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https://dspace.jaist.ac.jp/ Title 日本の産学連携強化への提言 : 半導体微細加工技術を 事例に(<ホットイシュー>科学主導イノベーションと技 術主導イノベーション(3)) Author(s) 立野, 公男; 亘理, 誠夫; 小松, 裕司; 小笠原, 敦; 桑原, 輝隆 Citation 年次学術大会講演要旨集, 19: 377-380 Issue Date 2004-10-15Type Conference Paper Text version publisher
URL http://hdl.handle.net/10119/7092
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2F07
日本の産学連携強化への 提言
一半導体微細加工技術を 事 タ :/, 一 0 立野公男，直兜誠夫，小松裕司，小笠原 敦 ，桑原 輝隆 ( 文科 省 ・科学技術政策研 ) 今年に入りモバイル 機器やディジタル 情報家電の盛況に 引かれて日本の 電気メーカの 半導体 微細加工装置への 設備投資意欲が 顕在化している。 この装置は半導体デバイスの 最先端製品の 技 術ネ、 ック を掌握するため、 日本が今後も 半導体産業や 技術のイニシャティブの 一端を担い続ける 戦略上極めて 重要であ る。 この製品を支える 技術は、 世界中でも特に 日本の光学メーカ と 電機 メ 一カ が 互いに産々連携しながらハイテクの 粋を集め、 研鎗に研 鎗を重ねてきた 光学技術や精密 機 械 制御技術の極限をさらに 追求している 技術であ り、 ビジネ 、 ス 面でもこれまで 日本の企業が 世界 市場のトップシェアを 確保してきた。 しかし、 最近、 トップの座を 脅かされ、 また技術面でも 液浸
という新たな 技術ブレークスル 一のきっかけがアメリカの 大学 M 圧から始まった 経緯もあ @ 今後の動向に 楽観は許されない。 本報告では、 今後も日本の 企業がそのお 家芸であ る微細加工 装 置 開発での国際競争力を 発揮し続け世界市場で 首位の座を維持するにはどのような 手だてが 施 策として補強されるべきかを、
企業と日本の大学の応用研究部門との
産学連携の進め方の観点か
ら 検討する。 す ねね ち、 最初に半導体デバイス・ロードマップ 、 対応する りソ グラフ イ ・ソリューション 、 そして次々世代ⅡUV/F2
リソ グラフィについてレビューする。 そして、 現状における 世界 面 場 シェアと日本企業の 国際競争力を 調べ、 超解像 技術におけるこれまでの 日本企業の技術優位性 を産 々連携のかたちで 捉える。 さらに、 液浸 ブレークスルーと M Ⅰの技術センスを 事例に米国 の 大学 ( カリフォルニア 大 、 M 汀 ) の活躍ぶり ( 図表1)
を紹介する。 そして日本の 産学連携の 問題点、 と今後の進め 方を日本の大学のTL0
と M 圧の上 p の現状を比較しながら 分析し、 最後に 従来よりもも う 一歩踏み込んだところで、 以下の二つの 提言を行 う 。 その第一は、 革新的な技術そのものを 生み出す研究開発の 進め方に関する 提言であ る。 すな む ち 、 企業の開発現場はマーケットニーズと 科学的知識のシーズの 接点であ り、 そこに噴出する 技術課題 が 発明や発見のチャンスを 与えていることにまず 気づくべきあ る。 そして、 日本の大学の 研究者は、 自らの研究テーマの 意義を 、 例えば図表 2 に示した D. Stokes によるパスツールの 4 象限でよく 見 直し、 応用研究に携わる 研究者はその 現場へ従来以上に 深く足を踏み 入れて先端の 技術課題を企業 と 共有して行くことが 必要であ る。 そこでは必ず 知財の管理と 保護の問題が 立ちはだかるが、 現在、 大学や公的研究機関で 既に設置されている 丁 」 0 が、 従来のように、 大学サイドの 権 利を守ると ぃ ぅ視点だけでなく、 企業サイドの
権利を守る手立てをも
考慮した相互に対等な法的契約関係を 構築
