平成２７年度
特許出願技術動向調査報告書（概要）
情報端末の筐体・ユーザインターフェース
平成２８年２月
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特許庁総務部企画調査課 知財動向班
電話：０３－３５８１－１１０１（内線２１５５）
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第 1 章 調査概要 第 1 節 調査の背景と目的 近年、中国における特許出願が急増しており、2012 年には国際調査報告書を作成する 際の先行技術調査の最小限資料に追加されるなど、中国特許文献の審査における重要性 は高まっている。このため、中国の特許文献の技術レベルを把握し、特許文献を整理す ることは、特許庁における審査体制の構築や、的確かつ効率的な審査を行う上で必要で ある。 また、今後、我が国の産業が持続的に発展していくために、海外市場、特に中国市場 での事業展開の重要性が認識されており、我が国企業等において、中国市場での事業展 開を念頭に置いた技術開発戦略、知財戦略の策定が重要である。 本調査では、近年、中国市場において特に注目されている「情報端末の筐体・ユーザ インターフェース」の分野について調査分析を行う。 情報端末を代表するスマートフォンの世界市場については、2012 年に中国市場が米国 市場を上回る世界最大の規模（世界市場に占める割合 20.7％）となり、その後も順調に 拡大を続け、2014 年には中国市場が世界市場に占める割合が 35.4％にまでなった。さら に、2014 年におけるメーカー別スマートフォン販売台数トップ 10 には、レノボ（Lenovo）、 華為（Huawei）、小米科技（Xiaomi）、ZTE などの中国メーカーが入っているという状況 である。一方、中国国内市場においては、出荷台数のトップ 5 にサムスン（Samsung）が 第２位として入っているものの、その他はトップの小米科技（Xiaomi）をはじめとする 中国メーカー（レノボ（Lenovo）、華為（Huawei）、酷派（Coolpad））が占めている。こ の様に、近年、中国市場においては中国籍企業によるスマートフォンの生産・販売が急 速に拡大していると同時に、スマートフォンの中国国内メーカーも約 400 社存在してい るとの報告もある。これら中国籍企業は、経営・販売コストの削減もさることながら、 筐体の軽量化・小型化等の技術開発を行うことによってミドルレンジ以下の普及価格帯 から低価格帯のモデルを中心に製造・販売を伸ばしている。しかしながら、近年では、 「千元スマホ」と呼ばれる低価格スマートフォン以外にもハイスペックなモデルについ ても市場を牽引しつつある。この様に多数の地場産業を有する中国では、スマートフォ ンをはじめとする情報端末の生産拠点として、ハードウェアの改良に関する技術開発が 多数行われていると予想される。 このような背景のもと、情報端末の筐体・ユーザインターフェースに関する特許の動 向を調査し、技術革新の状況、技術競争力の状況と今後の展望について検討する。 本調査の目的は、(1)中国企業等の技術開発動向、知財戦略を明らかにし、我が国企業 等が中国において事業展開する際の支援を図ること、(2) 中国で事業を行う世界各国・ 地域企業の技術開発動向、知財戦略を明らかにし、我が国企業等のグローバルなビジネ ス展開をする際の競争力向上を図ること、(3) 日本企業等が取り組むべき課題を整理し、 今後目指すべき研究開発・知財戦略の方向性を明らかにすることである。－ 2 －
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第 2 節 調査範囲 調査範囲を示す技術俯瞰図を図 1-1 に示す。本調査では、情報端末の筐体･ユーザイン ターフェースのハードウェアに関する技術を調査範囲とし、以下に示す「適用対象」、「課 題」、「構造・製法・材料等の特徴」、及び「部品」に着目して調査した。 図 1-1 情報端末の筐体･ユーザインターフェースの技術俯瞰図 第 3 節 調査の方法 本調査では、特許動向、市場環境及び政策動向の 3 つの側面から調査を行った。特許 動向調査の結果を主体とし、これと他の 2 つの調査結果に基づく総合分析を行うことに より日本が目指すべき技術開発・研究開発に関する提言を導出した。情報端末の種別
２．課題
低コスト化
生産性向上、 部品価格低減、 その他の低コスト化１．適用対象
ノートPC スマートフォン タブレット その他 フィーチャーフォン ウェアラブル端末４．部品
３．構造・製法・材料等の特徴
品質向上
通信品質向上、信頼性向上、 音質向上、雑音除去、 その他の品質向上堅牢性・安全性
防塵・防水、 耐久性向上、 耐衝撃性向上、 熱対策、安全性、 セキュリティ、 盗難防止、 その他の堅牢性特定者用
高齢者用、子供用、 障害者用、 その他特定者用付加価値向上
快適性、娯楽性、 軽量化、小型化、 薄型化、美観の向上機能向上
機能拡張、衛生・清浄、持久力、 機能変更の容易化、 視認性の向上、 他装置との連携操作性向上
誤操作防止、 操作簡易化、 非接触での操作、 持ちやすさ、 文字入力、 操作の確実化 /高精度化、 その他操作課題情報端末の形状
2筐体で構成 ウェアラブル型 ストレート型 形状不特定 その他 3筐体以上で構成その他
課題なし
形状・構造に関する特徴
凹凸、湾曲、触感の変化、分割構造、電池の収容 メモリカードの収容、SIMカードの収容 その他の構造上の特徴 （例えば、剛性の確保、空間の確保、スリット、電磁波対策、等）製造方法に関する特徴
成形、接合、配線、その他材料・材質に関する特徴
サファイアグラス、CFRP・カーボンナノチューブ、 フィルム・膜、配線用インク、その他その他
筐体部品
《本体、カバー、把手類（端末を持つための部品、部分）、電池、 アンテナ、》に関する特徴、その他の筐体部品に特徴入力部品
《キー（キーボード）、スイッチ、ボタン類、ポインティングデバイス類、 マイク、カメラ、センサ、その他の入力部品》に関する特徴出力部品
《ディスプレイ、スピーカ、バイブレータ、 その他の出力部品》に関する特徴タッチパネル
タッチパネルに関する特徴本
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第 2 章 市場動向 第 1 節 調査概要 市場環境調査では、「筐体・ユーザインターフェース」技術に関する情報端末製品、EMS（Electronic Manufacturing Services）企業、電子部品、電子材料の 4 つのカテゴリで、 市場環境の動向、具体的には、市場の成長性、主要メーカーのシェアの動向について調 査を行い、市場からみた各市場での主要企業を明らかにすることを目的とする。 情報端末製品、EMS 企業、電子部品、電子材料の各市場カテゴリで、調査対象とする 製品等を以下に示す。 情報端末製品：スマートフォン、フィーチャーフォン、タブレット、ノート PC、 ウェアラブル端末 EMS 企業：上記情報端末製品のメーカーから生産委託を受ける企業 電子部品：大型 TFT（薄膜トランジスタ）、中小型 TFT、静電容量式タッチパネル、 カメラモジュール 電子材料：タッチパネル向け ITO（インジウム・スズ酸化物）フィルム 第 2 節 情報端末市場 1. 全体市場動向 情報端末に含まれる、スマートフォン、フィーチャーフォン、タブレット、ノート PC、 ウェアラブル端末の各市場動向については、次節以降に個々に調査結果を示すが、本節 では、これらの製品の概要と生産台数からみた情報端末市場の全体動向について示す。 2. 情報端末の製品概要 情報端末として取り上げる、スマートフォン、フィーチャーフォン、タブレット、ノ ート PC、ウェアラブル端末の各製品概要について概括する。 (1) フィーチャーフォン フィーチャーフォンは次項で説明するスマートフォンに対比して従来型の携帯電話 機に対する名称であるが、携帯電話サービスの歴史は古く、1970 年に日本万国博覧会 に出展されたワイヤレスフォンが最初とされている。 その後、端末のポータブル化や小型化が進み、液晶ディスプレイの搭載やインター ネットへの接続などの多機能化が進んだ。 2007 年にアップル社から iPhone が発売され、携帯電話でのスマートフォンの普及 が進むにつれ、フィーチャーフォンの需要は減少してきている。 (2) スマートフォン スマートフォンは、1990 年代に製品化されたポータブルサイズの情報機器である PDA（Personal Digital Assistant）と携帯電話機能が融合した情報端末として市場に 登場し、特にアップル社が 2007 年に発売した iPhone によって普及が促進した。
