ReleaseNotes ZOS16 5 Japanese

ー

ー

1

目次

2

概要

... 3

3

ン

適用

... 4

3.1

2

段階

手順

ー

ン

移行

(

ー

ン

) ... 4

3.2

ン

自動更新

(

ー

ン

) ... 5

3.3

新

い

ー

ー

ー

(

ー

ン

) ... 6

4

解析

... 7

4.1

ン

ー

ン

MTF

計算

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL) ... 7

4.2

ZRD

固定光線

適用

文

列

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL) ... 8

4.3

固定光線

適用

文

列

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL) ... 9

4.4

ン

機能

強化

(PREMIUM) ... 10

4.5

[

光束

波長

比較

] (Flux vs. Wavelength)

ー

ン出力

ー

(PREMIUM

び

PR

OFESSIONAL) ... 12

4.6

ン

計算

ー

ー

相基準

制御

(

ー

ン

) ... 13

5

各種

ー

... 15

5.1

機械的半径

CAD

ー

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL)... 15

5.2

ン

新

い更新設定

(

ー

ン

) ... 16

5.3

ン

ー

新

い描画解像

(

ー

ン

) ... 17

5.4

ン

ン

ー

ン

ー

ン

変換

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL)... 17

6

最適化

... 17

6.1

効半径

ン

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL) ... 17

7

ー

ー

... 18

7.1

BERNHARD HALLE

新規在庫

ン

(

ー

ン

) ... 18

7.2

Nikon

新規材料

(

ー

ン

) ... 19

7.3

HOYA

材料

更新

(

ー

ン

) ... 19

7.4

NHG

材料

更新

(

ー

ン

) ... 19

7.5

Ohara

材料

更新

(

ー

ン

) ... 20

7.6

Zeon

材料

更新

(

ー

ン

) ... 20

8

ン

... 20

8.1

ZOS-API

対

型拡張機能

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL) ... 20

3

© a, 6. All Rights Reserved.

9

ー

ー

ン

ー

び操作性

... 23

9.1

解析

ン

更新

(

ー

ン

) ... 23

9.2

半径基準

更新

(

ー

ン

) ... 23

9.3

ン

ー

改良

(

ー

ン

) ... 23

10

修正

... 24

2

概要

OpticStudio 16.5 光学系 照明 設計 うえ 技術者 研究者 学者 学生 必須

最新 ー ン 当社 最新 ー 迷光 ン 扱う 新機能 OpticStud

io 迅速 容易 使用 う 操作性 改善 入 い 内容 以

光線追跡 - OpticStudio 16.5 各種 迷光解析 ー 新 追加 い ー 使用

光学系 不要 光線 特定 遮断 新 い ー 迷光解析 容易 一貫性

正確 優 結果 迅速 得 えば 機械的 付 部 影響 直接測定 定 化

要 光線 迅速 うえ 新 い ZRD 設定 使用 調査対象 特定 光線

光線 ー ー 選択 新 い 文 列 指定 光線 本数 制限

ー ー 迷光 光路 一貫性 あ 方法 迅速 表示

ン - 燐光材料 蛍光材料 化機能 OpticStudio 15 入 い OpticStudi

o 16.5 機能 拡張 幅広い燐光材料 蛍光材料 化 う い 新

い ン ー粒子 密 設定 使用 角 均一性 向 角 色 変化 効

果 減 い ン 均自由光路長 設定 燐光材料 蛍光材料 色温

変更

操作性 - OpticStudio 16.5 解析 ン ン ン 速 速く ー 視性 改善

い 設定 変更 場合 結果 ー 迅速 表

示 2 段階 簡単 手順 実行 2 ン ー 間 ー ン

移行 OpticStudio 16.5 新 Bernhard Halle ン Nikon 材料 追

加 NHG Ohara Zeon Hoya 各材料 更新 い

OpticStudio Standard Professional び Premium 各 ー ン 用意 い 機

能 利用 ー ン 注記 い OpticStudio 各 ー ン 細 い 当社

3

ン

適用

3.1

₂

段階

手順

ー

ン

移行

(

ー

ン

)

