbp`8;n. 40. 10.

(43) 3 He-Ne otIt"03ŌƔâĨ6ķ 2 ĥ. 3ƛĬŝ% 800 nm $,6Ƙë14. ƒŽƒ$ƢŒäsƢƆ`:tV[RCì6Ũ. Ƣŵĥ2ƥxƈŜ!LdCUnĘƇ6ú4. 3ƦÂ 3 (b) "Ń0"ƥ¦ļì % 1.35 fs rms. "Û}ŧ\nL% ĝô" xƈŜĘƇ6. ĊƔKROt6 360 as +ø3"ô. ú.$$ (Żŝ)ƥ@RU?`Ɓ%ƈŜļ!Ld. ¢ ČŘļ"ë14\nL=XnBt%ƥ800 nm. CUn ë143Sc/Si ÎÝţflt2. " 44 mJ (28 fs), 1350 nm " 6 mJ (33.

(44) 3@RU?`Ɓ (30 eV) $¡=XnB. fs) 2Ʀ´Ű 50 mJ $¡=XnBt6ú 2 ĥƒ. t% 1.3 µJ/pulse ƣÌā¥ĳ: 1.1 x 10 Ƥ Ļ. JrNH;It$ƓĻ"ô¢Â.4 "\nL=X. ĶƢŵĥ^tg%ŦÐ!ŌƔà 0.5 fmlK. nBtƥƘçä (f = 4 m Ƙ)ƥĿòÉ6£º. 9r ĻăŮ6úƥƢ½ź!^tgįñ.. ŰŐ 2 ĥƒJrNH;It$çäbp`8;. #3ƣýÂƤ +blUtƝÇ (13 – 25. n6Ń{î_tC (t = 0 fs) H;V_tC (t =. eV) " 3´Ű$¡=XnBt%Ŕ 10 µJ/pulse. 6.7 fs) $çäĠ% 0.82 "ƍ3$Ġĳ%uŧ$. . -4. 800 nm " 3\nLá 5 fs µę$3. ĝ"ƥë14ƢĝƢŵĥ$ĊƔĘƇ6ƥōŖÒ. Śđƥ\nLá 28 fs $enQH;Cn6ķ. $}Ò¸¯ƌŇ6ķŤßĿƕŰĩ"02ų. 3".ƕ51_tCƁ 5 fs \nL(cos-wave). Øơ%ƥSi ^tgN\otOtobm@\. µę$ƚÊà6ØĴ3

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(46) ƜŝèĴŸ6¤ż

(47) 3zĸČŁ$ IAP ī3. ³"ħ óŷ+. "ƥStanURbH;M! 1£Ɔ¿ctL$ EUV-FEL ī6Ơ3ŀƔ\qt6č3Ď. šĆĲ. ŉŗīłŋ"02¸¯ŝè!. [1] F. Krausz and M. Ivanov, Rev. Mod. Phys. 81, 163. ĮĵĴŸ" ðķ

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(53) X. J. Seres, E. Seres. 1 JETI 2. X. 5 10. XPA. W/cm. 1 mbar. 15. : 45 TW, <30 fs. XPA. ~. 100. 2. ~. bar X. f=3m XPA. 1. 11 nm. 2 X. (X-ray. Parametric Amplification: XPA). X. (Zr, Ti). CCD. X. [1]. 2. 3 1. 1. 2 2. XPA. Ne 250 mbar He. 11 nm. 2. [2]. 4.2 mm. 2. XPA. XPA 2. X. XUV: ~11nm. 2. He 2 1 XPA 16. 11 nm.

(54) q:. ,. 1:. , zj:. 2. , zR :. z. 0:. 11 nm d. d=0. d. =0. XPA. 3 mm. g0. 4. g0 d ~ 4.2 mm. (. g0 = ga exp. 2 1. 0 2. V. ga. )2. (1+ V cos. ) (2). visibility. XUV. =. q 1. tan. 1. zj + d zR. zR (z j + d) + 2z j (z j + d)2 + zR2. 11 nm. 2. 0. (1). 0.2 fs (FWHM) 1 [2] 3. XPA XPA 1. mJ 2. 100 mJ. XPA 3.. XPA 5. 4.. 2. 5.. g0 17. XPA.