現在のスマートフォン製品は、その OS プラットフォームから、アップル社の iOS
と、Google 社の Android1とほぼ二分されている。
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(3) ノート PC ノート PC は、持ち運びができるパーソナルコンピュータとして、1989 年に東芝、 エプソン、NEC から製品化され、1991 年にはアップル社からも発売された。 その後、ノート PC の普及が進んだが、価格も下がり 2004 年にはレノボ社が IBM 社 の PC 事業部門を買収し、事業の再編なども行われた。 (4) タブレット タブレットは、板状のタブレット形態の情報端末で、2010 年にアップル社より iPad が発売され、また、スマートフォンプラットフォームである Android OS を採用された、 タブレット端末も発売された。 また、アマゾン社は、電子書籍のリーダーとしての Kindle 端末を 2007 年に市場に 投入している。 (5) ウェアラブル端末 ウェアラブル端末には、人間が身に着けて携帯する端末として、腕時計型やリスト バンド型、眼鏡型などの端末がある。 2015 年にアップル社が Apple Watch を市場に投入し、注目を浴びた。 ウェアラブル端末の市場はまだ黎明期ではあるが、今後、大きく成長することが期 待されている。 フィーチャーフォン、スマートフォン、ノート PC、タブレット、ウェアラブル端末の 5 種類の情報端末の内、スマートフォンやタブレット端末の市場では、アップル社の製 品が各市場の成長に大きな影響を与えてきている。 アップル社のスマートフォン、タブレット等の発売時期を表 2-1 に示す。本
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表 2-1 アップル社の主要製品の発売時期 分類 製品 発売時期 スマートフォン iPhone 2007 年 iPhone 3G 2008 年 iPhone 3GS 2009 年 iPhone 4 2010 年 iPhone 4S 2011 年 iPhone 5 2012 年 iPhone 5c / 5s 2013 年 iPhone 6 / 6 Plus 2014 年 iPhone 6s / 6s Plus 2015 年 タブレット iPad 2010 年 iPad 2 2011 年iPad (3rd / 4th) / iPad mini 2012 年
iPad Air / iPad mini2 2013 年
iPad Air2 / iPad mini3 2014 年
iPad Pro / iPad mini4 2015 年
ウェアラブル端末 Apple Watch 2014 年 (出典：アップル社ニュースリリースを基に作成) 3. 情報端末の市場規模の推移 スマートフォン、フィーチャーフォン、タブレット、ノート PC の生産台数を合計した 情報端末の市場規模の推移を図 2-1 に示す。 スマートフォン、フィーチャーフォン、タブレット、ノート PC を合計した市場規模は、 23 億台（2014 年）から 26 億台（2020 年）と年平均 2％で成長する。中でもスマートフ ォンの成長が著しい一方、フィーチャーフォン、ノート PC の市場規模は縮小する。
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図 2-1 情報端末の市場規模（生産台数） （出典：富士キメラ総研、2015 ワールドワイドエレクトロニクス市場総調査、2015 年 3 月、をもとに作成） 4. 情報端末の地域別需要台数と生産台数 情報端末全体の市場として、地域別に見た需要地と、生産地域をそれぞれ、図 2-2、 図 2-3 に示す。 情報端末の地域別需要地は、中国、アジア、欧州、北米が主要な市場となっており、 それぞれ 25％、24％、18％、13％のシェアとなっており、中国、アジアで全体市場の約 50%の市場規模を有する。 情報端末の生産地域から見ると、中国が全体の 72％、アジアが全体の 23％と両国・地 域で全体の 95％の生産を行っており、生産地域は中国、アジアに集中していることが分 かる。 図 2-2 地域別情報端末需要台数（2014 年） （出典：富士キメラ総研、2015 ワールドワイドエレクトロニクス市場総調査、2015 年 3 月、をもとに作成） 0 500,000 1,000,000 1,500,000 2,000,000 2,500,000 3,000,000 2013年 （実績） 2014年 （実績） 2015年 （見込） 2016年 （予測） 2017年 （予測） 2018年 （予測） 2019年 （予測） 2020年 （予測）情報端末の市場規模（生産台数）
スマートフォン フィーチャーフォン タブレット ノートPC （単位：1000台） 中国 25% アジア 24% 欧州 18% 北米 13% 中南米 10% 日本 2% その他 8%地域別情報端末需要台数（2014年（実績））
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図 2-3 地域別情報端末生産台数（2014 年） （出典：富士キメラ総研、2015 ワールドワイドエレクトロニクス市場総調査、2015 年 3 月、をもとに作成） 第 3 節 市場別の主要企業のまとめ 本節では、情報端末市場、EMS 市場、電子部品市場、電子材料市場での主要な企業を 各市場でのシェアの情報をもとに整理した。 1. 情報端末市場の主要企業 スマートフォン、タブレット、フィーチャーフォン、ノート PC の各端末での世界市場 でのシェアの数値をもとに、各企業間の相対的な市場の強さを求めて、整理分析した。 「市場での強さ」は、市場でのマーケットシェアを基に企業の強さを相対的に表すも ので、トップシェアの企業のシェアの値を 10 として正規化して計算している。（例：シ ェア 30％の A 社とシェア 21％の B 社の場合は、A 社、B 社の市場の強さの値はそれぞれ、 「10」、「７」となる）表 2-2 に、各企業の国籍・地域で整理し、また、各端末別に市場 で強い企業の整理結果を示す。 スマートフォン、タブレットの今後も成長が期待されている端末市場では、アップル (米国)、三星電子(韓国)が、市場で強いものの、中国の各企業も、1 社 1 社はそれほど 強くないものの、スマートフォン市場での主要企業の一角を占めている。 ま た 、 今 後 の 成 長 が 鈍 化 す る フ ィ ー チ ャ ー フ ォ ン や ノ ー ト PC の 端 末 市 場 で は 、 Microsoft Mobile (NOKIA)、HP、Dell などの米国企業や、レノボ（中国）が各市場で強 いが、レノボのノート PC 事業が、もともと IBM から事業を譲り受けたことを考えると、 これまで市場で強みを発揮していた米国系企業が現在も市場で強いことがわかる。 中国 72% アジア 23% 中南米 3% 欧州 1% 日本 1% 北米0% 地域別情報端末生産台数（2014年（実績））－ 8 －
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表 2-2 情報端末市場での主要企業（国籍・地域別、端末別） 国籍・ 地域 企業名 市場での強さ（注） スマートフ ォン タブレット フィーチャ ーフォン ノート PC 中国 レノボ 3 3 10 華為 3 小米 2 ZTE 2 酷派 2 台湾 ASUSTek 1 6 Acer 1 5 韓国 三星電子 10 4 8 LG エレクトロニクス 2 インド Micromax 5 LAVA 2 Karbonn 3 米国 アップル 7 10Microsoft Mobile (NOKIA) 2 10
HP 10 Dell 7 アマゾン 3 Google 2 Microsoft 1 日本 ソニーモバイルコミュニケ ーションズ 2 （注）「市場での強さ」は、市場でのマーケットシェアを基に企業の強さを相対的に表すもので、トップシ ェアの企業のシェアの値を 10 として正規化して計算している。（例：シェア 30％の A 社とシェア 21％の B 社の場合は、A 社、B 社の市場の強さの値はそれぞれ、「10」、「７」となる） 2. 電子部品市場の主要企業 電子部品市場での主要企業は、TFT やタッチパネル等の TFT・パネル系の部品とカメラ モジュールの 2 つの分野に分けて整理分析を行った。そのうち、TFT・パネル系部品分野 での主要企業を表 2-3 に示す。 TFT・パネル系部品分野では、韓国系企業、台湾系企業が強く、特に、LG Display や 三星電子 Display、Innolux、AUO、TPK が強い。