2 ン ー 間 ー ン 移行 う 簡潔 ワー ー 入 い

ン ー ー ー ン 移行 3 段階 手順 必要 うえ ン い ン

ー 側 移行 開始 必要 あ 新 い移行 2 段階 手順 簡素化 い

1. ン 現在適用 い ン ー ン 処理 送 出

2. ン 新 い ン ー 適用

1 番目 手順 開始 ン 現在置 い ン ー Zemax License Manager (ZL

M) 起動 ZLM <C:\Program Files\Zemax OpticStudio> <C:\Program Files\Zemax License Ma

nager> 起動 [ ン 情報] (License Information) 移動 う 1 ン ー 移行

ン 探 出

[移行] (Transfer Away) ン 電子 ー 入力 求 指定

ン 移行 ー 送信 新 い ン ー 移行 ー 容易 使用

5

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2 番目 手順 新 い ン ー ン 適用 手順 実行 新 い ン ー

Zemax License Manager 起動 [新 い ー] (New Key) 移動 移行 ー 当 ー

貼 付

[ ン 適用] (Apply License) ン 新 い ン ー ン 適用

ー ン 購入 関 質問や ー ー ン ー ン 交換 い

Zemax 営業担当 (japan@zemax.com) 問い合わ く い

3.2

ン

自動更新

(

ー

ン

)

OpticStudio ン ー ン ン ン 効期限 自動的 更新 う 最新

ン 情報 OpticStudio ー 担当 確保 う い

OpticStudio ー ン ン 変更 ー ン 情報 手動 更新

必要 あ ン 変更 間 ン ン ン ( ー ン) 更新 OpticStud

io ー ン ー ワー ン ー 追加 いい 現在

変更 Zemax License Manager 自動的 検出 ン 情報 自動的 更新 う い

更新 無 Zemax License Manager 毎日 指定 頻 確認 頻 OpticStud

io [ 環境設定] (Project Preferences) [更新 確認] (Check for Updates) 設定 指定

[更新 確認] (Check for Updates) 設定 OpticStudio [設定] (Setup) → 環境設

定] P c P c → 全般] (General) あ ン 情報 確認 OpticStudio

[ ] (Help) → a い ] (About) 選択

3.3

新

い

ー

ー

ー

(

ー

ン

)

OpticStudio 16.5 新 緑色 ( ン ー ー) 赤色 ( ワー ン ) ン

ー ー ン 入 い 新 い ー 従来 黒い ー ー ー

回 利点 あ

緑色 赤色 ー ー 組 込 い ン ー 簡素化

い 新 い暗号化 ー 強化 い

Zemax License Manager 新 い ー ー ー 同 形式 表示 ワー

利用 ン ー ン ー い ン 同 ー ン

管理

最後 新 い ー 物理的 長 25% 短く い 保管 容易 ほ ン ー US

B ー 破損 能性 少 く い

新 い ー ー ン 購入 関 質問や 従来 黒い ー ー ン 新 い緑色 赤色

ー ー ン 交換 方法 い Zemax 営業担当 (japan@zemax.com) 問い合わ

7

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4

解析

4.1

ン

ー

ン

MTF

計算

(PREMIUM

び

PROFESSIONAL)

変調伝遉関数 (MTF) ン 光学系 性能 記述 広く使用 い 様 OpticStudio

ー ー ン ー MTF 計算 ン ー ン ー 計算

OpticStudio 16.5 ン ー ン ー (矩形) MTF 新 計算

う い 計算 (矩形) 放射照 空間 布 使用 X

軸方向 Y 軸方向 MTF 求 ン ー ン MTF 計算

到遉 ン ー ン 光線 使用 光線 割 散乱 迷光 機械部品

(矩形) 表示 ー [表示方法] (Show As) ン ー ン MT

F 計算機能 用意 い 設定 使用 ン ー ン MTF 計算

結果 ー ン MTF 計算結果 比較 1 光源 光線

設定 一 抽出 ー 設定

MTF 計算 最大空間周波数 指定 最大空間周波数 0 設定

基 く 周波数 最大空間周波数 X 方向 Y 方向 寸法 異 場合

いほう 周波数 使用

4.2

_ZRD

固定光線

適用

文

列

(PREMIUM

び

PROFESSI

ONAL)

ン ー ン 光線追跡 際 以降 解析 使用 う 光線 交差 ー Zemax 光線 ー

ー (ZRD) 保 光線追跡 1 回 得 ー ZRD 保

ー 対 解析 実行 ほう 便利

ZRD 多く 光線 い わ 大 い 普通 光線 ー

ー ー や光路解析 ー ZRD 解析 困 解決方法 特定 条

件 合致 光線 抽出 文 列 使用 特定 光線 関連 ー 表示 前

光線 合致 必要 あ 文 列 定義 文 列 ン 光線

ン 到遉 う 示 び到遉 い 場合 間

発生 ン 射 屈折 散乱 回折 ー 射 い あ 示 間 実行 論

理演算 構成

OpticStudio 16.5 解析対象 光路 正確 光線本数 両方 選択 文 列 新 追加

い ン 次

{#( 文 列 指定 光線 本数)} (複合 文 列)