(55) : f = 1.5 m. :f= XPA. 2.0 m. 2 4 XPA. 2. X. 3m CCD. 1 50 cm. X. 6 8. 2.3 bar 2. X. 5 bar. Ti:Sa. XPA. Ag. 7 13.9 nm 43-57. 0.4 mrad 400 fs,. 83. 10 mJ. X. 6. 2 mmrad. 8. 6.. J. Seres et al., Nature Phys. 6, 455-461 (2010).. 2). J. Seres, E. Seres, B. Landgraf, B. Ecker, B.. Kuehl and C. Spielmann, Sci. Rep.4, 04254. 1.0. 0.8. 80 0.6 60 0.4 40 0.2. 20. 40 44 48 52 56 60 64 68 72 76 80 84. (2014).. Zr 0.2 micron transmission. He 5bar Ne 2.3bar Filter. 100. Intensity [arb. u]. 1). Aurand, A. Hoffmann, G. Winkler. S. Namba, T.. 120. 0. X. 0.0. Harmonic order. 7 18.

(56) mqLqJocWoă{ X Ţĩ&ƞĹ" @hqNoHðĴ%Ơ8ıĮ ĉŌĵÊÏƪŕŃŏõ Ás »z . "ƫ 5. X Ţ&<mqLq%5 ì! 8"ƫ. '1% mqLqJocWoă{"'ƪBZlFq&ƦÌŢ. $#

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(97) ïŶ!9(ƫ9%ĭ£MOVg" 8"!Ąŉ!&Èč%2Ôð! 82&"ť 8¾ 5 & X Ţ@hqN<ŷ8"ƫ10 keV X Ţ!'., &ŬŨ%·¬9 7ƫÉÙ Zn !'Ƌƒ 8"

(98) ; 8X ŢBZlFq< 8.7 keV /!t 8"ƫZn %š ƫCu /!Ċ6 %Ƌƒ 7ƫX Ţ&BZlFq

(99) ƟƓ$È£! 8"

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(101) 8Ďê% 7.5 keV & X Ţ!' Co /!Ƌƒƫ Zn 3 Cu &Ƌƒİ

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(104) ; 8 X Ţ&BZlFqīĄ<6%Ç3 cnUW 8"ƫŜ99& K ġ·¬œ<ı8Ƌƒİc nUW<ë8"

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(109) ïŶ!8""2%ƫƪƦĦ£

(110) ïŶ!85. [2] M. Bech et al., J. Synchrotron Rad. 16(2009)43-47.. 7ä

(111) ƪƞĹ" ƫmqLq

(112) û698. [3] A. Variola et al., THOMX Project Technical Design. ƦÌ_qg&ƪƦĦ£'ƍ¼ 6&\UGHjAo. Report (CDR) LAL/RT 14-21, SOLEIL/SOU-RA-3629. X2Ç3 /

(113) ƫmqLq&Çå' LCS X Ţ. (2014).. &Çå&0%Ľş8

(114) ƫ57Êåä&m. [4] W. S. Graves et al., Phys. Rev. ST-AB. qLqūŎ&Òıª)űőī% 8Š7ƈ0

(115) ïŶ. 17(2014)120701.. "$8ıď&MOVg<Ĵ 2 10 Ŋä&Çå&. [5] K. Sakaue et al., A637(2011)S107-S111.. ļ

(116) Œ 7ƫĴ®ŧ$ LCS X Ţĩ&ěř%. K.. Sakaue. et. al.,. Rev.. Nucl.. Sci.. Insturum.. Instrum.. Meth.. [6] RIGAKU HyPix-3000, 2D Hybrid Pixel Array. µƫÄĻöŰ<ńÒ%ƐÛ }Ñ!8. Detector.. /ƫ@hqNoHöŰ%Ơ ƫ!% X Ţľ@. http://www.rigaku.co.jp/products/xrd/HyPix-3000/index.h. hqNoH [7] &ŽƩ<ƞË 7ƫ9%5. tml (Jpn).. 2 LCS X Ţ&ďĴò<Ċ6 % . http://www.rigaku.com/en/products/xrd/hypix (Eng). [7] A. Momose, et al., Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) L866-L868.. 22.