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表 2-3 電子部品市場（TFT・パネル系部品）での主要企業（国籍・地域別、端末別） 国籍・ 地域 企業名 市場での強さ 大型 TFT 中小型 TFT 静電容量式タッ チパネル 台湾 Innolux 8 7 AUO 5 5 TPK 10 GIS 5 Wintek 4 韓国 LG Display 10 5 2 三星電子 Display 7 10 Melfas 3 日本 シャープ 10 ジャパンディスプレ イ 7 5 中国 O-film 6 BOE 3 3. 電子材料市場の主要企業 電子材料市場での、主要企業の分析では、タッチパネルの材料となる ITO フィルムの 主要企業の分析を表 2-4 に示す。 ITO フィルム分野では、日本の企業が強く、中でも、日東電工が主要な企業であるこ とがわかる。 表 2-4 電子材料市場での主要企業（国籍・地域別、端末別） 国籍 メーカー名 市場での強さ (ITO フィルム) 日本 日東電工 10.0 日本 尾池工業 1.8 日本 積水ナノコート 0.5 中国 O-film 0.9 韓国 SKC Display 0.5－ 10 －
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第 3 章 政策動向調査・分析 第 1 節 中国の政策動向 1. 科学技術政策 (1) 科学技術基本方針1 2006 年に中国の科学技術の基本方針となる、「国家中長期科学技術発展計画綱要 2006～2020 年」（2006 年、国務院）が策定され、2006 年から 2020 年までの 15 年間の 科学技術基本方針が策定されている。 本計画概要では、「自主イノベーション能力の向上」、「コア技術・先端技術の適用に よる課題解決と飛躍的な発展」、「主要な基礎技術・先端技術のブレークスルーによる 持続可能な成長」、「先端技術による新型産業の創出」の 4 項目を重視した方針を策定 しており、2020 年に向けて、自国の特許登録数、学術論文被引用数を世界のトップ 5 にすることなどの数字目標と、その実現のための推進戦略が定められている。 (2) 科学技術に関する現行計画と関連する計画 科学技術基本方針に基づき、科学技術に関する 5 ヵ年計画として、「科学技術第 12 次 5 ヵ年計画」と、その関連計画として、人材育成に関する「国家中長期科学技術人 材育成計画」と科学技術の活用に関する「科学技術体制改革の深化とナショナルイノ ベーションシステム構築に関する意見」が発表されている。 ① 「科学技術第 12 次 5 ヵ年計画（2011～2015 年）」（2011 年、科学技術省） 科学技術第 12 次 5 ヵ年計画は、イノベーション駆動型の国家への転換を目的として、 2011 年に策定され、2011 年から 2015 年までの 5 ヵ年の科学技術に関する実施計画 を定めている。 同計画では、重点科学研究計画として 6 分野、重点戦略ハイテク領域研究として 10 分野、戦略的新興産業として 7 分野を選定しており、情報端末に関わる情報技術は、 重点戦略ハイテク領域研究の 1 分野に含まれており、重点研究分野の対象となって いる。 ② 『国家中長期科学技術人材育成計画（2010−2020）』（2011 年、科学技術省、教育 省、人的資源•社会保証省等） 中国は、（1）で述べた科学技術に関する 5 ヵ年計画に加え、「人材強国」戦略のもと、 イノベーション駆動型国家実現に資する人材育成の支援を目的とする、国家中長期 科学技術人材育成計画（2010−2020）を 2010 年から 2020 年の 10 か年の計画を策定 している。 ③ 『科学技術体制改革の深化とナショナルイノベーションシステム構築に関する意 見』（2012 年、科学技術省） 科学技術の成果を活用した経済社会の発展を目的として、2012 年に「科学技術体制 改革の深化とナショナルイノベーションシステム構築に関する意見」が表明された。 本意見は、イノベーションシステムの目標として、企業を R&D の中心に据えること、 イノベーション能力向上のため、国立研究機構と大学の科学研究体制を改革など 5 1 林幸秀著、JST 研究開発センター、海外主要国の科学技術イノベーション政策、 http://www.mext.go.jp/b_menu/shingi/gijyutu/gijyutu22/siryo/__icsFiles/afieldfile/2014/08/08/1 350746_2_1.pdf、2014 年 8 月 6 日、科学技術・学術審議会総合政策特別委員会（第 2 回）資料 1-3本
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項目を設定しており、科学技術の発展を経済社会の発展につなげることをねらいに している。 2. 電子情報通信分野の政策1 産業政策の内、電子情報通信分野の政策として、電子情報製造業「第 12 次 5 ヵ年」計 画（工業・情報化部）2がある。 本計画の前に実施された、2006 年から 2010 年にわたる 5 ヵ年計画である、電子情報 製造業の「第 11 次 5 ヵ年」計画のもとでは、中国の電子情報製造業の販売収入が、2005 年の 3 兆 1010 億元から 2010 年には 6 兆 3945 億元に増加するなど大きな成果を残した。 一方、同産業分野において、基幹となる核心技術を外国に依存している、産業全体の バリューチェーンが中・低級品に偏っている、OEM（他社ブランド製品の製造）ならびに 加工貿易の占める割合が高い、研究開発への資源の投入が先進国と比べて弱い、などの 課題も明らかになった。 2011 年から 2015 年の 5 ヵ年の計画として策定された電子情報製造業「第 12 次 5 ヵ年 計画」では、第 11 次の計画時の課題を解決しつつ、さらなる産業の育成を狙いとして、 電子製造業の販売収入や付加価値の向上などの目標を設定している。特に、イノベーシ ョンに関する目標として、上位 100 社の研究開発費の販売収入に占める割合を 5％以上、 情報技術分野での発明特許の申請累積件数を 130 万件にするなど、特許の位置づけを高 くしている。 また、本計画では、コンピュータや通信設備を含む 11 の重点開発項目を設定し、競争 力の強化や新たな成長分野の育成など 8 項目の主務任務を設定している。 3. 知財戦略 (1) 国家知的財産権戦略綱要(2008 年 6 月)3 2008 年に中国の総合的な知財戦略として策定された国家知的財産権戦略綱要では、 イノベーション型国家の構築等を目指して、5 年以内に知的財産侵害行為を減少させ、 2020 年には、知的財産の創造、活用の水準が比較的高い国となること等を掲げ、また、 この戦略の実行計画として、毎年、知的財産権の保護面に重点を置いた措置のための 計画である中国知的財産権保護行動計画と知的財産の創造、運用、保護、管理など幅 広い項目に関する措置のための計画である国家知的財財産権戦略実施推進計画を策定 することとしている。 ① 国家知的財産権戦略綱要の目標 国家知的財産権戦略綱要では、5 年以内の実現目標として、知的財産保護の状況を 明らかに改善すること、世界トップクラスの権利付与状況を作り出すこと、侵害行 為の減少を図ること、権利擁護コストを低下させることの 4 つの目標を設定してい る。 1 JST 中国総合交流センター、中国の科学技術の現状と動向（平成 27 年版）2015 年 3 月より http://www.spc.jst.go.jp/investigation/downloads/r_201503_06. pdf 2 同計画に合わせて、「電子基礎材料・基幹部品『第 12 次 5 ヵ年』計画」、「電子専用設備器具『第 12 次 5 ヵ年』計画」、「デジタルテレビ・デジタル家庭産業『第 12 次 5 ヵ年』計画」の付属計画がある 3 政府模倣品・海賊版対策総合窓口、模倣品・海賊版対策の相談業務に関する年次報告、 http://www.meti.go.jp/press/2014/06/20140625002/20140625002 -3.pdf、別添第 3 章、2015 年 6 月より－ 12 －