えば 文 列 {#50} (H5 & M6) 指定 5 到遉 6 到遉

9

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ZRD 中 条件 合致 光線 50 本未満 場合 新 い 文 列 何 効果 あ

光路解析 ー 光線 ー ー ー 表示 光線 本数 制限 場合 文 列

特 効果的

4.3

固定光線

適用

文

列

(PREMIUM

び

PROFESSIONA

L)

OpticStudio 16.5 3D ー ー ー 特定 光線 光路 迅速 効率

的 表示 文 列 新 追加 い ( 文 列 細 4.2 節 参照 く い) 光線

散乱 割 効 3D ー ー ー 煩雑 表示 多い

場合 機能 わ 効果的

OpticStudio ー 光線 本数 文 列 指定 い

文 列 3D ー ー ー 描画 光線 本数 制限

OpticStudio 16.5 新 い 文 列 3D ー ー ー 表示

光路 正確 光線本数 両方 指定 ン 次

{#( 文 列 指定 光線 本数)} (複合 文 列)

えば 文 列 {#50} (H5 & M6) 指定 5 到遉 6 到遉

い 50 本 光線 描画

条件 合致 光線 50 本未満 場合 新 い 文 列 ー ー 何

効果 示

4.4

ン

機能

強化

(PREMIUM)

ン 光学的 活性 持 特定 子 光 吸 ン ン ー 吸 光

長い波長 光 再放出 特性 OpticStudio 使用 ン

化 ン 散乱 ン 発生確率 求 必要

ー 均自由光路長 計算値 ン OpticStudi

o 15.0 入 機能 ン ー ン [ ] (Object Properties) [体積特性]

(Volume Physics) 設定 均自由光路長 波長 依 い ー散乱 密接 関

連 い

OpticStudio 16.5 ン 機能強化 進 ー散乱 波長

い 以 幅広い燐光材料 蛍光材料 正確 ー

う い う 材料 散乱 発生 い親材料 中 ン 発生 材料 あ

新 い ン 機能 均自由光路長設定 使用 燐光材料 蛍光材料 色温 変

更 ー粒子密 対 新 い設定機能 使用 角 均一性 向 角

11

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ン ー ン ー 新 い ン 適用 [

] (Object Properties) 開 [体積特性] (Volume Physics) [蛍光体 蛍光] (Phosphors and Fluore

scence) ン 選択 ン 基本 標準 2 種類 あ

基本 OpticStudio 15.0 入 ン あ 互換性

ー 目的 用意 い 標準 新 い機能強化 追加 い あ ゆ

状況 標準 使用 勧

[蛍光体 蛍光] (Phosphors and Fluorescence) ン 体積 燐光 振 舞い 制御 ン 蛍

光 振 舞い 制御 ン 2 い [ ン ー ] (Photoluminescence

Data) ン [ ー散乱] (Mie Scattering) 設定 [ 均自由光路長] (Mean Free Path) 設

定 あ 設定 ン 発生 均光路長 ン 指定 値

波長 依 同様 [ ー散乱] (Mie Scattering) 独立 [ 均自由光路長] (Mean Free Pat

h) [粒子密 ] (Particle Density) 設定 あ [ 均自由光路長] (Mean Free Path) 設定

[粒子密 ] (Particle Density) 値 基 い 均光路長 計算 ン ー

散乱 均光路長 独立 設定 散乱発生源 非散乱発生源 親材料 い

埋 込 燐光体 蛍光体 以 く 化 う

ン 材料 中 光線 伝搬 発生 現象 4 種類 考え わ

う 光線 ー 散乱 ン 再放射 い吸 い 発生 何 発生

う 現象 発生 以 ー ー 断

次

式

成立

Ltot 均自由光路長 合計

LMie ー散乱 均自由光路長

LPL ン 均自由光路長

A 入力波長λ 吸 係数

散乱 種類 0 1 間 均一 発生 乱数 r 生成 選択 r < Ltot/LPL あ ば 光

線 ン 発生 以外 ー 散乱 発生 入力波長 励起

値 い場合 光子 再放射 場合 波長 放射 ン 得

励起 値 場合 非放射 光子 失わ 場合 光線 終端

光線 ン 発生 終端 場合 入射光線 方向 関係 く 全球方向 ン

光線 再放射

光線 ー 散乱 発 生 場合 光線 特定 方向 散乱 確率 ン く ー ー

決

4.5

_[

光束

波長

比較

] (Flux vs. Wavelength)