(117) 第 13 回Ｘ線結像光学シンポジウム報告現地実行委員長田原譲（名古屋大学理学部） . Ｘ線結像光学研究会の主要イベントであるＸ線結像. ASTRO-H 搭載のＸ線望遠鏡・Ｘ線検出器を中心に天文. 光学シンポジウムが 2015 年 11 月 17-18 日に名古. 分野の話が 7 件，要素技術が 3 件続きました。（この報. 屋大学野依記念学術交流館において開催されました。. 告が掲載される直前の状況として，ASTRO-H は 2 月. Ｘ線結像光学の研究の発展を図るため，最近の成果発. 17 日に打上げられ，無事軌道に乗ったことを付け加え. 表と研究者間の交流を進めるのが目的で，今回は 13 回. ておきます。この注釈記入時は衛星搭載機器の初期立. 目にあたります。主催はＸ線結像光学研究会，共催が. 上げ時期にあたり，本格的な観測にはしばらく時間が. 名大シンクロトロン研究センター，分子研UVSORで，. かかりますが，宇宙における精密分光撮像観測の開始. 日本物理学会，応用物理学会，日本天文学会，日本放. として今後が期待されます）この後，交流館 1 階に移. 射光学会には協賛をお願いしました。2013 年大阪で行. 動し，ポスター発表と企業展示見学の時間として，多. われた前回のシンポジウムにおいて田原が実行委員長. くの活発な議論と情報交換が行われました。展示に参. を仰せつかり，名古屋地区の開催ということで，松本・. 加された企業は，イネイブル，樫山工業，アイリン真. 三石（名大理），難波（中部大工），高嶋（名大工），大. 空，ASICON，トヤマ，ルクスレイ，浜松ホトニクス，. 東（分子研 UVSOR）が実行委員としてシンポジウムの. イマジスタの方々です。. 準備を行いました。. 1 日目最後のイベントとして，18 時より講演会場近. プログラムは従来を踏襲し，招待講演の口頭発表，. くの学内レストラン・ユニバーサルクラブにて懇親会. ポスター発表と企業展示の三本立てとし，また前回は. が開かれました。食事とお酒を頂きながら，お互いの. 国際会議形式・原則英語・3 日間でしたが，今回は日本. 交流を深め合うことができました。またこの懇親会で. 語中心の国内会議形式で会期も 2 日間と従来の形式に. は，山下廣順先生ゆかりの写真をプロジェクタでスク. 戻しました。口頭講演は幹事の方々による推薦を基本. リーンに投影し，皆で故人を偲びました。. に講演者を決め 21 件 (講演時間 20-30 分) とし，ポス. 2 日目は 9 時より要素技術の続き 1 件，Ｘ線顕微鏡関. ター発表は 33 件，企業展示については 8 企業の方に参. 連が 4 件，放射光関連が 5 件と続きました。この間，. 加していただきました。最終的な参加者数は 94 名とな. 午前・午後各 1 回の休憩時間にもポスター発表と企業. り前回の規模には及びませんでしたが，従来形式の開. 展示見学の時間として，参加者間の活発な交流があり. 催としては盛会となりました。. ました。. 1 日目は午後 1 時より，まず柳原・Ｘ線結像光学研究. シンポジウム最後は，研究会特別顧問の青木先生に，. 会・代表の挨拶から始まり，続いて開催地を代表して. 日本におけるＸ線結像光学の歩みと題して，山下先生. 國枝・名大副総長が挨拶，この中で開催の約半年前に. のご業績を含め，お話いただきました。. 亡くなられたＸ線結像光学研究会特別顧問・山下廣順. シンポジウムの内容の詳細は以下のシンポジウム・. 先生を追悼し，黙祷を捧げさせていただきました。続. ホームページをご参照ください。. いて口頭講演が始まり，打ち上げ間近に迫った. http://fennel.u.phys.nagoya-u.ac.jp/xio13th/ 23.

(118) 本シンポジウムでは，口頭講演・ポスター講演の各講演内容を 2 ページにまとめたフルカラー116 ページのアブストラクト集を作り配布しました。（残部が少しありますのでご希望の方がいらっしゃいましたら，筆者またはニューズレター編集部までご連絡ください）本稿の最後に，講演会開催準備・運営（参加者の事前登録やアブストラクト集作成，会場設営など）にご協力いただいたすべての関係者の皆様にお礼申し上げます。. 懇親会会場（学内ユニバーサルクラブ），山下先生を偲ぶ写真紹介の様子 . 野依記念学術交流センター2F 講演会場の様子. 24.