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また、2020 年までの達成目標として、知的財産権の創造・活用・保護・管理のレベ ルを比較的高い国の水準へと整備することを挙げている。 ② 国家知的財産権戦略綱要の重点戦略 国家知的財産権戦略綱要はその重点戦略として次の 5 項目を選定している。 イ) 法律・法規・法執行・管理体制の整備 ロ) 知的財産権の創造と活用の促進 ハ) 知的財産権の保護強化 ニ) 権利の濫用防止 ホ) 知的財産文化の育成 ③ 国家知的財産権戦略綱要の権利別方針 国家知的財産権戦略綱要は、特許、商標、著作権、営業秘密、植物新品種、地理的 表示・遺伝資源等の特定領域の知的財産権、国防関係知的財産権に関する法制度の 整備や取締り等の方針を明示することとしている。 ④ 国家知的財産権戦略綱要の戦略的措置 国家知的財産権戦略綱要は、大学から企業への移転・活用の奨励、知財専門法廷設 置、刑事救済等の法執行水準の向上、知的財産重視の文化の醸成・教育での啓発等 を含む 9 項目の戦略的措置を設定している。 (2) 全国専利事業発展戦略(2011～2020）(2011 年 1 月）1 2011 年から 2020 年までの 10 年間の専利に関する事業戦略として、2011 年 1 月に全 国専利事業発展戦略が策定されている。 本戦略では、具体的な達成目標を掲げており、2020 年までに、専利に関する創造性 の程度、運用、管理レベルを、ともに先進国レベルに引き上げ、百万人当たりの特許 保有数量、中国外への専利出願数量とも 2011 年時点の 4 倍とすることや、2015 年ま での達成目標として、専利の出願数量の 200 万件到達、登録数量世界 2 位、百万人当 たりの特許保有数量と中国外への専利出願数量 2011 年比 2 倍、専利審査レベルの引き 上げ、専利の保護強化を含む 5 項目の目標を挙げ、専利事業の推進を図っており、2013 年には、専利（特許・実用新案・意匠）の出願件数が 237 万件を超えた。 この原動力となったと言われるのが、税制優遇措置、出願補助金/奨励金支給、政府 購買措置、ハイテク技術の産業化の促進等の政府の各種支援策である。 (3) 中国の知的財産の助成・奨励政策 前述の専利出願の原動力となったと言われている、中国の知的財産の助成や奨励政 策について示す。 ① 助成・奨励政策の概要2 中国は、国の政策として、知識産権主幹機関としての国家知識産権局により、「特許 出願助成業務に関する指導意見」、「特許出願行為の規範化に関する若干規定」、「特 許費用の減額・支払延期方法」、「知的財産権のモデル業務に関する国家知識産権局 1 日本貿易振興機構（JETRO）北京事務所 知的財産権部、中国政府による専利出願の質向上に向けた施策に 関する調査、http://www.jetro-pkip.org/upload_file/bgs2012/20150310173301.pdf、2015 年 3 月 10 日よ り 2 ジェトロ北京センター知的財産権部、中国の知的財産における助成・奨励政策、 http://www.jetro-pkip.org/upload_file/201004230950001.pdf、第二章第三章、2010 年 3 月より本
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の指導意見」等の関連規定、意見を公布している。 さらに、財政部から「外国特許出願助成特別資金管理暫定弁法」(2009 年)等の規定 が公布され、これらを受け、「中国における地方特許助成政策」として地方行政区単 位で助成政策が施行されている。 ② 助成・奨励政策の具体例 上述の政策の例として、北京市（北京市特許出願助成金管理暫定弁法(2007 年)）の 政策の主な内容を次に示す。 イ) 特許出願助成金 特許第一出願人が北京市にあり、確かに困難のある業者等を対象とする、国内特 許出願に対する助成として、出願費（950 元/件）、実体審査費（2500 元/件）、国外 特許出願（PCT 出願をする場合）に対する助成として、出願費（１万元/件・国）を 実施している。 ロ) 特許実施資金 特許実施に確かに困難な市内企業を対象として、実用新案では 20 万元以内、発明 特許では 30 万元以内の助成を行う。 (4) ハイテク企業認定管理弁法(2008 年 4 月発布）1 2008 年に発布されたハイテク企業認定管理弁法は、「中華人民共和国企業所得税法」 第 28 条で規定されている「国が重点的に扶助する必要のあるハイテク企業は、税率を 15％に引き下げて企業所得税を徴収する」条項や「中華人民共和国企業所得税法実施 条例」第 93 条で規定されている「ハイテク企業の認定条件」等に対応する関係規定を 整備する（ハイテク企業認定管理弁法 第 1 条）目的で制定されている。 中国が重点的に補助するハイテク企業の選定は、同じく 2008 年に発布されたハイテ ク企業認定管理作業手引き(2008 年 7 月発布・施行日）2に示されており、いくつかの 指標が定められているが、その中で知財財産権に高い比重が置かれている。 (5) 専利出願の質の向上3 知的財産の助成や奨励政策が実施され、専利の出願件数も増加しているが、一方で、 以下に示すような、専利出願の質を向上させるための取り組みも進められている。 ① 専利出願の質を一層向上させることの若干意見（2013 年 12 月） 専利出願の「質」の向上を図る旨の次のような意見が出された。 イ） 質の向上の必要性等 ロ） 質向上のための施策 ハ） 不正な出願等の是正（申請者、代理人等の不正を監督等） ニ） 専利関連サービスの充実 （データベースの構築、代理人の能力向上、コンテンツ提供等） ホ） 適切な管理監視体制の構築 1 日本貿易振興機構（ジェトロ）、ハイテク企業認定管理弁法、 https://www.jetro.go.jp/world/asia/cn/law/tax_028.html 、Copyright(C)2008 里兆法律事務所より 2 日本貿易振興機構（ジェトロ）、ハイテク企業認定管理作業手引、 https://www.jetro.go.jp/world/asia/cn/law/tax_030.html 、Copyright(C)2008 ジョイ・ハンド（開澤） 法律事務所 3 日本貿易振興機構（JETRO）北京事務所 知的財産権部、中国政府による専利出願の質向上に向けた施策に 関する調査、http://www.jetro-pkip.org/upload_file/bgs2012/20150310173301.pdf、2015 年 3 月 10 日－ 14 －
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② 国家知識産業戦略実施推進企画（2014 年） 2014 年に発表された国家知識産業戦略実施推進企画では、これまでの専利助成制度 の専利出願の質の向上を念頭に置いて、次のような改善点について示されている。 イ） 出願時の助成を登録時の助成に変更 ロ） 企業や個人の不正行為を防止するために、助成金上限額を厳しく設定 ハ） 専利が製品化に繋がるように指導 ニ） 専利の助成や奨励対象について公開される評審を活用 ホ） 数量のみを重視することなく、質及び製品化する場合の価値等で専利を評価 し、助成や奨励金を定めるべき (6) 法令の整備状況1 中国では、知的財産の助成や奨励策が進められている一方、知的財産の権利侵害関 係の処罰の強化や、冒認出願対策の強化など、不正を排除するための知財関連法令の 整備も進められている。 これらの法令の整備状況について、その一部を示す。 ① 専利法関連の改正（2008 年改正、2009 年施行） 権利侵害関係について行政処罰の強化や、賠償金額の範囲の引き上げ等が規定され た。さらに、「知的財産権侵害および模倣品・粗悪品の製造・販売の摘発活動の更な る徹底に関する意見」（2011 年、国務院）における、権利侵害及び模倣品・粗悪品 関連行為を効果的に摘発するために法制度を強化すべきとの指摘を踏まえて、2012 年 8 月及び 2015 年 4 月に、専利法改正草案がそれぞれ公表され、国務院法制弁公室 において改正案が検討されている。 ② 知的財産権保護税関保護条例実施弁法の改正（2009 年改正、同年施行） 税関における知的財産保護の強化を図るため、職権による調査権限や侵害品の輸出 入者の公安当局への移送等を強化した。 第 2 節 各国・地域の政策のまとめ 前節に示した中国の施策とともに、各国・地域の政策を 2004 年から時系列的に整理し た内容を図 3-1 に示す。 台湾では、2008 年の六大新興産業方案をはじめとする産業政策と共に、台湾・中国と の両岸産業架け橋プロジェクトが開始され、2010 年には、中台経済関係を規定するため の基本協議である ECFA(Economic Cooperation Framework Agreement)が締結されている。日本、欧州、韓国では、それぞれ 2014 年に科学技術分野や産業政策が新たに策定され て、それらの計画が進められている。 米国では、2011 年より、米国競争力イノベーション戦略が改訂され、先進製造に関す る施策が開始されている。 1 政府模倣品・海賊版対策総合窓口、模倣品・海賊版対策の相談業務に関する年次報告、 http://www.meti.go.jp/press/2014/06/20140625002/20140625002 -3.pdf、別添第 3 章、2015 年 6 月より