ー

ン出力

ー

(PRE

MIUM

び

PROFESSIONAL)

[光束 波長 比較] (Flux vs. Wavelength) 解析 ー 放射測定単 (ワ ) 測光単 ( ー ン)

報告 う 単 ー 光源 単 設定 基 い 自

動的 選択

新 い測光単 使用 ン ー ン 開 ー [単 ] (Un

its) ン 移動 [光源 単 ] (Source Units) [Lumens] 変更 [解析] (Analyze) →光

線追跡解析] (Raytrace Analysis) [光束 波長 比較] (Flux vs. Wavelength) ン 開 光束 単

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4.6

ン

計算

ー

ー

相基準

制御

(

ー

ン

)

OpticStudio 16 ン PSF 構成 球面 ー 基準 新 入 機能

光線 ー 回折 計算 光学系 範 大幅 広 えば 構成 回折面や

面 扱う 以 左 車 ー ー 表示 ン ー ン ー 生成

(CGH) 相 右 球面 ー 基準 使用 得 ン PSF 計算

結果

OpticStudio 16.5 一歩踏 込 処理 能 ン 相 基準 面 球面 自

動 手動 選択 う い 設定 ー [ 細] (Advanced)

[ ン 積 計算方法] (Method to Compute Huygens Integral) 選択 ン 積 計算

射出瞳 相基準 使用 決 設定 ン PSF 解析 出力 く

部 的 ン 積 基 く 計算 影響 う 計算 ン MTF 回折 ン

ー ー ー結合 解析 あ DENC DENF FICL MTHA MTHS MTHT

STRH いく 評価関数 ン 影響 ( 中 特定 設定 ン 積

使用 あ )

計算手法 [自動] (Auto) 設定 ン 積 計算 相基準 使用 OpticStudio 側

制御 基準 像面 射出瞳 距 波長 び像 考慮 決

設定

計算手法 [ 面 強制] (Force Planar) 設定 ン 積 計算 必 面 相基準 使用

射出瞳 像面 伝播 面波 使用 像面 点 波面 影響 ー ン 加算

射出瞳 像面 距 短い光学系 基準 使用 球面 相基準 使

用 い

計算手法 [球面 強制] (Force Spherical) 設定 ン 積 計算 必 球面 相基準

使用 射出瞳 像面 伝播 球面波 使用 像面 点 波面 影響 ー ン

加算

ー [ ー] (Aperture) ン [Afocal Image Space] (Afocal Image Space)

選択 い 場合 [ ン 積 計算方法] (Method to Compute Huygens Integral) 自動的 [ 面

強制] (Force Planar) 設定 ー 結像光学系 使用 基準 面 あ

最後 ン 積 相基準 制御 ン ー ン ン MCHI

追加 い 自動的 基準 設定 う 0 強制的 面 基準 使用 1 強制

15

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5

各種

ー

5.1

機械的半径

CAD

ー

(P

REMIUM

び

P

ROFESSIONAL

)

OpticStudio 16 回転対称面 使用 現実的 機械的半径 入 い 機械的半径 伴

い ン ー [ ーン] (Chip Zone) [機械的半径] (Mechanical Semi-Diameter) いう 2

新 い ー 入 い

[ 効半径] (Clear Semi-Diameter) [ ーン] (Chip Zone) び [機械的半径] (Mechanical Semi-Diamet

er) 設定 ン 広く使用 い CAD ー ー や機

械設計 使用 面や OpticStudio CAD ー [ ] (F

ile) → ] (CAD Files) 移動

[ 効半径] (Clear Semi-Diameter) [ ーン] (Chip Zone) び [機械的半径] (Mechanical Semi-Diame

ter) 細 い 9.2 節 参照 く い

5.2

ン

新

い更新設定

(

ー

ン

)

ー や ー ー 光学系 表示 更新 際 以 高速

UI 応答 得 う 新 い設定 追加 新 い設定 ン

更新 開い い 解析 ン 再計算 実行 い 光学系 発生 変更点 迅

速 確認

新 い設定 使用 [設定] (Setup) → 環境設定] P c P c →

] (Editors) 設定 移動

[ 環境設定] (Project Preferences) [自動更新] (Auto Update) 設定 新 い ン

環境 設定 設定 ン ー ー ー ン ー ン ン ー ン

ー ー ン ー ン ー ー ー あ

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5.3

ン

ー

新

い描画解像

(

ー

ン

)