の 権 利維持には費用がかかるため、 既 出願特許のスクリーニンバの 工程を企業の 特許業務経験者 と協力してさらに 厳密にして行かねばならない。 以上のような 特許技術を含む 対等な法的契約関係をべ ー スとする企業と 大学のギブアンドテ ークのルールの 合意の元に、 双方の先端技術開発や 製品開発の経験者が 集まってテーマ 毎にプロ ジェクト体制を 敷き、 実用化と特許取得目標の 達成に向けた 工程を果敢に 実行して行くことが、 開発研究において 国際的に通用する 本格的な産学連携の 姿であ る。 図表 1. 米国登録特許ランキンバ ( 米 lN Ⅲ A 社調べ /3 位以下の米国企業は 除く ) 丹頂ィ土 Ⅰ 0 Ⅰ 4 Ⅰ 5 Ⅰ 8 35 35 37 38 39 44 59 68 72 78 組織 名 登録 数 Ⅰ M GE キヤノン 日 Ⅰ ニム - 東芝 NEC 三菱 松下 ソ一 一 - 富士写真フイルム 富士通 コニカミノルタ 、 ンャ 一プ 日産 ホンダ リコー ト ョ タ オリンバス ニコン 住友化学 (5.200) カリフォルニア 大 32639 27762 22540 21362 19262 Ⅰ 6438 Ⅰ 5602 14359 13554 12526 ⅠⅠ 368 8490 7096 6690 6609 6530 6 Ⅰ 9 Ⅰ 4882 4317 3792 3 ㍉ 9 Ⅲ 頃 ィ立 組織 名 登録 数 デンソー ペンタク ス 住友電工 パイオニア セイコー ェ ブソン アイシン精機 ブラザー工業 三洋電機 (]6.000) 富モゼロックス 矢崎総業 ⅡⅡ 村田製作所 マツダ アルブス電気 日本ビクター 沖電気工業 武田薬品。 工業 ブリジストン 信越化学工業 新日本製鉄 46902900779436482084952856 433925027 Ⅰ 8395 3]98877644332 ]009987 3322222222222 222 l1 Ⅰ Ⅰ 1 Ⅰ
図表 2 基礎研究 か 応用研究 か ( パスツールの 4 象限 D.Stokes より ) 実用化の検討をする
る をす 求 追 の 解 理 的 硅 基 ま 求 追 の 解 理 的、
+ 実用化の検討をしない 参考文献 1)@ H ， Chuma@&@Y ， Aoshima;@RIETI@Discussion@Paper@Series@03-E-003
2)@ http://public ・ itrs ． net/Files/2003ITRS/Home2003.htm
3) 笹子勝 、 遠藤正孝 : 「リソバラフィの 最近の話題」応用物理第 73
巻第
2別
2004)4) 笠間邦彦 : 「 次 世とィ土 リソ グラフ イ の展望」 OPTRONICS(2003)N0.4 ppl067P1l0
5)
小笠原 敦 : 「科学技術動向」 2001,5 ぽ部 科学者・科学技術政策研究所 )6)@
Technical@Summary@Digest@;@SPIE@29th@Annual@International@Symposium@on"Microlithography" ， (22-27@Feb ・， 04 ， Santa@Clara)
7)@ http://www ・ medea ・ org/webpublic/medea_brochure ， pdf
8) 斉藤 旬 : 「科学技術産業振興策としての LLC (L ㎞ ted Liability Company) 制度」
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9)@ http://www ・ sematec ， org/
10)@http://www ・ euva ・ or ・ jp
11)@http://www ． imec ， be/ovmter/statc-gener3/start-en ． shtml
17) 奥 和田久美 : 「科学技術動向」 2003.4( 文部科学者・ 科学技術政策研究所 )
18)@http://www ． jpo ． go ． jp/kanren/tlo ， htm
19)
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21)htt ://www ． autm ， net/index_2004annual ， ht Ⅲ
22)htt //wW Ⅳ， 8.cao. o,iD/cstD/tvousakai 乃 /haihul6/sirvo4 一 1 )df
または、 httP://www.meti. o.iD/DolicV/i 旦 nov,ation-corD/too-Dage.htm
謝 辞
本 特集をまとめるに 当たり、 貴重なご助言を 頂いた ( 株 ) ニコンの大和 壮 一博モ、 ( 独 ) 産 総