(119) . 集合写真（野依記念学術交流センター2F 講演会場） . . . . 25.

(120) 研究会『軟 X 線イメージングの描く未来』を終えて大東琢治（分子科学研究所） . 2015 年 9 月 7 日， 8 日に分子研研究会（学協会連携）・. ム構成は結果的に世話人一同の思惑を超えたものとな. 日本放射光学会若手研究会共催で，『軟 X 線イメージン. り，研究会の在り方を改めて考えさせてくれるものと. グの描く未来』なる主題の研究会を，岡崎市の分子科. なった。. 学研究所にて開催した。本稿はその開催報告である。. 本研究会のポイントとなったのは，講演者各々がカ. なおこれに先行して，『放射光』の 2016 年の 29 号に会. テゴリーの意図を丁寧に汲んだ話題を提示してくれた. 議報告が掲載されているので，興味ある方は本稿と併. ことと，また出席者の誰にとってもアウェイなテーマ. せてご一読頂きたい。. ばかりだったことだと考えている。それ故に，行き過. この研究会は，題目に掲げているように，敢えて軟 X. ぎた専門性に縛られること無く，寧ろ自由な議論が積. 線を中心に据えたイメージングの研究会である。近年，. 極的に飛び交う，奇妙に緊張感の高い場となっている. 国内のイメージングのメインストリームは硬Ｘ線領域. 印象であった。そしてその様な場が成立するのも，本. にある一方で，PF や UVSOR で近年稼働を開始した走. 研究会の主旨が詰まるところ，イメージングそのもの. 査型軟 X 線顕微鏡の利用が盛況であり，EUV リソグラ. だからではないだろうか。仮令手法やプローブが何で. フィ界隈が急峻な盛り上がりを見せている。このよう. あれ，出席者に通底するのはイメージそのものであり，. に，経緯こそ異なれど，軟 X 線イメージング技術が着. これは出席者間で容易に共有し，議論し得る媒体であ. 実な展開を見せている現状から，軟 X 線領域の研究者. る。この意味において，この偏狭な研究会を，自家中. を一堂に会して，密度の高い研究会を開く機運と考え. 毒に陥らせる事無く流動させていたのは，特に ”異なる. た。そこで本研究会では，軟Ｘ線～真空紫外領域にお. アプローチのイメージング”のカテゴリーの講演であっ. いて，開発と利用を縦断し，且つ他手法から軟 X 線イ. たと考えている。全くの異分野からにもかかわらず，. メージングの立ち位置を再認識する議論を行いたいと. 快く講演を受諾して戴いた，大河内拓雄氏（PEEM/. 考えた。そこで筆者が中心となり，かつて東北大は旧. JASRI），篠原武尚氏（中性子イメージング/ JAEA），. 山本・柳原研で同じ釜の芋煮を食べた仲である原田哲. 小澤祐市氏（超解像イメージング/ 東北大）には心よ. 男（兵庫県立大），豊田光紀（東北大）の 3 人が世話. り感謝申し上げたい。. 人となり，企画，立案を行なったのが本研究会である。. ややもすると各人やりたい放題で発散して行きかね. 本研究会では講演群のカテゴリーとして，”軟Ｘ線イ. ない研究会であったが，要所要所で場の空気を締めて. メージング技術開発”，”軟Ｘ線イメージングへの期待”，”. 戴いたのが，招待講演をお願いさせて戴いた青木貞雄. ユーザー利用研究”， ”異なるアプローチのイメージング”，. 先生（筑波大学）と荒木暢先生（Diamond Light Source）. そして”招待講演”の 5 項目を掲げた。本研究会の主題は. の講演であった。時間的，そして世界的観点から軟 X. 一見偏狭ではあるが，その実，プログラムは良く言え. 線イメージングを俯瞰する，含蓄あるご講演を賜り，. ばバラエティに富んでいると言えるし，悪く言えば混. 感謝申し上げる次第である。. 沌としている。手前味噌で恐縮ながら，このプログラ. 当初，軟 X 線イメージングに主題を絞った研究会を 26.