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図 3-1 各国・地域の政策動向 2004 2005 2006 2007 2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 ●知的 財産 助成 ・ 奨励 政策 の実 施 ●専利出願の質を一層向上させることの若干意見(20 13) ●ハ イ テ ク 企業 認定 管理 弁法 (2 0 0 8 ) ●国家知識産業戦略実施推進企画( 2 0 1 4 ) ●専利法関連の改正 ●著作権法の改正 ●商標法の改正 ●知的財産権保護税関保護条例実施弁法の改正 ●権利侵害責任法 ●公安機関の管轄す る 刑事案件の立件訴追基準に 関す る 規定の改正 中国 国家中長期科学技術発展計画綱要（ 2 0 0 6 －2 0 2 0 ） 第1 0 次5 ヵ 年計 画 第1 1 次5 ヵ 年計 画（ 2 0 0 6 -2 0 1 0 ） 第1 2 次5 ヵ 年計 画（ 2 0 1 1 -2 0 1 5 ） 電子情報製造業第1 1 次5 ヵ 年計画（ 2 0 0 6 -2 0 1 0 ） 電子情報製造業「 第1 2 次5 ヵ 年」 計画（ 2 0 1 1 -2 0 1 5 ） 国家中長期科学技術人材育成計画（ 2 0 1 0 −2 0 2 0 ） 全国専利事業発展戦略（ 2 0 1 1 ～2 0 2 0 ） ●国家知的財産権戦略綱要( 2 0 0 8 ) 台湾 産業創新条例 産業発展綱領 経済 部2 0 2 0 重点 産業 発展 戦略 産業構造の改善-三業四化 六大新興産業方案・ 四大新興ス マ ー ト 産業・ 十大重点サー ビ ス 発展項目 E CF A (E c o n o mi c Co o pe ra ti o n F ra me w o rk A gr e e me n t) 両岸 産業 架け 橋プ ロジ ェ ク ト （ 2 0 0 8 ～） 日本 第2 期科 学技 術基 本計 画 第3 期科 学技 術基 本計 画（ 2 0 0 6 -2 0 1 0 ） 第4 期科 学技 術基 本計 画（ 2 0 1 1 -2 0 1 5 ） 科学 技術 イ ノ ベ ー シ ョ ン総合戦 略2 0 1 4 日本 再興 戦略 （ 2 0 1 4 ） 欧州 第6 次フ レ ー ム ワ ー ク 計画 (2 0 0 2 -0 6 ) 第7 次フ レ ー ム ワ ー ク 計画 （ 2 0 0 7 -2 0 1 3 ） （ 5 3 2 億ユ ー ロ） H o ri zo n 2 0 2 0 (2 0 1 4 -2 0 2 0 ) (7 7 0 億ユ ー ロ） 先進製造分野の研究開発ロ ー ド マ ップ 米国 米国競争力法 米国 競争 力イ ニ シ ア テ ィ ブ 米国 競争 力イ ノ ベ ー シ ョ ン戦略（ 2 0 1 1 年改 訂） M ak e : A n A me ri c an M an u fa c tu ri n g M o ve me n t 先進 製造 パー ト ナ ー シ ップ （ A M P ） 第1 2 次計 画（ 2 0 1 2 -2 0 1 7 ） 科学 技術 政策 2 0 0 3 科学 ・ 技術 ・ イ ノ ベ ー シ ョ ン政策2 0 1 3 第2 次科 学技 術基 本計 画（ 5 7 7 イ ニ シ ア テ ィ ブ ） 第3 次科 学技 術基 本計 画（ 2 0 1 3 -2 0 1 7 ） 第4 次産 業技 術革 新五 カ 年計 画 第5 次産 業技 術革 新5 カ 年計 画 第6 次産 業技 術革 新五 カ 年計 画（ 2 0 1 4 -2 0 1 8 ） 韓国 第1 次科 学技 術基 本計 画( 2 0 0 3 -2 0 0 7 ) イ ンド 第1 0 次計 画 第1 1 次計 画 知 財 関連の動 向－ 16 －
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第 4 章 特許・実用新案出願動向 第 1 節 概要 本調査では、情報端末の筐体及びユーザインターフェースのハードウェアに関する技 術1を調査対象技術として、特許・実用新案動向調査について、大きく 3 種類の調査分析 を実施した。第 1 は「日米欧中韓印台への特許出願(登録特許)に関する動向調査」であ り、第 2 は「中国への出願に関する動向調査」であり、第 3 は「中国における特許出願・ 登録実用新案の無効審判状況に関する調査」である。 第 2 節 各調査の概要・留意点 1. 日米欧中韓印台への特許出願(登録特許)に関する動向調査の概要 調査対象技術について、検索により抽出される文献の件数に基づき、PCT（特許協力条 約）に基づく国際出願及び日本、米国、欧州2、中国、韓国、印度、台湾（以下、日米欧 中韓印台と略することがある）への特許出願（登録特許）の全体動向及び日米欧中韓印 台への特許出願（登録特許）の技術区分別動向について調査した。 (1) 使用したデータベース 特許文献情報の検索には、トムソンロイター社のトムソン・イノベーションを用い た。 (2) 調査対象期間 出願年（優先権主張年）を基準に、2004 年から 2013 年の期間に出願されたものを 対象とした。 2. 中国への出願に関する動向調査の概要 調査対象技術について、検索により抽出した文献ごとに実施した読込調査による詳細 解析に基づき、中国への出願に関する全体動向及び技術区分別動向、出願人別動向、注 目出願人、注目特許等を調査した。また、注目特許について個別の分析を行った。 (1) 使用したデータベース及び調査対象期間 前述 1．(1)、(2)と同様である。 (2) 詳細解析に用いた技術区分と分類方法 検索により抽出した文献について、読込調査を行い、調査対象技術に含まれない文 献を除外し、結果として得られた特許 14,502 件と実用新案 7,354 件に対し、表 4-1～ 表 4-5 に示す技術区分(適用対象、課題、構造・製法・材料等の特徴、部品の属性の特 徴)に基づいて分類した。その際、個々の技術区分の中で、1 件の特許文献、実用新案 文献に複数の分類を付与することを許している。 1 ソフトウェアにのみに特徴があるようなユーザインターフェース技術については、本調査の対象外として いる。 2 欧州への特許出願とは、EPC(欧州特許条約)加盟国への出願及び欧州特許庁(EPO)への特許出願を意味する。本
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表 4-1 情報端末の種別 表 4-2 情報端末の形状 表 4-3 解決しようとしている課題 大項目 中項目 スマートフォン タブレット ノートPC ウェアラブル端末 フィーチャーフォン その他 情報端末の種別 大項目 中項目 ウェアラブル型 ストレート型（１筐体で構成） 2筐体で構成 3筐体以上で構成 その他 形状不特定 情報端末の形状 大項目 小項目 大項目 小項目 品質向上 通信品質向上 機能向上 機能拡張 信頼性向上 衛生・清浄 音質向上 持久力 雑音除去 機能変更の容易化 その他の品質向上 視認性の向上 低コスト化等 生産性向上 他装置との連携 部品価格低減 操作性向上 誤操作防止 その他の低コスト化 操作簡易化 堅牢性・安全性 防塵・防水 非接触での操作 耐久性向上 持ちやすさ 耐衝撃性向上 文字入力 熱対策 操作の確実化/高精度化 安全性 その他操作性課題 セキュリティ 特定者用 高齢者用 盗難防止 子供用 その他の堅牢性 障害者用 付加価値向上 快適性 その他特定者用 娯楽性 その他 軽量化 課題なし 小型化 薄型化 美観の向上－ 18 －