ー ー ー 個々 ー ン 面 解像 う

新 い設定 追加 新 い設定 あ [描画解像 ] (Drawing Resolution) ン ー

[面 ] (Surface Properties) 描画 ン あ 設定 面 表示 際 解

像 制御 [標準] (Standard) [中] (Medium) [高] (High) [ ン ー ン] (Presentation)

選択

5.4

ン

ン

ー

ン

ー

ン

変換

(P

REMIUM

び

P

ROFESSIONA

L

)

OpticStudio NSC 変換 ー 用意 い ー ン ー

あ 一定範 ー ン 面 ン ー ン ン ー ン 面 新 い ン ー ン

光学系 置い 3D ー 変換

NSC 変換 ー ー ン ン ン ー面 ン ー ン 変換

う 拡張 い 変換 ー [ ] (File) あ

6.1

効半径

ン

(P

REMIUM

び

P

ROFESSIONAL

)

OpticStudio ン ー 面 [ 効半径] (Clear Semi-Diamieter) [機械的半径] (Mechani

cal Semi-Diameter) 両方 使用 厚 半径 体積 び質 表示 最適化

う 柔軟性 向 ン ン や最適化 必要 面や ン 領域 選択 う

い

[ 効半径] (Clear Semi-Diamieter) [機械的半径] (Mechanical Semi-Diameter) 選択

ン ン 径 ン 新規 ー 入力 使用 OpticStudio

ン ン [最適化] (Optimize) 開く ン ン 径

ン 機械的半径 置 評価 ー 設定 0 使用 効半径

置 ン 評価 ー 設定 1 変更

効半径 機械的半径 選択 ー 入力 指定 最適化 ン 以

 DMGT

 DMLT

直径 以 く い値

直径 以 大 く い値

 XNEA

 XXEA

所定範 あ 空気 最 厚

所定範 あ 空気 最大 厚

 DMVA 直径 指定 必要 あ 値  BLTH ン 厚

 CVOL

 MNDT

ン 体積

直径 厚 比率 最 値

 ETVA

 ETGT

厚 指定 必要 あ 値

厚 以 薄く い値

 MXDT

 MNET

直径 厚 比率 最大値

厚 最 値

 ETLT

 TTVA

厚 以 厚く い値

合計厚 指定 必要 あ 値

 MXET 厚 最 値  TTGT 合計厚 以 薄く い値

 MNEG

 MXEG

最 厚

最大 厚

 TTLT

 FTLT

合計厚 以 厚く い値

全厚 以 厚く い値

 MNEA

 MXEA

空気 最 厚

空気 最大 厚

 FTGT

 STHI

全厚 以 薄く い値

面 厚

 XNET

 XXET

所定範 あ 最 厚

所定範 あ 最大厚

 SSAG

 TMAS

面

合計質

 XNEG 所定範 あ 最 厚  VOLU ン 体積

 XXEG 所定範 あ 最大 厚

7

ー

ー

7.1

_{BERNHARD HALLE}

新規在庫

ン

(

ー

ン

)

19

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[ ] (Libraries) ン ー あ ン あ

7.2

_Nikon

新規

材料

(

ー

ン

)

Nikon 新 い材料 追加

[ ] (Libraries) ン ー あ 材料 あ

7.3

_HOYA

材料

更新

(

ー

ン

)

Hoya 更新済 材料 追加

[ ] (Libraries) ン ー あ 材料 あ

7.4

_NHG

材料

更新

(

ー

ン

)

[ ] (Libraries) ン ー あ 材料 あ

7.5

_Ohara

材料

更新

(

ー

ン

)

Ohara 更新済 材料 追加

[ ] (Libraries) ン ー あ 材料 あ

7.6

Zeon

材料

更新

(

ー

ン

)

Zeon 新 い材料 追加

[ ] (Libraries) ン ー あ 材料 あ

8

ン

8.1

ZOS-API

対

型拡張機能

(P

REMIUM

び

P

ROFESSIONAL

)