(121) 開催したところで，どれだけの関心を集められるもの. う。しかし筆者自身は開催より約半年を経て振り返っ. か，正直なところ半信半疑であった。結果的には 65 人. てみて，率直なところ，この偏狭な研究会をコミュニ. もの出席者があった。そのうち 16 人が民間企業からの. ティとして単純に継続することが良いのか否か，結論. 出席者であった。これは図らずして，軟 X 線イメージ. を出しあぐねている。開発側は兎も角として，利用す. ングが分析手法の実戦力として注目されていることを. る側は対象や目的に応じて，軟 X 線に固執せずにイメ. 示唆するものと考えている。そして出席者に提出願っ. ージングの手段を選ぶべきと考えているためである。. たアンケートにおいて、本研究会が『刺激的だった』. コミュニティとして存続するならば，改めてその意義. という感想を多く引き出したことは，特筆しておきた. を検めるべきかと思う。. い。世話人一同としては，感無量である。. とは言え，そう遠くない将来，また刺激的や挑発的. また重ねて幸いなことに，『また研究会を開催してほ. などと言われる様な研究会が再び開催できたらと，舌. しい』という意見も少なからずあった。本研究会をコ. の根も乾かぬうちにつらつらと考え始めていたりする。. ミュニティなどとして存続させて行くことで，今後，. 是非とも軟 X 線イメージング分野を盛り上げて行きた. 恐らくはより多くの視線を集めて行くであろうとは思. いと思う次第である。. 27.

(122) 編集部より第 41 号のときに編集部に加えて頂き，初めて編集に携わりました。今回は，私の個人的趣味で，光源関係を特集したいと提案し，編集局の皆様のご了解を得ました。その後，原稿集めと編集作業はなかなか進まず，2 月近くも遅れての発行になりましたことを関係する皆様に深くお詫びします。今回の光源では，EUV リソグラフィー露光用レーザー生成プラズマ光源，高次高調波，軟 X 線レーザー，レーザーコンプトンなどでご活躍の皆さんに原稿を頂いたことで，いろんな光源の現状や将来がお分かりになられることと思います。どうぞ忌憚のないご意見を賜りますと幸いです。（文責・東口武史）【メーリングリスト（登録メールアドレスの変更などについて）】本ニューズレターは原則，メーリングリスト（[email protected]）によるメール配信となっております。メールアドレス変更などの際には，お手数ですが，編集部（[email protected]）までご連絡ください。メーリングリストは，研究会のお知らせなど，会員全員に情報を配信したいときなどにも便利なので，積極的にご活用ください。. Ｘ線結像光学ニューズレター No.43（2016 年 7 月）. 発行編集部. Ｘ線結像光学研究会（代表兵庫県立大. 篭島靖）. 山内和人（大阪大）、齋藤彰（大阪大）、矢代航（東北大）、. 松本浩典（名古屋大）、東口武史（宇都宮大） E-mail: [email protected]. . 『平成 28 年度Ｘ線結像光学研究会運営組織』・代表者：篭島靖（兵庫県立大）・事務局担当者：高山裕貴（兵庫県立大）・編集局責任者：山内和人（大阪大）・編集局委員：齋藤彰（大阪大），矢代航（東北大），松本浩典（名古屋大）東口武史（宇都宮大），篭島靖（兵庫県立大），豊田光紀（東北大）・幹事：伊藤敦（東海大），太田俊明（立命館大），大東琢治（分子研）篭島靖（兵庫県立大），加道雅孝（原研），木下博雄（兵庫県立大）國枝秀世（名古屋大），鈴木芳生（東京大），竹内晃久（JASRI）田原譲（名古屋大），常深博（大阪大），難波義治（中部大）西野吉則（北海道大），西村博明（大阪大），羽多野忠（東北大）兵藤一行（KEK），牧村哲也（筑波大），百生敦（東北大）森田繁（核融合研），矢橋牧名（理研），山内和人（大阪大）渡辺紀生（筑波大）・特別顧問：波岡武（東北大名誉教授）青木貞雄（筑波大名誉教授）柳原美廣（東北大名誉教授） . 28.

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