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表 4-4 構造・製法・材料等の特徴 表 4-5 部品の属性 大項目 小項目 凹凸 湾曲 触感の変化 分割構造 電池の収容 メモリカードの収容 SIMカードの収容 その他の構造上の特徴（例えば、剛性の確保、空間の確保、スリット、電磁波対策等） 成形 接合 配線 その他 サファイアグラス CFRP・カーボンナノチューブ フィルム・膜 配線用インク その他 形状・構造 に関する特徴 製造方法 に関する特徴 材料・材質 に関する特徴 大項目 中項目 小項目 筐体部品 本体に関する特徴 カバーに関する特徴 電池に関する特徴 アンテナに関する特徴 その他の筐体部品に特徴 入力部品 キー（キーボード）、スイッチ、ボタン類に関する特徴 タッチパッド マウス その他のポインティングデバイス類 マイクに関する特徴 カメラに関する特徴 センサに関する特徴 指紋センサ 生体（血圧、体温、脈拍等）センサ その他のセンサ類 その他の入力部品に関する特徴 出力部品 ディスプレイに関する特徴 スピーカに関する特徴 バイブレータに関する特徴 その他の出力部品に関する特徴 タッチパネル タッチパネルに関する特徴 把手類（端末を持つための部品、部分）に関する特徴 ポインティングデバイス類に関する特徴本
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3. 中国における特許出願・登録実用新案の無効審判状況に関する調査の概要PATENT REEXAMINATION BOARD OF SIPO の審査決定査詢 (中国国家知識産権局が提供 するサービス)等を用いて、調査対象技術に関連する登録特許・登録実用新案について、 無効審判状況に関する調査を行った。 (1) 調査対象 中国国内における無効審判で、IPC コード H04M1、G06F1、G06F3 に分類される特許・ 実用新案に関する無効審判のうち、2000 年以降のもので、決定書が閲覧できたものを 対象とした。 (2) 調査の方法
PATENT REEXAMINATION BOARD OF SIPO のサイト1から、IPC コード H04M1、G06F1、
G06F3 に分類される特許・実用新案に関する無効審判の結果を収集した。 4. 分析に当たっての留意点 (1) 調査対象出願についての留意点 調査対象とする母集団は、データ取得日（2015 年 9 月 14 日）までに公開等された 特許文献、実用新案文献である。出願から公開までの期間、あるいは PCT 出願後の国 内移行までの期間、データベースへの収録の遅れの影響等から、直近の出願件数につ いては必ずしも実数を反映していない可能性がある点に注意が必要である。 また、登録件数については、データ収録の問題に加えて、審査中あるいは審査請求 前の特許が存在することから、近年のデータについては今後増加する可能性がある点 に注意が必要である。 (2) 出願人について ① 検索による解析の対象 「検索による解析」における出願人国籍・地域の特定は、原則として優先権主張に おける第 1 国出願国を出願人国籍・地域とすることとした。第 1 国出願国が特定で きない場合は、出願人名や出願人住所などのその他の情報から出願人国籍・地域を 特定した。 ② 詳細解析の対象 「詳細解析」における出願人国籍・地域の特定は、原則として出願人住所に記載さ れた国とした。例えば、海外の企業が、中国に現地法人を設立し、出願人住所をそ の中国現地法人のもので出願している特許出願は、中国籍出願人による特許出願と して扱っている。出願人住所が不明な場合は、使用したデータベースであるトムソ ン・イノベーションにおいて出願人名から求められる DWPI 出願人コードから企業名 を特定し、その企業の本社所在地の国を出願人国籍・地域とした。これでも出願人 国籍・地域が特定できない場合は、検索による解析に基づく動向調査で特定した出 願人国籍・地域を用いた。 ③ 優先権主張年について 本調査においては、特許及び実用新案の出願年として、使用したデータベースであ るトムソン・イノベーションにおける最先の優先権主張年を用いた。最先の優先権 1 http://app.sipo-reexam.gov.cn/reexam_out/searchdoc/search.jsp
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主張年とは、ファミリーを構成する特許及び実用新案のうち出願日が最も古いもの の出願年を指す。ファミリーがない特許あるいは実用新案については、当該特許あ るいは実用新案の出願年を指す。 第 3 節 日米欧中韓印台への特許出願(登録特許)に関する動向調査 (1) [PCT 出願]出願人国籍・地域別 PCT 出願件数推移及び出願件数比率 図 4-1 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾の各国・地域籍に関する、 出願人国籍・地域別の PCT 出願件数推移及び出願件数比率を示す。 2013 年は減少しているものの、調査期間を通して出願件数はほぼ単調に増大してい る。日本と米国からの出願が 30%以上の比率を有し抜きん出ているが、2010 年以降は 米国からの出願件数の伸びが著しい。 図 4-1 [PCT 出願]出願人国籍・地域別 PCT 出願件数推移及び出願件数比率 (2) [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別出願件数推移及び出願件数比率 図 4-2 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾の各国・地域に関する、出 願先国・地域別の特許出願件数推移及び出願件数比率を示す。 米国への出願が約 30%と最も多く、次いで日本への出願が約 20%と続く。中国への出 願は 17.5%と第 3 位を占めている。日本への出願件数は、2006 年までは米国への出願 件数と 1 位 2 位を争っていたが 2007 年以降は米国への出願件数に引き離され、2010 年以降は中国への出願件数と拮抗している。 図 4-2 [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別出願件数推移及び出願件数比率 (3) [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別登録件数推移及び登録件数比率 図 4-3 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾の各国・地域に関する、出 661 652 794 991 1,166 1,179 1,330 1,675 2,103 1,803 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 0 100 200 300 400 500 600 700 800 900 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 出 願 先 国 ・ 地 域 別 出 願 件 数 出願年(優先権主張年) 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 その他 合計 優先権主張 2004-2013年 出願人国籍・地域 合 計 出 願 件 数 日本国籍 3,772件 30.5% 米国籍 4,241件 34.3% 欧州国籍 1,949件 15.8% 中国籍 460件 3.7% 韓国籍 1,317件 10.7% 印度国籍 20件 0.2% 台湾籍 27件 0.2% その他 568件 4.6% 合計 12,354件 7,783 7,445 8,027 9,616 11,387 11,842 11,808 13,689 15,197 11,130 0 2,000 4,000 6,000 8,000 10,000 12,000 14,000 16,000 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 3,000 3,500 4,000 4,500 5,000 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 出 願 先 国 ・ 地 域 別 出 願 件 数 出願年(優先権主張年) 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 合計 優先権主張 2004-2013年 出願先国・地域 合 計 出 願 件 数 日本 21,428件 19.9% 米国 31,085件 28.8% 欧州 13,810件 12.8% 中国 18,863件 17.5% 韓国 13,798件 12.8% 印度 1,483件 1.4% 台湾 7,457件 6.9% 合計 107,924件 注：2012年以降は、データベース収録の遅れやPCT出願の各国移行のずれ等により、全データを反映していない可能性がある。本