OpticStudio ー ン ン ン ー (ZOS-API) 最新

使用 OpticStudio 接続や OpticStudio 能

新 い対 型拡張機能 使用 OpticStudio 開い い ン ン MATLAB や Python

21

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開い い ン 直接作業 ン 行単 実行 行 効果

確認

えば OpticStudio 新 い対 型拡張機能 接続 MATLAB 拡張機能 作成 [ ン

] (Programming) → T ] → 対 型拡張機能] (Interactive Extension) 移動

OpticStudio 接続 ー ー ー 記述 MATLAB 新 い 開 [ ン

] (Programming) → 対 型拡張機能] (Interactive Extension) OpticStudio 新 い対 型拡張機能

ー 起動 開 実行 い OpticStudio ン ン ン ン ID 表

示 OpticStudio ン ン 2 以 実行 い 場合 う 特定 ン ン (1

2) MATLAB 接続

MATLAB 実行 [実行] (Run) ン ン ン 目的

実行 ン ン ン ン 番号 (1 2) 括弧 中 記述 目的 Optic

Studio ン ン 指定 ZOSAPI_Application 関数 返 ConnectionMo

de Extension あ 表示 OpticStudio 側 対 型拡張機能 接続済 あ

8.2

ZOS-API ZRDR

EADER

ー

改善

(P

REMIUM

び

P

ROFESSIONAL

)

OpticStudio ー ン ン ン ー (ZOS-API) 使用 ZRD 処理

高機能 手順 用意 新 手順 C# .dll 使用 光線 ー 複数

MATLAB 一 読 込 効率面 不利 while ー 使用 MATLAB ZRD

処理 30 程 要 い 方法 C# 処理時間 同等 通常

5 以

23

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9

ー

ー

ン

ー

び操作性

9.1

解析

ン

更新

(

ー

ン

)

OpticStudio 解析 ン 使用 ー 更新 解析 ン

処理速 総合的 機能性 向 い

9.2

半径基準

更新

(

ー

ン

)

OpticStudio ー ー ン ー 半径基準 記述 更新 効半径

ーン び機械的半径 相遊 明白

効半径 光線 通過 面 効口径 対応 い 単 半径 い

ーン 面 効半径 曲率 続く緩衝領域 領域 ー ン 領域 終了 部

普通 厳 い公差 要求

機械的半径 面 付 定義 使用 径 使用 坦 ン や曲

部 持 ン 容易 ン 追加

9.3

ン

ー

改良

(

ー

ン

)

要 計算 多く ン ー 大幅 改善 実行速 堅牢性 向 い 改良

ン ー 以 領域 使用 い

 ー ン ー び ー 各最適化機能 ( ー ン)

 ン PSF 計算 ( ー ン)

 FFT 計算 ( ー ン)

 物理光学伝搬 (PREMIUM び PROFESSIONAL)

 公差解析 ( ー ン)

 ン ー ン 光線追跡 (PREMIUM び PROFESSIONAL)

10

修正

OpticStudio 16.5 以 修正 適用 い

ー ン 光線追跡 :

 面 ー 曲面 ー 裏面 ー ン 光線 到遉 ー

ー 警告 設定 う 光学系 各視 点 各波長 対象

確認 実行

解析 :

 複数 ン ー ン 対 ー 加算 減算 実行 場合 偏光瞳

透過率出力 発生 い 問題 修正

 偏光 い い入力 偏光結果 生成 物理光学 伝搬 指定 互い 直交 偏光

持 2 本 ー 伝搬 計算結果 均値 返 均 ー ー

ー ー 確認 う

 標 ー 面 使用 90 設定 場合 物理光学伝搬 発生 い 問題 修正

ン ー 面 対 [ / ン ] (Tilt/Decenter) ン ー

使用 設定 場合 問題 発生

 複数 波長 使用 光学系 視 対 MTF (FFT ン び幾何光学) 解析 実

行 波長 出力 最後 波長 出力 表示 い

問題 修正

ン ー ン 光線追跡 :

 複屈折媒体 中 進 異常光線 吸 損失 異常 (-E) 材料 記述 透過率

ー 正 く計算 う

ン :

 ン ン ン ー 光線 初期波長 保 関連 問題 修正

 波長 4 以 ン 発光 補間 発生 い

問題 修正

 ン 材料内部 ー散乱 経 光線 散乱 布 ー散乱 経 最初 光線

波長 正 く基 い 散乱 現在散乱 い 光線 波長 正 く基 い 散乱

い問題 修正

ン :

 ー ン ー OpticStudio ー ー定義 面 間 渡 FIXED_DATA5 構造体

追加 構造体 使用 ー ー 構造体 param ン