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願先国・地域別の特許登録件数推移及び登録件数比率を示す。 米国での登録が約 34%と最も多く、次いで日本での登録が約 20%と続く。中国での登 録は約 13％で第 4 位を占めている。調査期間を通して米国での登録件数が多く、次に 日本での登録件数が多い。 図 4-3 [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別登録件数推移及び登録件数比率 (4) [出願先：日米欧中韓印台] 出願人国籍・地域別出願件数推移及び出願件数比率 図 4-4 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾の各国・地域に関する、出 願人国籍・地域別の特許出願件数推移及び出願件数比率を示す。 出願人国籍・地域では、日本国籍が 30%を超えており、米国籍が 19.5%、韓国籍が 18.9%で続いている。日本国籍は、調査期間中 2012 年までは首位を維持しているもの の、近年は韓国籍の出願人による出願件数が増加しており、未確定な値ではあるもの の 2013 年では韓国籍が日本国籍を抜いて出願件数で首位となっている。 図 4-4 [出願先：日米欧中韓印台] 出願人国籍・地域別出願件数推移及び出願件数推移 (5) [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別－出願人国籍・地域別出願件数収支 図 4-5 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾の各国・地域に関する、出 願先国・地域別の出願人国籍・地域別特許出願件数収支を示す。 日本国籍、韓国籍及び台湾籍出願人が、米国及び中国への出願を中心に多くの出願 をしている。米国籍出願人も他国へ多く出願しているが、米国籍出願人の日本、韓国 日本 8,100件 20.3% 米国 13,670件 34.2% 欧州 3,027件 7.6% 中国 5,335件 13.3% 韓国 5,501件 13.8% 印度 1,345件 3.4% 台湾 3,007件 7.5% 合計 39,985件 出願年（優先権主張年） 798 763 800 1,035 1,143 1,223 1,002 751 379 206 1,203 1,146 1,244 1,533 1,983 1,876 1,775 1,504 1,128 278 554 470 389 367 345 293 246 171 158 34 601 652 640 844 971 794 473 264 85 11 479 540 618 692 713 659 532 538 479 251 105 124 129 182 169 241 169 125 71 30 270 331 257 413 413 343 285 381 261 53 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 注：調査時点において審査請求前や審査中の出願が存在するため、2013年に近づくにつれて件数が減少する。 7,783 7,445 8,027 9,616 11,387 11,842 11,808 13,689 15,197 11,130 0 2,000 4,000 6,000 8,000 10,000 12,000 14,000 16,000 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 3,000 3,500 4,000 4,500 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 出 願 人 国 籍 ・ 地 域 別 出 願 件 数 出願年(優先権主張年) 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 その他 合計 優先権主張 2004-2013年 出願人国籍・地域 合 計 出 願 件 数 日本国籍 34,120件 31.6% 米国籍 21,053件 19.5% 欧州国籍 7,556件 7.0% 中国籍 7,160件 6.6% 韓国籍 20,438件 18.9% 印度国籍 84件 0.1% 台湾籍 12,985件 12.0% その他 4,528件 4.2% 合計 107,924件 注：2012年以降は、データベース収録の遅れやPCT出願の各国移行のずれ等により、全データを反映していない 可能性がある。－ 22 －
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及び台湾への出願件数に対し、日本国籍、韓国籍及び台湾籍出願人の米国への出願件 数の方が多い。中国籍出願人の他国への出願件数は少なく、印度国籍出願人を除く各 国・地域籍出願人の中国への出願件数の方が多い。 図 4-5 [出願先：日米欧中韓印台] 出願先国・地域別 －出願人国籍・地域別出願件数収支 (6) [出願先：日米欧中韓印台] 出願人別出願件数上位ランキング 図 4-6 に、日本、米国、欧州、中国、韓国、印度、台湾に関する、出願人別の特許 出願件数上位ランキング（上位 30 位）を示す。 出願件数の 1 位と 2 位は韓国籍の出願人であるが、他の韓国籍出願人はランキング 外となっている。上位 30 位のランキング内に入った出願人の数では、日本国籍の 11 社が最多で、米国籍の 8 社、台湾籍の 5 社が続く。中国籍は 2 社がランキングに入っ ている。欧州国籍からはフィンランドのノキアが、その他の国籍からはカナダ国籍の ブラックベリーがランキングに入っているが、印度国籍の出願人はランキングに入っ ていない。 日本国籍 3,961件 21% 米国籍 2,627件 14% 欧州国籍 962件 5% 中国籍 5,254件 28% 韓国籍 2,435件 13% 印度国籍 3件 0% 台湾籍 3,234件 17% 2% 日本 国籍 1,680 件 12% 米国籍 1,680件 12% 欧州国籍 485件 4% 中国籍 60件 1% 韓国籍 9,538件 69% 印度国籍 2件 0% 台湾籍 156件 1% その他 197件 1% 日本国籍 2,515件 18.2% 米国籍 2,991件 22% 欧州国籍 3,267件 23.7% 中国籍 263件 1.9% 韓国籍 2,393件 17.3% 印度国籍 10件 0.1% 台湾籍 723件 5.2% その他 1,648件 11.9% 日本国籍 17,491件 82% 米国籍 1,690件 8% 欧州国籍 425件 2% 中国籍 258件 1% 韓国籍 921件 4% 印度国籍 2件 0% 台湾籍 531件 2% その 他 110件 1% 日本国籍 6,852件 22% 米国籍 10,270件 33% 欧州国籍 1,997件 7% 中国籍 997件 3% 韓国籍 4,641件 15% 印度国籍 27件 0% 台湾籍 4,387件 14% その他 1,914件 6% 日本 国籍 339件 米国 籍 519件 欧州 国籍 205件 中国 籍 31件 韓 国 籍 186 件 印度 国籍 40件 台 湾 籍 13 件 その 他 150件 日本国 籍 1,282件 米国籍 1,276件 欧州国 籍 215件 中国籍 297件 韓国籍 324件 印度 国籍 0件 台湾籍 3,941件 その他 122件 中国への出願 18,863件 韓国への出願 13,798件 欧州への出願 13,810件 日本への出願 21,428件 米国への出願 31,085件 1680件 1690件 2991件 2627件 4641件 921件 2393件 2435件 6852件 1680件 2515件 3961件 1997件 485件 425件 962件 997件 60件 258件 263件 優先権主張 2004～2013年 台湾への出願 7,457件 印度への出願 1,483件 339件 1282件 519件 1276件 205件 215件 31件 297件 186件 324 2件 27件 10件 3件 2件 0件 531件 4387件 723件 3234件 156件 13件本
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図 4-6 [出願先：日米欧中韓印台] 出願人別出願件数上位ランキング 第 4 節 中国への出願に関する全体及び技術区分別動向調査 1. 中国への出願に関する全体動向調査 (1) [出願先：中国] [特許] 出願人国籍・地域別出願件数推移及び出願件数比率 図 4-7 に、中国における出願人国籍・地域別の特許出願件数推移及び出願件数比率 を示す。 日本国籍出願人の特許出願は、調査期間開始時期の 2004 年以降 2007 年までは中国 への特許出願件数で首位を保っていたが、2007 年以降は特許出願件数が横ばいとなり 2008 年以降は中国籍出願人に特許出願件数首位の座を明け渡した。中国籍出願人の特 許出願件数は、2008 年に前年比 70%増という急増を見せたものの 2011 年までの特許出 願件数は横ばいであった。しかし、未確定な値ではあるが、2012 年には前年比 40%増、 2013 年には 23%増という急激な特許出願件数の増加を見せている。 順 位 出願人名称 出願 件数 1 三星電子(韓国) 8,857 2 LG エレクトロニクス（韓国） 5,821 3 ソニー 3,594 4 京セラ 3,247 5 ブラックベリー(カナダ) 3,178 6 鴻海精密工業（台湾） 2,855 7 パナソニック 2,792 8 アップル（米国） 2,555 9 ノキア（フィンランド） 2,268 10 日本電気 2,225 11 富士通 2,074 12 シャープ 2,063 13 マイクロソフト(米国) 1,903 14 東芝 1,777 15 ソニーモバイル 1,687 16 カシオ計算機 1,605 17 クアルコム(米国) 1,498 18 HTC（台湾） 1,439 19 ウィストロン (台湾) 1,127 20 レノボ（中国） 1,060 21 モトローラ（米国） 1,019 22 ヒューレット－パッカード(米国) 895 23 奇美電子（台湾） 871 24 インテル(米国) 868 25 深圳富泰宏精密工業（中国） 866 26 セイコーエプソン 837 27 日立ディスプレイ 787 28 ASUS（台湾） 734 29 グーグル(米国) 644 30 インプレッション（米国） 635 日米欧中韓印台への出願－ 24 －
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図 4-7 [出願先：中国] [特許] 出願人国籍・地域別出願件数推移及び出願件数比率 (2) [出願先：中国] [特許] 出願人国籍・地域別登録件数推移及び登録件数比率 図 4-8 に、中国における出願人国籍・地域別の特許登録件数推移及び登録件数比率 を示す。 図 4-7 に示した、中国における出願人国籍・地域別の出願件数推移及び出願件数比 率と同様に、登録件数は、日本国籍出願人が 2007 年まで首位であったが、2008 年以 降、中国籍出願人が首位となった。 図 4-8 [出願先：中国] [特許] 出願人国籍・地域別登録件数推移及び登録件数比率 (3) [出願先：中国] [実用新案] 出願人国籍・地域別登録件数推移及び登録件数比率 図 4-9 に、中国における出願人国籍・地域別の実用新案登録件数推移及び登録件数 比率を示す。 中国籍の出願人が登録件数の 90%以上を占めている。 853 984 1,032 1,277 1,551 1,482 1,542 1,860 2,233 1,688 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 0 100 200 300 400 500 600 700 800 900 1,000 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 出 願 人 国 籍 ・ 地 域 別 出 願 件 数( 件) 出願年(優先権主張年) 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 その他 合計 優先権主張 2004-2013年 出願先国・地域 合 計 出 願 件 数 （ 件 ） 日本国籍 3,053件 21.1% 米国籍 1,833件 12.6% 欧州国籍 959件 6.6% 中国籍 4,642件 32.0% 韓国籍 1,805件 12.4% 印度国籍 6件 0.0% 台湾籍 1,900件 13.1% その他 304件 2.1% 合計 14,502件 注：2012年以降は、データベース収録の遅れやPCT出願の各国移行のずれ等により、全データを反映していない 可能性がある。 出願年（優先権主張年） 出 願 人 国 籍 ・ 地 域 日本国籍 978件 22.2% 米国籍 641件 14.5% 欧州国籍 182件 4.1% 中国籍 1,195件 27.1% 韓国籍 532件 12.1% 印度国籍 1件 0.0% 台湾籍 778件 17.6% その他 105件 2.4% 141 107 101 152 150 142 92 53 36 4 79 53 49 69 69 68 102 91 57 4 21 23 21 18 23 20 25 20 10 1 34 69 71 104 259 278 191 111 68 10 76 69 64 46 58 51 55 49 49 15 1 8 70 46 112 113 70 48 154 133 24 15 11 8 14 18 6 14 11 6 2 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 その他 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 優先権主張：2004年-2013年 注：調査時点において審査請求前や審査中の出願が存在するため、2013年に近づくにつれて件数が減少する。本
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図 4-9 [出願先：中国] [実用新案] 出願人国籍・地域別登録件数推移及び登録件数比率 2. 中国への出願に関する技術区分別動向調査 本項では、技術区分の端末種別、端末形状、課題軸、構造・製法・材料等の特徴軸、 部品軸の 5 つの内、端末種別、課題軸の特許出願件数、登録実用新案件数の推移を示す。 (1) [出願先：中国] [特許] 技術区分別（端末種別）出願件数推移 図 4-10 に、中国への出願の技術区分別（端末種別）特許出願件数推移を示す。 2006 年以降、スマートフォンに関する出願が最多の特許出願件数となっている。 図 4-10 [出願先：中国] [特許] 技術区分別（端末種別）出願件数推移 (2) [出願先：中国] [特許] 技術区分別（課題軸）出願件数推移 図 4-11 に、中国への出願の技術区分別（課題軸）特許出願件数推移を示す。 調査期間中一貫して、操作性向上に関する特許出願が最も多い。 出願年（優先権主張年） 出 願 人 国 籍 ・ 地 域 日本国籍 87件 1.2% 米国籍 76件 1.0% 欧州国籍 11件 0.1% 中国籍 6,773件 92.1% 韓国籍 60件 0.8% 印度国籍 0件 0.0% 台湾籍 328件 4.5% その他 19件 0.3% 1 1 1 7 13 18 32 14 1 4 9 6 5 8 26 8 9 1 3 7 62 263 408 512 666 823 1,051 1,465 1,523 3 3 18 13 10 8 5 42 94 48 80 24 3 11 17 9 4 2 5 3 5 日本 米国 欧州 中国 韓国 印度 台湾 その他 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 優先権主張：2004年-2013年 1,034 1,393 1,496 1,991 2,322 2,359 2,768 3,287 3,856 2,601 0 500 1,000 1,500 2,000 2,500 3,000 3,500 4,000 4,500 0 200 400 600 800 1,000 1,200 1,400 1,600 2004年 2005年 2006年 2007年 2008年 2009年 2010年 2011年 2012年 2013年 出願年(優先権主張年) 合 計 出 願 件 数 技 術 区 分 別 出 願 件 数 スマートフォン タブレット ノートPC ウェアラブル端末 フィーチャーフォン その他の情報端末 合計 優先権主張 2003-2014年 優先権主張 2003-2014年 端末種別 注：2012年以降は、データベース収録の遅れやPCT出願の各国移行のずれ等により、全データを反映していない可能性がある。－ 26 －
